[發(fā)明專利]環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉及使用其的衛(wèi)生陶瓷的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110279630.7
• 申請日: 2021-03-16
• 公開（公告）號: CN113149440B
• 公開（公告）日: 2023-02-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 謝煒;陳家弟
• 申請（專利權(quán)）人: 箭牌家居集團(tuán)股份有限公司;韶關(guān)市樂華陶瓷潔具有限公司
• 主分類號: C03C8/20
• 分類號: C03C8/20;C03C8/04;C03C1/04;C03C1/00;C04B41/89
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 胡楓;李素蘭

1.環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉，其特征在于，按重量百分比計(jì)算，包括以下原料：長石15～32%、石英20～27%、方解石10～20%、硅酸鋯8～15%、高嶺土5～12%、富氧稀土0.5～3%、熔塊8～10%、氧化鋅0.2～2%、白云石0.2～2%和硅灰石0.2～2%；

所述富氧稀土包括以下化學(xué)組分：二氧化硅45～48%、二氧化釷20～25%、二氧化鈰2～3.5%、三氧化二釹0.8～1.6%、三氧化二鋁0.2～0.5%、氧化鈣0.1～0.23%、氧化鉀0.08～0.13%、二氧化鈦 0.5～1.2%、五氧化二磷0.5～0.9%、三氧化硫0.1～0.13%、三氧化二鑭0.6～0.75%、氧化鐠0.1～0.3%、氧化釤0.1～0.3%、二氧化鋯0.08～0.16%和燒失量22～26.5%；所述硅酸鋯和所述富氧稀土的總添加量≤12%；

按重量百分比計(jì)算，所述熔塊包括以下化學(xué)組分：三氧化二鋁6.5～12.5%、二氧化硅62.5～68%、三氧化二鐵0.1～0.26%、氧化鈣12.5～16.5%、氧化鎂3～5%、氧化鉀2.4～3%、氧化鈉4.2～5.2%、二氧化鈦0.4～0.85%、氧化鋅1.5～1.9%、三氧化二硼1.65～2%和燒失量0.02～0.08%。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉，其特征在于：所述熔塊的熔融溫度是1000～1100℃。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉，其特征在于，按重量百分比計(jì)算，包括以下原料：長石27%、石英24%、方解石15%、硅酸鋯10%、高嶺土10%、富氧稀土2%、熔塊9%、氧化鋅1%、白云石1%和硅灰石1%。

4.衛(wèi)生陶瓷的制備方法，其特征在于：采用如權(quán)利要求1～3任意一項(xiàng)所述的環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉，包括以下步驟：

A、按配比稱取環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉的原料，并加水進(jìn)行混合，得到混合料；

B、在混合料中加入羧甲基纖維素鈉Ⅰ進(jìn)行一次研磨，得到研磨料；

C、在研磨料中加入羧甲基纖維素鈉Ⅱ進(jìn)行二次研磨，過篩得到環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉；

D、將基礎(chǔ)乳濁釉噴涂在衛(wèi)生陶瓷坯體的表面，將環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉噴涂在基礎(chǔ)乳濁釉的表面，獲得有釉衛(wèi)生陶瓷；

E、將有釉衛(wèi)生陶瓷進(jìn)行烘干和燒制，獲得衛(wèi)生陶瓷。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的衛(wèi)生陶瓷的制備方法，其特征在于：按重量百分比計(jì)算，所述羧甲基纖維素鈉Ⅰ的加入量為所述環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉的原料總量的1～2‰，所述一次研磨的研磨時(shí)間為14～16小時(shí)；

按重量百分比計(jì)算，所述羧甲基纖維素鈉Ⅱ的加入量為所述環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉的原料總量的4～5‰，所述二次研磨的研磨時(shí)間為4～6小時(shí)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的衛(wèi)生陶瓷的制備方法，其特征在于：所述基礎(chǔ)乳濁釉的噴涂厚度為0.35～0.45mm，所述環(huán)保型負(fù)離子乳濁釉的噴涂厚度為0.25～0.35mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的衛(wèi)生陶瓷的制備方法，其特征在于：所述衛(wèi)生陶瓷的燒制溫度為1150～1200℃。