[發(fā)明專利]一種倒封裝器件單粒子評估方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110277632.2 | 申請日: | 2021-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN113109645B | 公開(公告)日: | 2023-06-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 焦強(qiáng);芮二明;劉文寶;張偉;鄭宏超 | 申請(專利權(quán))人: | 中國航天標(biāo)準(zhǔn)化研究所 |
| 主分類號: | G01R31/00 | 分類號: | G01R31/00 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 任林沖 |
| 地址: | 100071*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 封裝 器件 粒子 評估 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種倒封裝器件單粒子評估方法,包括:樣品準(zhǔn)備;試驗裝置安裝調(diào)試;選擇離子能量;確定離子到達(dá)有源區(qū)時的有效LET和射程,如果到達(dá)有源區(qū)有效,LET值滿足試驗所要的LET值要求,則采用直接輻照方法開始輻照,否則按照一定原則,選擇如下輻照方法:襯底減薄;正封裝替代;敏感區(qū)評估;局部裸露制樣;鍵合封裝制樣;單元庫推導(dǎo);離子輻照:按試驗方案要求,選擇合適的離子,進(jìn)行輻照;效應(yīng)檢測;繪制單粒子事件截面與入射離子有效LET值的關(guān)系曲線。本發(fā)明提出七種評估方法,適應(yīng)各類倒裝焊器件特點(diǎn),可以對宇航用倒裝焊器件的單粒子效應(yīng)做出評價,服務(wù)于航天型號,解決宇航倒裝焊器件單粒子評估方法缺失問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種倒封裝器件單粒子評估方法,屬于電子元器件可靠性技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
隨著航天技術(shù)的發(fā)展,重點(diǎn)型號用電子元器件向小型化、高精度和系統(tǒng)集成的方向發(fā)展,這些高端復(fù)雜器件對集成電路封裝技術(shù)也提出了更高的要求。倒裝焊封裝工藝具有高密度、高性能、高可靠的特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于宇航用CPU、宇航用FPGA、宇航用DSP等高性能集成電路的封裝工藝中。
通過近些年的研究表明,倒裝焊器件的輻射試驗方法與常規(guī)正封裝器件相比,在總劑量、位移損傷效應(yīng)上相同,只在單粒子試驗評估上與現(xiàn)有的評估方法存在差異。
宇航用高性能集成電路對空間輻射極其敏感,解決宇航倒裝焊器件單粒子評估方法缺失,因此,迫切需要突破并掌握倒裝焊技術(shù)的輻照評估方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問題是:克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提出一種倒封裝器件單粒子評估方法,可以對宇航用倒裝焊器件的單粒子效應(yīng)做出評價,服務(wù)于航天型號,解決宇航倒裝焊器件單粒子評估方法缺失問題。
本發(fā)明解決技術(shù)的方案是:
一種倒封裝器件單粒子評估方法,包括下列步驟:
(1)樣品準(zhǔn)備:一批產(chǎn)品的試驗樣品的數(shù)量應(yīng)不少于3只,器件經(jīng)測試合格,編號每一個器件,并按編號記錄數(shù)據(jù);
(2)試驗裝置安裝調(diào)試:將試驗板、探測器固定在輻照支架上,保證試驗裝置與試驗支架移動的一致性,確保重離子加速器產(chǎn)生的入射離子輻照到被試器件的敏感區(qū)表面;
(3)選擇離子能量:根據(jù)所使用的重離子加速器和擬產(chǎn)生的重離子能量,選擇適合樣品的離子能量;
(4)計算有效LET值及射程:確定離子到達(dá)有源區(qū)時的有效LET和射程,如果到達(dá)有源區(qū)有效,LET值滿足試驗所要的LET值要求,則采用直接輻照方法開始輻照,否則按照一定原則,選擇如下輻照方法:
襯底減薄;正封裝替代;敏感區(qū)評估;局部裸露制樣;鍵合封裝制樣;單元庫推導(dǎo);
(5)離子輻照:按試驗方案要求,選擇合適的離子,進(jìn)行輻照;
(6)效應(yīng)檢測:
(6.1)按試驗方案要求,進(jìn)行離子輻照下的單粒子效應(yīng)檢測,包括單粒子翻轉(zhuǎn)、單粒子功能中斷以及單粒子鎖定檢測;
(6.2)實時監(jiān)測并記錄器件發(fā)生的單粒子事件數(shù)和入射離子注量、注量率、時間及器件的殼溫;
(7)計算垂直入射到器件表面每種LET離子的總注量Φ(i)eff,繪制單粒子事件截面σ(i)與入射離子有效LET值的關(guān)系曲線。
進(jìn)一步的,步驟(5)中,離子選擇做遵循的原則為:
(5.1)參照與被試器件結(jié)構(gòu)、工藝最接近的器件的單粒子試驗數(shù)據(jù),判斷被試器件的單粒子事件LET閾值范圍;
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