[發明專利]一種電鍍用鈦陽極及其制備方法有效
| 申請號: | 202110275357.0 | 申請日: | 2021-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN113151885B | 公開(公告)日: | 2023-03-21 |
| 發明(設計)人: | 徐海清;趙國鵬;胡耀紅;曾繁波;張招賢;徐金來;羅慧梅 | 申請(專利權)人: | 廣州鴻葳科技股份有限公司;廣州市二輕研究所股份有限公司 |
| 主分類號: | C25D17/10 | 分類號: | C25D17/10;C23C18/12 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 尹凡華 |
| 地址: | 510663 廣東省廣州市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電鍍 陽極 及其 制備 方法 | ||
本發明屬于電鍍技術領域,公開了一種電鍍用鈦陽極及其制備方法。該電鍍用鈦陽極,包括鈦基體和在鈦基體上依次形成的中間層和表面層,中間層包含Ru、Ir和Ti的氧化物;表面層包含Ta、Nb、Sn、Zr、Ti或Sb的氧化物中的至少一種;中間層和表面層的厚度比為(5?15):1。本發明提供的電鍍用鈦陽極能夠同時耐析氯、析氧環境的腐蝕,且能有效提高鈦陽極的析氯、析氧電位,減少電鍍過程氧氣和氯氣的析出,避免電鍍添加劑過快的消耗,有利于維護鍍液穩定,減小電鍍成本。
技術領域
本發明屬于電鍍技術領域,具體涉及一種電鍍用鈦陽極及其制備方法。
背景技術
在電鍍行業中,鍍鎳、鍍鋅、鍍銅等為常見的電鍍工藝。在電鍍中,陽極大多為可溶性陽極,起到補充主鹽濃度的作用。但是在實際生產過程中,由于陽極同時進行著電化學溶解及化學溶解,而陰極除金屬沉積外伴隨著氫氣析出,陽極效率高于陰極效率,造成鍍液中主鹽濃度以及pH不斷升高。為了控制鍍液的穩定性,需要不斷地向鍍液中補充水進行稀釋;容易造成“溢缸”;也需補充添加劑,并保持在一定濃度范圍;同時還需補充酸來維持鍍液的pH值。這樣不僅需要對鍍液進行頻繁的監控,不利于電鍍生產的穩定運行;而且浪費原材料以及增加廢水排放量。
為了解決此類問題,通常通過增加不溶性陽極作為輔助陽極,來減少可溶性陽極的用量。但是常規不溶性陽極存在諸多問題,如IrTa涂層鈦陽極,涂層成本本很高,在析氧條件下壽命長,但是在含Cl-條件下壽命下降;RuTi涂層鈦陽極,適合在Cl-條件下使用,但是在析氧環境中壽命相對較短。而且這兩類涂層鈦陽極析氧或析氯電位都比較低,電鍍過程容易析出氧氣或氯氣,這兩者都會加快電鍍添加劑的消耗,增加電鍍成本。總體來說,傳統的不溶性鈦陽極,不能同時耐析氯、析氧環境的腐蝕;也不能同時提高析氯、析氧過電位,減少氧氣和氯氣的析出。
因此,亟需提供一種電鍍用鈦陽極,能夠同時提高析氯、析氧電位,且壽命長。
發明內容
本發明旨在至少解決上述現有技術中存在的技術問題之一。為此,本發明提出一種電鍍用鈦陽極,能夠同時提高析氯、析氧電位,且壽命長。
一種電鍍用鈦陽極,包括鈦基體和在所述鈦基體上依次形成的中間層和表面層,
所述中間層包含Ru、Ir和Ti的氧化物;
所述表面層包含Ta、Nd、Sn、Zr、Ti或Sb的氧化物中的至少一種;
所述中間層和所述表面層的厚度比為(5-15):1。
在本發明提供的電鍍用鈦陽極中,中間層為導電主體,對鈦陽極的導電性及使用壽命起決定性作用。表面層采用過渡金屬氧化物,起輔助作用,能夠同時提高鈦陽極的析氯、析氧電位,減少鈦陽極在電鍍過程中的氯氣和氧氣的析出量,避免電鍍添加劑的過快消耗。同時需要控制所述中間層和所述表面層的厚度比,當表面層過厚,則會降低鈦陽極的壽命,過薄則無法達到同時提高鈦陽極的析氯、析氧電位的作用。
所述電鍍用鈦陽極的中間層包含Ru、Ir和Ti的氧化物,其中Ru的氧化物有利于析氯環境,Ir的氧化物有利于析氧環境,Ru和Ir的氧化物作為導電氧化物,Ti的氧化物為惰性氧化物。由于Ru4+、Ir4+、Ti4+三者離子半徑接近,且都屬于金紅石型氧化物,燒結后可形成結構穩定的Ru、Ir、Ti的氧化物固溶體,而摻入適量的Ti的氧化物有利于提高鈦陽極的穩定性。
優選的,所述中間層包含RuO2、IrO2和TiO2;所述表面層包含Ta2O5、Nd2O5、SnO2、ZrO2、TiO2或Sb2O3中的至少一種。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廣州鴻葳科技股份有限公司;廣州市二輕研究所股份有限公司,未經廣州鴻葳科技股份有限公司;廣州市二輕研究所股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110275357.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





