[發(fā)明專利]一種PDK測(cè)試的優(yōu)化方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)和設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110275125.5
• 申請(qǐng)日: 2021-03-15
• 公開（公告）號(hào): CN112882946A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳嵐;郭瀟蔚;王志鵬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中科芯云微電子科技有限公司
• 主分類號(hào): G06F11/36
• 分類號(hào): G06F11/36
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 陳志海

本申請(qǐng)公開了一種PDK測(cè)試的優(yōu)化方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)和設(shè)備，從開發(fā)庫中查找預(yù)設(shè)單元列表中所指示的參數(shù)化單元的屬性信息。對(duì)參數(shù)化單元的屬性信息進(jìn)行代碼編輯，得到參數(shù)化單元的版圖描述文件，其中，版圖描述文件用于指示參數(shù)化單元的版圖的格式要求。基于版圖描述文件生成虛擬庫，在獲取到PDK測(cè)試人員的觸發(fā)操作的情況下，從虛擬庫中調(diào)用測(cè)試所需的各個(gè)參數(shù)化單元的版圖，組建測(cè)試版圖，并利用測(cè)試版圖進(jìn)行PDK測(cè)試。由于參數(shù)化單元的版圖的格式滿足版圖描述文件所指示的格式要求，因此，生成測(cè)試版圖所消耗的時(shí)間會(huì)有所限制。可見，利用本申請(qǐng)所述的方法，能夠有效提高PDK測(cè)試的效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及PDK開發(fā)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種PDK測(cè)試的優(yōu)化方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)和設(shè)備。

背景技術(shù)

隨著近幾年國內(nèi)集成電路設(shè)計(jì)業(yè)的大力發(fā)展，國內(nèi)的芯片設(shè)計(jì)企業(yè)如雨后春筍，但芯片制造和電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(Electronic design automation，EDA)卻仍處于比較薄弱的水平，無疑是國家當(dāng)前想要重點(diǎn)發(fā)展的方向。無論是芯片制造還是EDA，都離不開工藝設(shè)計(jì)工具包(Process Design Kit，PDK)的開發(fā)與驗(yàn)證，PDK在集成電路設(shè)計(jì)生產(chǎn)領(lǐng)域中擔(dān)任著一個(gè)十分重要的角色，起到將芯片設(shè)計(jì)公司、代工廠和EDA廠商進(jìn)行互連的重要作用。

當(dāng)前PDK測(cè)試的測(cè)試方法主要有兩種：一種是基于完成的PDK庫，通過手動(dòng)調(diào)用版圖，根據(jù)測(cè)試需求設(shè)置參數(shù)化單元(Pcell)的配置參數(shù)，以此來生成測(cè)試版圖，再對(duì)測(cè)試版圖進(jìn)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查；另一種是基于完成的PDK庫，通過程序來自動(dòng)調(diào)用EDA工具，根據(jù)配置文件中所做的配置來批量生成測(cè)試版圖，然后對(duì)測(cè)試版圖進(jìn)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查。

然而，手動(dòng)調(diào)用版圖生成測(cè)試版圖，其生成效率較低，調(diào)用EDA工具生成測(cè)試版圖，所消耗的時(shí)間過長。可見，現(xiàn)有的兩種版圖生成方法，都會(huì)降低PDK測(cè)試的效率。

為此，如何有效提高PDK測(cè)試的效率，成為本領(lǐng)域亟需解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环NPDK測(cè)試的優(yōu)化方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)和設(shè)備，目的在于提高PDK測(cè)試的效率。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘韵录夹g(shù)方案：

一種PDK測(cè)試的優(yōu)化方法，包括：

從開發(fā)庫中查找預(yù)設(shè)單元列表中所指示的參數(shù)化單元的屬性信息；

對(duì)所述參數(shù)化單元的屬性信息進(jìn)行代碼編輯，得到所述參數(shù)化單元的版圖描述文件；其中，所述版圖描述文件用于指示所述參數(shù)化單元的版圖的格式要求；所述格式要求包括：所述版圖所占的層為任意一層、所述版圖的面積為不大于預(yù)設(shè)閾值、所述版圖的數(shù)量為一個(gè)、以及所述版圖的形狀為預(yù)設(shè)形狀；

基于所述版圖描述文件生成虛擬庫；

在獲取到PDK測(cè)試人員的觸發(fā)操作的情況下，從所述虛擬庫中調(diào)用測(cè)試所需的各個(gè)參數(shù)化單元的版圖，組建測(cè)試版圖；

利用所述測(cè)試版圖進(jìn)行PDK測(cè)試。

可選的，還包括：

在正式庫開發(fā)結(jié)束的情況下，獲取正式庫路徑，并利用所述正式庫路徑替代庫聲明文件中的虛擬庫路徑，使得所述測(cè)試版圖中所使用的版圖都變更為所述正式庫中的版圖。

可選的，所述開發(fā)庫包括遷移庫和原始庫；

所述從開發(fā)庫中查找預(yù)設(shè)單元列表中所指示的參數(shù)化單元的屬性信息，包括：

從與所述遷移庫對(duì)應(yīng)的源庫中，查找預(yù)設(shè)單元列表中所指示的參數(shù)化單元的屬性信息；

從與所述原始庫對(duì)應(yīng)的開發(fā)規(guī)則中，查找所述預(yù)設(shè)單元列表中所指示的參數(shù)化單元的屬性信息。

可選的，所述基于所述版圖描述文件生成虛擬庫，包括：