[發(fā)明專利]感測(cè)功率半導(dǎo)體器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110274144.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113066852B | 公開(公告)日: | 2022-09-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱袁正;黃薛佺;楊卓 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 無錫新潔能股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/06 | 分類號(hào): | H01L29/06;H01L27/02;H01L29/78 |
| 代理公司: | 無錫市興為專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32517 | 代理人: | 屠志力 |
| 地址: | 214000 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 功率 半導(dǎo)體器件 | ||
1.一種感測(cè)功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,包括:
主晶體管(1),其具有第一電流路徑(11),電流從漏極焊盤(5)流經(jīng)主晶體管(1)的第一漏極金屬(15)、第一源極金屬(16),最后進(jìn)入第一源極焊盤(8);
副晶體管(2),其具有第二電流路徑(12),用于監(jiān)測(cè)第一電流路徑(11)中的電流,電流從漏極焊盤(5)流經(jīng)副晶體管(2)的第二漏極金屬(17)、第二源極金屬(18),最后進(jìn)入第一源極焊盤(8);
感測(cè)晶體管(3),其具有第三電流路徑(13),用于監(jiān)測(cè)第二電流路徑(12)中的電流,電流從漏極焊盤(5)流經(jīng)感測(cè)晶體管(3)的第三漏極金屬(19)、第三源極金屬(20),最后進(jìn)入第二源極焊盤(9);
測(cè)溫二極管(4),其具有第四電流路徑(14),用于監(jiān)測(cè)功率半導(dǎo)體的芯片溫度,電流從正極焊盤(10)流經(jīng)測(cè)溫二極管(4)的正極金屬(22)、負(fù)極金屬(21),最后進(jìn)入漏極焊盤(5);
主晶體管(1)的第一漏極金屬(15)、副晶體管(2)的第二漏極金屬(17)、感測(cè)晶體管(3)的第三漏極金屬(19)、測(cè)溫二極管(4)的負(fù)極金屬(21)和漏極焊盤(5)彼此電耦合;主晶體管(1)的第一源極金屬(16)、副晶體管(2)的第二源極金屬(18)和第一源極焊盤(8)彼此電耦合;感測(cè)晶體管(3)的第三源極金屬(20)通過第一金屬連接線(25)和第二源極焊盤(9)彼此電耦合;測(cè)溫二極管(4)的正極金屬(22)通過第二金屬連接線(24)和正極焊盤(10)彼此電耦合;主晶體管(1)的第一柵極金屬(23)和第一柵極焊盤(6)彼此電耦合;副晶體管(2)的第二柵極金屬(27)、感測(cè)晶體管(3)的第三柵極金屬(26)和第二柵極焊盤(7)彼此電耦合;
主晶體管(1)與副晶體管(2)的源極區(qū)面積之比為n:1,所述n的范圍為1<n≤1000;副晶體管(2)與感測(cè)晶體管(3)的源極區(qū)面積之比為m:1,所述m的范圍為1<m≤1000;
所述感測(cè)晶體管(3)與測(cè)溫二極管(4)位于所述功率半導(dǎo)體器件的中心位置;
所述主晶體管(1)與副晶體管(2)設(shè)置在不同的區(qū)域中;
所述主晶體管(1)的第一源極金屬(16)與副晶體管(2)的第二源極金屬(18)分別設(shè)置在不同的源極區(qū)域中,感測(cè)晶體管(3)的第三源極金屬(20)與測(cè)溫二極管(4)的正極金屬(22)位于所述功率半導(dǎo)體器件的中心位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種感測(cè)功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,所述主晶體管(1)、副晶體管(2)與感測(cè)晶體管(3)有相同的功率半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種感測(cè)功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,
主晶體管(1)包括:
在所述漏極焊盤(5)的上方設(shè)有第一導(dǎo)電類型襯底(28),在所述第一導(dǎo)電類型襯底(28)的上方設(shè)有第一導(dǎo)電類型外延層(29),在所述第一導(dǎo)電類型外延層的表面設(shè)有第二導(dǎo)電類型體區(qū)(35),在所述第二導(dǎo)電類型體區(qū)(35)的表面設(shè)有第一導(dǎo)電類型源區(qū)(37),在所述第二導(dǎo)電類型體區(qū)(35)內(nèi)設(shè)有第二導(dǎo)電類型源區(qū)(36),在所述第一導(dǎo)電類型源區(qū)(37)的表面設(shè)有溝槽(30),所述溝槽(30)穿透第一導(dǎo)電類型源區(qū)(37)與第二導(dǎo)電類型體區(qū)(35),然后進(jìn)入第一導(dǎo)電類型外延層(29)內(nèi),所述溝槽(30)呈條狀互相平行且等間距分布,所述溝槽(30)的側(cè)壁與底部設(shè)有場(chǎng)氧層(31),所述場(chǎng)氧層(31)包裹著屏蔽柵多晶硅(32),在所述屏蔽柵多晶硅(32)頂部的兩側(cè)設(shè)有柵極多晶硅(33),所述柵極多晶硅(33)通過柵氧層(34)與第一導(dǎo)電類型源區(qū)(37)、第二導(dǎo)電類型體區(qū)(35)、第一導(dǎo)電類型外延層(29)互相絕緣,在所述溝槽(30)與第一導(dǎo)電類型源區(qū)(37)的上方設(shè)有絕緣介質(zhì)層(38),在所述絕緣介質(zhì)層(38)的上方設(shè)有第一源極金屬(16),所述第一源極金屬(16)穿透絕緣介質(zhì)層(38)與第一導(dǎo)電類型源區(qū)(37)、第二導(dǎo)電類型源區(qū)(36)歐姆接觸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種感測(cè)功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,
對(duì)于N型功率半導(dǎo)體器件,所述第一導(dǎo)電類型為N型,所述第二導(dǎo)電類型為P型;對(duì)于P型功率半導(dǎo)體器件,所述第一導(dǎo)電類型為P型,所述第二導(dǎo)電類型為N型。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種感測(cè)功率半導(dǎo)體器件,其特征在于,
所述主晶體管(1)的第一柵極金屬(23)環(huán)繞在所述功率半導(dǎo)體器件的外圍;第一柵極金屬(23)通過通孔連接?xùn)艠O多晶硅(33)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





