[發(fā)明專利]一種高側(cè)功率管的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110271092.7 | 申請日: | 2021-03-12 |
| 公開(公告)號: | CN113035937A | 公開(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張波;袁柳;喬明;齊釗 | 申請(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號: | H01L29/06 | 分類號: | H01L29/06 |
| 代理公司: | 成都點(diǎn)睛專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 敖歡 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 功率管 esd 保護(hù) 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種高側(cè)功率管的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:包括P型襯底(9)、P型襯底(9)上方的N型埋層(8),兩處P型深阱(1)和兩處N型深阱(2)交替位于P型襯底(9)和N型埋層(8)上方,從左至右依次為左側(cè)的P型深阱(1)、左側(cè)的N型深阱(2)、右側(cè)的P型深阱(1)、右側(cè)的N型深阱(2);
左側(cè)的P型阱區(qū)(3)位于左側(cè)的P型深阱(1)內(nèi)表面,左側(cè)的N型阱區(qū)(4)位于左側(cè)的N型深阱(2)內(nèi)表面,右側(cè)的P型阱區(qū)(3)位于右側(cè)的P型深阱(1)內(nèi)表面,右側(cè)的N型阱區(qū)(4)位于右側(cè)的N型深阱(2)內(nèi)表面;左側(cè)及右側(cè)的P型阱區(qū)(3)內(nèi)都設(shè)有位于P型阱區(qū)(3)表面的P型接觸區(qū)(5)和N型接觸區(qū)(6),且P型接觸區(qū)(5)右側(cè)與N型接觸區(qū)(6)相切;在左側(cè)的N型阱區(qū)(4)中,P型接觸區(qū)(5)和N型接觸區(qū)(6)位于N型阱區(qū)(4)表面且P型接觸區(qū)(5)的左側(cè)與N型接觸區(qū)(6)相切;在右側(cè)N型阱區(qū)(4)內(nèi)部表面僅有N型接觸區(qū)(6);N型漂移區(qū)(7)位于右側(cè)的P型深阱(1)內(nèi)部表面以及該P(yáng)型深阱(1)內(nèi)P型阱區(qū)(3)的右側(cè),柵氧化層(10)位于右側(cè)的P型深阱(1)上方,并部分位于N型漂移區(qū)(7)上方;一處第一氧化層(11)位于N型漂移區(qū)(7)上方,且位于柵氧化層(10)右側(cè),多晶硅柵(12)位于柵氧化層(10)和第一氧化層(11)的上方;另一處第一氧化層(11)位于左側(cè)的P型深阱(1)和左側(cè)的N型深阱(2)交界處上方,還有一處第一氧化層(11)位于左側(cè)的N型深阱(2)和右側(cè)的P型深阱(1)交界處上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高側(cè)功率管的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:去掉左側(cè)的P型阱區(qū)內(nèi)(3)內(nèi)的N型接觸區(qū)(6),并且在左側(cè)的N型阱區(qū)(4)內(nèi)N型接觸區(qū)(6)的左側(cè)增加與其相切的P型接觸區(qū)(5)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高側(cè)功率管的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:去掉左側(cè)的P型阱區(qū)(3)內(nèi)的N型接觸區(qū)(6),此時器件僅有高側(cè)管的自保護(hù)結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高側(cè)功率管的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:去掉左側(cè)的N型阱區(qū)(4)內(nèi)的P型接觸區(qū)(5),此時器件僅有隔離環(huán)對地的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種高側(cè)功率管的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:去掉右側(cè)的P型深阱(1)中各結(jié)構(gòu),僅保留隔離結(jié)構(gòu),此時器件僅有隔離環(huán)對地的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),但是P型深阱(1)中仍然制作電路。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高側(cè)功率管的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:去掉左側(cè)的P型阱區(qū)(3)內(nèi)的N型接觸區(qū)(6),并將位于左側(cè)的N型阱區(qū)(4)內(nèi)N型接觸區(qū)(6)右側(cè)的P型接觸區(qū)(5)更換到N型接觸區(qū)(6)的左側(cè),此時器件僅有隔離環(huán)對地的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種高側(cè)功率管的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),其特征在于:去掉右側(cè)的P型深阱(1)中各結(jié)構(gòu),僅保留隔離結(jié)構(gòu),此時器件僅有隔離環(huán)對地的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu),但是P型深阱(1)中仍然制作電路。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的
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