[發(fā)明專利]發(fā)光二極管光源組件及其反射結(jié)構(gòu)、顯示結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110270879.1 | 申請日： | 2021-03-12 |
| 公開（公告）號： | CN113031341B | 公開（公告）日： | 2023-01-20 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 林榮松 | 申請（專利權(quán)）人： | 業(yè)成科技（成都）有限公司;業(yè)成光電（深圳）有限公司;業(yè)成光電（無錫）有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/13357 | 分類號： | G02F1/13357 |
| 代理公司： | 成都希盛知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51226 | 代理人： | 楊冬梅;張行知 |
| 地址： | 611730 四川*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 發(fā)光二極管 光源 組件 及其 反射 結(jié)構(gòu) 顯示 | ||
1.一種用于光源模組的反射結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括本體；
所述反射結(jié)構(gòu)于所述本體開設(shè)有安裝位，所述安裝位用于穿過光源模組上的發(fā)光體；
且所述反射結(jié)構(gòu)于所述本體鄰近所述安裝位處設(shè)有減薄端部，所述減薄端部的厚度為所述發(fā)光體的底部結(jié)構(gòu)區(qū)的厚度的62％至76％，所述本體于其鄰近所述減薄端部處形成反射斜面，且所述反射斜面具有斜率相異的至少三個連續(xù)斜面且相鄰兩斜面斜率差值為0.02至0.1，越靠近反射平面的斜面斜率越大，越靠近光源模組的板體的斜面斜率越小；且最靠近光源模組的板體的斜面，其高度與發(fā)光體的底部結(jié)構(gòu)區(qū)的厚度相同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于光源模組的反射結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述反射結(jié)構(gòu)于所述本體開設(shè)有多個規(guī)則排列的所述安裝位，每一所述安裝位用于對應(yīng)穿過所述光源模組上的一所述發(fā)光體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于光源模組的反射結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述本體的厚度大于所述發(fā)光體的底部結(jié)構(gòu)區(qū)的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述用于光源模組的反射結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述反射斜面的寬度不小于0.1毫米。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述用于光源模組的反射結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述反射斜面整體呈圓形、橢圓形、菱形、矩形或邊數(shù)大于等于4的正多邊形；或者，所述反射斜面具有與所述發(fā)光體相似的形狀。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述用于光源模組的反射結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述斜面的傾斜角度根據(jù)所述發(fā)光體的側(cè)出光方向而設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述用于光源模組的反射結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述本體于其遠(yuǎn)離所述減薄端部處形成反射平面。
8.一種發(fā)光二極管光源組件，其特征在于，包括光源模組及設(shè)置于所述光源模組上的反射結(jié)構(gòu)；
所述光源模組上設(shè)有發(fā)光體；
所述反射結(jié)構(gòu)包括本體；
所述反射結(jié)構(gòu)于所述本體開設(shè)有安裝位，所述安裝位穿過所述發(fā)光體；
且所述反射結(jié)構(gòu)于所述本體鄰近所述安裝位處設(shè)有減薄端部，所述減薄端部的厚度為所述發(fā)光體的底部結(jié)構(gòu)區(qū)的厚度的62％至76％，所述本體于其鄰近所述減薄端部處形成反射斜面，且所述反射斜面具有斜率相異的至少三個連續(xù)斜面且相鄰兩斜面斜率差值為0.02至0.1，越靠近反射平面的斜面斜率越大，越靠近光源模組的板體的斜面斜率越小；且最靠近光源模組的板體的斜面，其高度與發(fā)光體的底部結(jié)構(gòu)區(qū)的厚度相同。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述發(fā)光二極管光源組件，其特征在于，所述反射結(jié)構(gòu)采用真空成型制程或壓模成型制程設(shè)置于所述光源模組上；及/或，所述發(fā)光體具有增厚底部以使所述底部結(jié)構(gòu)區(qū)的厚度至少為所述減薄端部的厚度的120％；及/或，所述光源模組的板體于所述發(fā)光體的安裝位置處增厚設(shè)置或于所述反射結(jié)構(gòu)的安裝位置處減薄設(shè)置，以使所述板體用于所述發(fā)光體的安裝位置的厚度，大于所述板體用于所述反射結(jié)構(gòu)的安裝位置的厚度；或者，所述光源模組的板體于所述反射斜面的安裝位置處減薄設(shè)置，以使所述板體用于所述發(fā)光體的安裝位置的厚度，大于所述板體用于所述反射斜面的安裝位置的厚度。
10.一種顯示結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括發(fā)光二極管光源組件，所述發(fā)光二極管光源組件包括光源模組及反射結(jié)構(gòu)；
所述光源模組上設(shè)有發(fā)光體；
所述反射結(jié)構(gòu)包括本體；
所述反射結(jié)構(gòu)于所述本體開設(shè)有安裝位，所述安裝位穿過所述發(fā)光體；
且所述反射結(jié)構(gòu)于所述本體鄰近所述安裝位處設(shè)有減薄端部，所述減薄端部的厚度為所述發(fā)光體的底部結(jié)構(gòu)區(qū)的厚度的62％至76％，所述本體于其鄰近所述減薄端部處形成反射斜面，且所述反射斜面具有斜率相異的至少三個連續(xù)斜面且相鄰兩斜面斜率差值為0.02至0.1，越靠近反射平面的斜面斜率越大，越靠近光源模組的板體的斜面斜率越??；且最靠近光源模組的板體的斜面，其高度與發(fā)光體的底部結(jié)構(gòu)區(qū)的厚度相同。
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G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
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