[發明專利]一種用于胚胎干細胞培養的灌流裝置及灌流方法

在審

• 申請號: 202110270074.7
• 申請日: 2021-03-12
• 公開（公告）號: CN113150984A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發明（設計）人: 姜勝維
• 申請（專利權）人: 姜勝維
• 主分類號: C12M3/00
• 分類號: C12M3/00;C12M1/04;C12N5/0735
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于胚胎干細胞培養的灌流裝置，包括支架(1)、限流組件(10)和擠壓組件(11)，其特征在于：所述支架(1)的頂端固定安裝有灌流瓶(2)，所述灌流瓶(2)的內壁固定安裝有進料管(3)，所述灌流瓶(2)的內壁固定安裝有出料管(4)，所述出料管(4)遠離灌流瓶(2)的一端固定安裝有灌流箱(5)，所述灌流箱(5)的底端固定安裝有電動伸縮柱(6)，所述灌流箱(5)的左側固定安裝有第一電磁塊(7)，所述灌流瓶(2)的內壁活動連接有第二電磁塊(8)，所述第二電磁塊(8)遠離灌流瓶(2)的一側固定安裝有連桿(9)，所述連桿(9)的頂端與限流組件(10)的底端固定連接，所述限流組件(10)的頂端與擠壓組件(11)的底端固定連接。

2.根據權利要求1所述的一種用于胚胎干細胞培養的灌流裝置，其特征在于：所述限流組件(10)包括底殼(1001)，所述底殼(1001)的外壁活動連接有中殼(1002)，所述中殼(1002)的內壁活動連接有擺動桿(1003)，所述擺動桿(1003)遠離中殼(1002)的一端活動連接有轉軸(1004)，所述轉軸(1004)的頂端固定安裝有連接桿(1005)，所述連接桿(1005)遠離轉軸(1004)的一端活動連接有第一內圈(1006)，所述第一內圈(1006)的內壁固定安裝有彎板(1007)，所述彎板(1007)的正面活動連接有導桿(1008)，所述彎板(1007)的背面固定安裝有支撐板(1009)。

3.根據權利要求1所述的一種用于胚胎干細胞培養的灌流裝置，其特征在于：所述擠壓組件(11)包括頂殼(1101)，所述頂殼(1101)的內壁活動連接有轉盒(1102)，所述轉盒(1102)的內壁活動連接有第二內圈(1103)，所述第二內圈(1103)的內壁活動連接有擠壓板(1104)，所述頂殼(1101)的外壁活動連接有轉齒(1105)，所述轉齒(1105)的底端固定安裝有螺紋桿(1106)，所述螺紋桿(1106)的外壁活動連接有外套管(1107)，所述外套管(1107)的內壁活動連接有底柱(1108)。

4.根據權利要求2所述的一種用于胚胎干細胞培養的灌流裝置，其特征在于：所述擺動桿(1003)的數量為四個，且每兩個擺動桿(1003)為一組，每組擺動桿(1003)均以第一內圈(1006)的水平中心線對稱分布。

5.根據權利要求2所述的一種用于胚胎干細胞培養的灌流裝置，其特征在于：所述彎板(1007)及其彎板(1007)的所屬結構的數量為兩個，且兩個彎板(1007)及其彎板(1007)的所屬結構均以出料管(4)的圓心為中心均勻分布，且導桿(1008)遠離第一內圈(1006)的一端固定安裝在出料管(4)的外壁。

6.根據權利要求1所述的一種用于胚胎干細胞培養的灌流裝置，其特征在于：所述連桿(9)為左右兩部分構成，且連桿(9)的左側部分內壁與出料管(4)的外壁活動連接，連桿(9)的右側部分通過活動伸縮桿與連桿(9)的右側部分活動連接，連桿(9)的右側部分為拉伸柱。

7.根據權利要求3所述的一種用于胚胎干細胞培養的灌流裝置，其特征在于：所述螺紋桿(1106)的直徑小于底柱(1108)的內徑，且底柱(1108)的內壁設置有螺紋凸塊。

8.根據權利要求6所述的一種用于胚胎干細胞培養的灌流裝置，其特征在于：底柱(1108)的底端與連桿(9)的右側部分頂端固定連接，且轉盒(1102)的內壁設置有凸板，且擠壓板(1104)靠近出料管(4)的一側與出料管(4)的外壁固定連接。

9.根據權利要求1所述的一種用于胚胎干細胞培養的灌流方法，具體如下：

S1、準備工作，準備干細胞培養基，并將干細胞培養基降溫至6～15℃；

S2、將干細胞放入容器中，并放置在灌流箱(5)中；

S3、灌流階段，將干細胞培養基接通進料管(3)，并通過出料管(4)進入灌流箱(5)中；

S4、開啟灌流箱(5)中的蠕動泵，保持溫度在30～36℃；

S5、通氧氣，給與灌流瓶(2)通氧，使培養基氧含量達到40～50％；

S6、保持5～7天，保持灌流速度為0.3～1.6RV/天；

S7、放流，在8～10天時，開始放流，并保持其速率為0.1～1RV/天；

S8、完成放流，從灌流箱(5)中取出干細胞，完成干細胞培養。