[發(fā)明專利]射線光野調節(jié)機構及射線成像裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110269586.1
• 申請日: 2021-03-12
• 公開（公告）號: CN113063807A
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發(fā)明（設計）人: 李冬松
• 申請（專利權）人: 梅特勒-托利多(常州)測量技術有限公司;梅特勒-托利多(常州)精密儀器有限公司;梅特勒-托利多國際貿易（上海）有限公司
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 喻學兵

1.射線光野調節(jié)機構，用于調節(jié)射線源產生的光野范圍，其特征在于，該光野調節(jié)機構包括：

活動裝置，用于搭載所述射線源；以及

至少一對準直器，相向而對地設置，形成開口，所述開口限定所述光野范圍；

其中，所述準直器角度可調，用于改變所述開口大小，所述活動裝置位置可調，用于移動所述射線源。

2.如權利要求1所述的射線光野調節(jié)機構，其特征在于，所述活動裝置包括滑動件和滑動配合件，所述滑動件用于搭載所述射線源，所述滑動配合件提供用于所述滑動件移動的滑道。

3.如權利要求2所述的射線光野調節(jié)機構，其特征在于，至少部分所述滑道沿所述開口中位線方向延伸。

4.如權利要求2所述的射線光野調節(jié)機構，其特征在于，所述活動裝置還包括調節(jié)件，所述調節(jié)件與所述滑動件連接，用于調節(jié)所述滑動件在所述滑動配合件上的位置。

5.如權利要求1所述的射線光野調節(jié)機構，其特征在于，所述光野調節(jié)機構還包括控制件，所述活動裝置包括線性致動器，所述準直器包括準直器驅動裝置，所述線性致動器和/或準直器驅動裝置與所述控制件雙向信號連接。

6.如權利要求1所述的射線光野調節(jié)機構，其特征在于，所述活動裝置設置多個移動檔位。

7.如權利要求6所述的射線光野調節(jié)機構，其特征在于，所述多個移動檔位沿所述開口的中位線方向分別設置。

8.如權利要求6所述的射線光野調節(jié)機構，其特征在于，所述多個移動檔位在所述開口的中位線兩側分別設置。

9.射線成像裝置，其特征在于，包括如權利要求1至8任一項所述的光野調節(jié)機構。