[發明專利]一種掩膜板及其制備方法

有效

• 申請號: 202110268864.1
• 申請日: 2021-03-12
• 公開（公告）號: CN113151779B
• 公開（公告）日: 2022-12-13
• 發明（設計）人: 劉肖楠;李軍;陳穎冰;張磊;田杰;張楠;嚴濤;伍青峰;張文暢;安廷獵;馬超;郭登俊;胡斌;陶歡;李建斌;鄭安輝
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京金信知識產權代理有限公司 11225
• 代理人: 崔家源;范繼晨

1.一種掩膜板，其特征在于，包括：

支撐架；

與所述支撐架貼合設置的第一膜層；

第二膜層，其設置在所述第一膜層遠離所述支撐架的一側，所述第二膜層的外邊框不超出所述支撐架的外邊框；

其中，所述第二膜層的厚度小于所述第一膜層的厚度；

所述第二膜層由多個第一子膜層或多個第二子膜層組成，所述第一子膜層或所述第二子膜層設置在所述支撐架的第一焊接區域，所述第一膜層設置在所述支撐架的第二焊接區域，所述第一焊接區域和所述第二焊接區域相互獨立。

2.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一子膜層上設置有蒸鍍孔，多個所述第一子膜層相互不重疊。

3.根據權利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一膜層的蒸鍍孔的位置與所述第二膜層的蒸鍍孔的位置對應，所述第一膜層的蒸鍍孔大于或等于所述第二膜層的蒸鍍孔。

4.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第二膜層由多個第二子膜層組成，所述第二子膜層上未設置蒸鍍孔，所述第二子膜層覆蓋第一膜層中的非蒸鍍孔區域。

5.根據權利要求4所述的掩膜板，其特征在于，第一方向上的每個第二子膜層與第二方向上的每個第二子膜層均存在重疊區域，所述第一方向和所述第二方向相互垂直。

6.根據權利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一焊接區域的支撐架其厚度大于所述第二焊接區域的支撐架的厚度。

7.一種掩膜板的制備方法，用于制造權利要求1至6中任意項所述的掩膜板，其特征在于，包括：

在支撐架的第二焊接區域上張網第一膜層；

在所述第一膜層遠離所述支撐架的一側張網第二膜層，得到掩膜板，所述第二膜層的外邊框不超出所述支撐架的外邊框；

其中，所述第二膜層的厚度小于所述第一膜層的厚度；

所述第二膜層由多個第一子膜層組成，所述第一子膜層設置在所述支撐架的第一焊接區域，所述第一焊接區域和所述第二焊接區域相互獨立。

8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述在所述第一膜層遠離所述支撐架的一側張網第二膜層，包括：

將多個第一子膜層分別張網至所述第一膜層遠離所述支撐架的一側，并將所述第一子膜層焊接在所述支撐架的第一焊接區域上，使得所述第一膜層的蒸鍍孔的位置與所述第二膜層的蒸鍍孔的位置對應；

設置所述第一膜層的蒸鍍孔大于或等于所述第二膜層的蒸鍍孔。

9.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述在所述第一膜層遠離所述支撐架的一側張網第二膜層，還包括：

將多個第二子膜層分別張網至所述第一膜層遠離所述支撐架的一側的非蒸鍍孔區域的第一方向和第二方向上，并將所述第二子膜層焊接在所述支撐架的第一焊接區域上；

所述第一方向和所述第二方向相互垂直。