[發(fā)明專利]材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法、系統(tǒng)、裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110266956.6 | 申請日: | 2021-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN113270155B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 來天行;陳才;汪洪 | 申請(專利權(quán))人: | 上海交通大學(xué) |
| 主分類號: | G16C60/00 | 分類號: | G16C60/00 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 鄔嫡波 |
| 地址: | 200240 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 材料 樣品 坐標(biāo)系 確定 轉(zhuǎn)換 表征 生成 方法 系統(tǒng) 裝置 | ||
本發(fā)明提供一種材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法、系統(tǒng)、裝置,獲取材料樣品表面上預(yù)設(shè)數(shù)量的標(biāo)記,并將所述標(biāo)記作為參考點(diǎn);獲取參考點(diǎn)在樣品臺(tái)坐標(biāo)系的坐標(biāo)為第一坐標(biāo)集U;獲取參考點(diǎn)在設(shè)備坐標(biāo)系的坐標(biāo)為第二坐標(biāo)集X;基于所述第一坐標(biāo)集U和第二坐標(biāo)集X通過預(yù)設(shè)坐標(biāo)系轉(zhuǎn)換算法計(jì)算所述樣品臺(tái)坐標(biāo)系和設(shè)備坐標(biāo)系的轉(zhuǎn)換關(guān)系;獲取在樣品臺(tái)坐標(biāo)系需要表征的第一表征點(diǎn)集,基于轉(zhuǎn)換關(guān)系獲取所述第一表征點(diǎn)集在設(shè)備坐標(biāo)系的第二表征點(diǎn)集,基于所述第二表征點(diǎn)集在設(shè)備坐標(biāo)系繪制表征點(diǎn)。本發(fā)明的一種材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法、系統(tǒng)、裝置,用于高通量薄膜實(shí)驗(yàn)樣品在不同坐標(biāo)系中位置的確定以及高通量表征點(diǎn)的生成。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及樣品表征點(diǎn)技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法、系統(tǒng)、裝置。
背景技術(shù)
在材料科學(xué)的實(shí)驗(yàn)過程中,有時(shí)需要確定實(shí)驗(yàn)樣品上同一點(diǎn)或一系列點(diǎn)在不同的系統(tǒng)中的精確坐標(biāo),而在高通量實(shí)驗(yàn)中,這一點(diǎn)尤為重要。以高通量組合材料芯片為例,單塊薄膜樣品上成分梯度變化,每一個(gè)點(diǎn)的成分均不相同,通過快速大量地對一系列成分點(diǎn)進(jìn)行一種或多種表征來高效地完成實(shí)驗(yàn)研究,而由于沒有相應(yīng)的參考坐標(biāo)系及坐標(biāo)確定轉(zhuǎn)換方法,樣品在不同設(shè)備系統(tǒng)中無法精確定位,即不同系統(tǒng)之間無法保證表征同一點(diǎn),同時(shí)無法方便的獲知表征位置的設(shè)計(jì)成分空間坐標(biāo),以及不能快速生成所需要表征點(diǎn)的坐標(biāo),影響實(shí)驗(yàn)的精度和效率。
因此,希望能夠解決如何準(zhǔn)確地進(jìn)行材料樣品表征點(diǎn)確定的問題。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本發(fā)明的目的在于提供一種材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法、系統(tǒng)、裝置,用于解決現(xiàn)有技術(shù)中如何準(zhǔn)確地進(jìn)行材料樣品表征點(diǎn)確定的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的,本發(fā)明提供一種材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法,包括以下步驟:獲取材料樣品表面上預(yù)設(shè)數(shù)量的標(biāo)記,并將所述標(biāo)記作為參考點(diǎn);獲取所述參考點(diǎn)在樣品臺(tái)坐標(biāo)系的坐標(biāo)為第一坐標(biāo)集U;獲取所述參考點(diǎn)在設(shè)備坐標(biāo)系的坐標(biāo)為第二坐標(biāo)集X;基于所述第一坐標(biāo)集U和第二坐標(biāo)集X通過預(yù)設(shè)坐標(biāo)系轉(zhuǎn)換算法計(jì)算所述樣品臺(tái)坐標(biāo)系和設(shè)備坐標(biāo)系的轉(zhuǎn)換關(guān)系;獲取在樣品臺(tái)坐標(biāo)系需要表征的第一表征點(diǎn)集,基于轉(zhuǎn)換關(guān)系獲取所述第一表征點(diǎn)集在設(shè)備坐標(biāo)系的第二表征點(diǎn)集,基于所述第二表征點(diǎn)集在設(shè)備坐標(biāo)系繪制表征點(diǎn)。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明還提供一種材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成系統(tǒng),包括:標(biāo)記模塊、第一獲取模塊、第二獲取模塊、轉(zhuǎn)換模塊和繪制模塊;所述標(biāo)記模塊用于獲取材料樣品表面上預(yù)設(shè)數(shù)量的標(biāo)記,并將所述標(biāo)記作為參考點(diǎn);所述第一獲取模塊用于獲取所述參考點(diǎn)在樣品臺(tái)坐標(biāo)系的坐標(biāo)為第一坐標(biāo)集U;所述第二獲取模塊用于獲取所述參考點(diǎn)在設(shè)備坐標(biāo)系的坐標(biāo)為第二坐標(biāo)集X;所述轉(zhuǎn)換模塊用于基于所述第一坐標(biāo)集U和第二坐標(biāo)集X通過預(yù)設(shè)坐標(biāo)系轉(zhuǎn)換算法計(jì)算所述樣品臺(tái)坐標(biāo)系和設(shè)備坐標(biāo)系的轉(zhuǎn)換關(guān)系;所述繪制模塊用于獲取在樣品臺(tái)坐標(biāo)系需要表征的第一表征點(diǎn)集,基于轉(zhuǎn)換關(guān)系獲取所述第一表征點(diǎn)集在設(shè)備坐標(biāo)系的第二表征點(diǎn)集,基于所述第二表征點(diǎn)集在設(shè)備坐標(biāo)系繪制表征點(diǎn)。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明還提供一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序,所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)任一上述材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明還提供一種材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成裝置,包括:處理器和存儲(chǔ)器;所述存儲(chǔ)器用于存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)程序;所述處理器與所述存儲(chǔ)器相連,用于執(zhí)行所述存儲(chǔ)器存儲(chǔ)的計(jì)算機(jī)程序,以使所述材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成裝置執(zhí)行任一上述的材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法。
如上所述,本發(fā)明的一種材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法、系統(tǒng)、裝置,具有以下有益效果:用于高通量薄膜實(shí)驗(yàn)樣品在不同坐標(biāo)系中位置的確定以及高通量表征點(diǎn)的生成。
附圖說明
圖1a顯示為本發(fā)明的材料樣品坐標(biāo)系確定和轉(zhuǎn)換及表征點(diǎn)生成方法于一實(shí)施例中的流程圖;
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