[發(fā)明專利]光功率測(cè)量裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110266423.8 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113049097A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韋欣;謝新宇;李川川;李健 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類號(hào): | G01J1/42 | 分類號(hào): | G01J1/42;G01J1/56;G01J1/04 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 孫蕾 |
| 地址: | 100083 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 功率 測(cè)量 裝置 | ||
一種光功率測(cè)量裝置,包括:微機(jī)電系統(tǒng)?垂直腔面發(fā)射激光器、連接柱、受光平臺(tái)、光譜分析模塊和功率計(jì)算模塊;微機(jī)電系統(tǒng)?垂直腔面發(fā)射激光器包括外延結(jié)構(gòu)和與外延結(jié)構(gòu)連接的微機(jī)電?布拉格反射鏡;微機(jī)電?布拉格反射鏡通過(guò)連接柱與受光平臺(tái)連接;受光平臺(tái)受到入射激光的照射產(chǎn)生的輻射壓力,輻射壓力通過(guò)連接柱傳送至微機(jī)電?布拉格反射鏡,以使得微機(jī)電?布拉格反射鏡發(fā)生位移;垂直腔面發(fā)射激光器產(chǎn)生的激射光透過(guò)微機(jī)電?布拉格反射鏡出射;光譜分析模塊設(shè)置在激射光的光路上;光譜分析模塊用于測(cè)量激射光的波長(zhǎng);功率計(jì)算模塊與光譜分析模塊電連接;功率計(jì)算模塊用于根據(jù)激射光的波長(zhǎng)計(jì)算入射激光的光功率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及激光功率測(cè)量領(lǐng)域,尤其涉及一種光功率測(cè)量裝置。
背景技術(shù)
微機(jī)電系統(tǒng)-垂直腔面發(fā)射激光器(Micro-electro-mechanical Systems-Vertical-cavity Surface-emitting Lasers,MEMS-VCSEL)作為一種可調(diào)諧面發(fā)射激光器,其除了VCSEL本有的低閾值、低損耗、小發(fā)散角的特點(diǎn)外,還有單模工作、寬的Mode-hop-free調(diào)諧范圍的優(yōu)點(diǎn),本身是通信、氣體檢測(cè)、光學(xué)相干斷層掃描儀(OCT)的理想光源。
傳統(tǒng)的對(duì)激光功率的測(cè)量方法采用較多的是熱功率計(jì),需要對(duì)入射光全部吸收,在功率較大的情況下會(huì)采用分束器將入射光分出90%的部分和10%的部分,通過(guò)測(cè)量這10%的功率來(lái)推斷光源的功率,但在kW量級(jí)下,現(xiàn)有的測(cè)試系統(tǒng)中半導(dǎo)體和光電倍陰極設(shè)備(吸收光子用)的工作的功率水平會(huì)受到限制,很容易被燒壞,很難實(shí)現(xiàn)在線的實(shí)時(shí)高功率測(cè)量;而且分束比也無(wú)法完全地保證,從而帶來(lái)高不確定度的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的主要目的在于提供一種光功率測(cè)量裝置,以期部分地解決上述技術(shù)問(wèn)題中的至少之一。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種光功率測(cè)量裝置,包括:微機(jī)電系統(tǒng)-垂直腔面發(fā)射激光器、連接柱、受光平臺(tái)、光譜分析模塊和功率計(jì)算模塊;
所述微機(jī)電系統(tǒng)-垂直腔面發(fā)射激光器包括外延結(jié)構(gòu)和與所述外延結(jié)構(gòu)連接的微機(jī)電-布拉格反射鏡;所述微機(jī)電-布拉格反射鏡通過(guò)所述連接柱與所述受光平臺(tái)連接;所述受光平臺(tái)受到入射激光的照射產(chǎn)生輻射壓力,所述輻射壓力通過(guò)所述連接柱傳送至所述微機(jī)電-布拉格反射鏡,以使得所述微機(jī)電-布拉格反射鏡發(fā)生位移;垂直腔面發(fā)射激光器產(chǎn)生的激射光透過(guò)所述微機(jī)電-布拉格反射鏡出射;所述光譜分析模塊設(shè)置在所述激射光的光路上;所述光譜分析模塊用于測(cè)量所述激射光的波長(zhǎng);所述功率計(jì)算模塊與所述光譜分析模塊電連接;所述功率計(jì)算模塊用于根據(jù)所述激射光的波長(zhǎng)計(jì)算所述入射激光的光功率。
其中,當(dāng)所述入射激光的波長(zhǎng)與所述激射光的波長(zhǎng)的差值處于設(shè)定范圍時(shí),所述入射激光與所述激射光不會(huì)發(fā)生相干,所述光譜分析模塊接收沿所述連接柱傳輸且透過(guò)所述受光平臺(tái)的激射光。
其中,還包括設(shè)置在所述連接柱上的全反鏡;所述全反鏡用于將沿所述連接柱傳輸?shù)募ど涔夥瓷洌划?dāng)所述入射激光的波長(zhǎng)與所述激射光的波長(zhǎng)相等時(shí),所述入射激光與所述激射光發(fā)生相干,所述光譜分析模塊接收所述全反鏡反射的激射光。
其中,所述外延結(jié)構(gòu)包括:由底向上依次連接的襯底、下布拉格反射鏡、有源區(qū)和上布拉格反射鏡;所述上布拉格反射鏡上連接所述微機(jī)電-布拉格反射鏡。
其中,所述輻射壓力為:
其中,F(xiàn)為輻射壓力,k為彈性剛度,Δx為微機(jī)電-布拉格反射鏡發(fā)生位移的位移值,P為入射激光的光功率,c為光速,R(θ)為與入射角相關(guān)的反射率,θ為入射激光的入射角,α為吸收系數(shù),Φ為入射激光的發(fā)散角。
其中,所述功率計(jì)算模塊包括:
第一計(jì)算單元,用于由所述激射光的波長(zhǎng)和所述微機(jī)電系統(tǒng)-垂直腔面發(fā)射激光器的中心頻率計(jì)算波長(zhǎng)變化值;
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