[發(fā)明專(zhuān)利]一種基于高斯模板匹配的紅外點(diǎn)目標(biāo)識(shí)別方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110265696.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113095139B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-07-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 伍玲玲;謝春祥;王凱旋;張豐收;孟令南 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 上海航天控制技術(shù)研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G06V20/40 | 分類(lèi)號(hào): | G06V20/40;G06V10/75 |
| 代理公司: | 中國(guó)航天科技專(zhuān)利中心 11009 | 代理人: | 張曉飛 |
| 地址: | 201109 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 模板 匹配 紅外 目標(biāo) 識(shí)別 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于高斯模板匹配的紅外點(diǎn)目標(biāo)識(shí)別方法,屬于信息感知與識(shí)別技術(shù)領(lǐng)域,所述方法包括以下幾個(gè)步驟:步驟一:離線(xiàn)利用已知數(shù)據(jù)進(jìn)行高斯擬合;步驟二:對(duì)擬合得到的高斯模板數(shù)字化和歸一化;步驟三:待匹配區(qū)域與標(biāo)準(zhǔn)模板進(jìn)行匹配,得到相應(yīng)的匹配系數(shù);步驟四:根據(jù)匹配系數(shù)判斷當(dāng)前區(qū)域是否為目標(biāo)。本發(fā)明提出的基于高斯模板匹配的紅外點(diǎn)目標(biāo)識(shí)別方法,該方法在剔除云邊緣和其他不滿(mǎn)足高斯分布的干擾時(shí)效果較好。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于信息感知與識(shí)別技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于高斯模板匹配的紅外點(diǎn)目標(biāo)識(shí)別方法。
背景技術(shù)
紅外成像系統(tǒng)通過(guò)接收熱輻射,將熱信號(hào)轉(zhuǎn)換為對(duì)應(yīng)的電信號(hào),電信號(hào)的大小對(duì)應(yīng)了輻射能量的高低,電信號(hào)轉(zhuǎn)換為圖像輸出后就得到了紅外圖像,紅外成像主要受目標(biāo)的灰度、目標(biāo)材質(zhì)、大氣衰減等因素影響,在目標(biāo)成像的同時(shí),背景也同樣經(jīng)過(guò)成像系統(tǒng)成像,背景根據(jù)目標(biāo)所處環(huán)境的不同,包括天空背景、地面背景以及海面背景等。
一個(gè)理想的點(diǎn)目標(biāo)經(jīng)過(guò)光學(xué)系統(tǒng)的衍射后能量被分散,最后成像在探測(cè)器上時(shí),不再是一個(gè)孤零零的點(diǎn),而是一個(gè)近似高斯分布的光斑,而其他背景往往不具備該特性。從而可根據(jù)該特性,將目標(biāo)從背景中識(shí)別出來(lái)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題是:針對(duì)上述內(nèi)容,本發(fā)明提出一種基于高斯模板匹配的紅外點(diǎn)目標(biāo)識(shí)別方法,該方法在天空中有云邊緣和其他不滿(mǎn)足高斯分布的干擾時(shí)效果較好。
本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種基于高斯模板匹配的紅外點(diǎn)目標(biāo)識(shí)別方法,包括以下幾個(gè)步驟:
步驟一:離線(xiàn)利用已知數(shù)據(jù)進(jìn)行高斯擬合,得到相應(yīng)的高斯參數(shù);
步驟二:對(duì)擬合得到的高斯模板數(shù)字化和歸一化;
步驟三:采用相關(guān)法進(jìn)行匹配,將待匹配區(qū)域與歸一化后的5個(gè)模板一一進(jìn)行匹配,得到5個(gè)相應(yīng)的匹配系數(shù)cov1-cov5;
步驟四:根據(jù)匹配系數(shù)對(duì)當(dāng)前區(qū)域進(jìn)行目標(biāo)識(shí)別。
所述步驟一的具體過(guò)程為:
選擇5*5的標(biāo)準(zhǔn)模板,選取相應(yīng)的圖像序列,利用高斯擬合得到相應(yīng)的高斯參數(shù);二維高斯方程寫(xiě)成如下形式:
其中,G為高斯中心的灰度,(x0,y0)為高斯模板中心坐標(biāo),σx和σy分別為兩個(gè)方向上的標(biāo)準(zhǔn)差,(x,y)為參與擬合的像素點(diǎn)的坐標(biāo),f(x,y)為對(duì)應(yīng)(x,y)像素點(diǎn)的灰度,對(duì)方程兩邊取對(duì)數(shù)并乘以f整理得:
設(shè)參與擬合的像素點(diǎn)的個(gè)數(shù)為N,f代表對(duì)應(yīng)該坐標(biāo)的像素點(diǎn)的灰度,上述方程寫(xiě)成矩陣的形式:
F=BC
其中F為N*1的矩陣,B為N*5的矩陣,C為5*1的矩陣,利用最小二乘法可得:
C=(BTB)-1BTF
得到G,x0,y0,σx,σy五個(gè)參數(shù)的值即步驟一中的高斯參數(shù),由于有5個(gè)參數(shù),最少需要參與擬合的像素點(diǎn)個(gè)數(shù)N=5。
所述步驟二的具體過(guò)程為:
對(duì)5種不同的高斯模板進(jìn)行數(shù)字化和歸一化,得到數(shù)字化和歸一化后的模板:
a)高斯中心完全落在5*5模板的中心;
b)高斯中心落在模板中心右下四個(gè)像素,分別包括:模板中
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