[發(fā)明專利]一種平滑微透鏡結(jié)構(gòu)表面的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110265370.8
• 申請日: 2021-03-11
• 公開（公告）號: CN113031402B
• 公開（公告）日: 2022-08-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃勝洲;謝芳琳;王雷;王風(fēng)濤;韋山;吳中平;孫家樂
• 申請（專利權(quán)）人: 安徽工程大學(xué)
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 北京風(fēng)雅頌專利代理有限公司 11403
• 代理人: 袁林濤

1.一種平滑微透鏡結(jié)構(gòu)表面的制備方法，應(yīng)用于平滑微透鏡結(jié)構(gòu)表面的制備系統(tǒng)，其特征在于，

所述制備系統(tǒng)包括：曝光光源，用于提供曝光光線，沿所述曝光光線照射方向順次設(shè)置有勻光準(zhǔn)直元件、DMD芯片、投影物鏡以及三維精密平臺，其中，所述勻光準(zhǔn)直元件用于將曝光光線處理為均勻光束；所述DMD芯片用于將所述均勻光束反射至投影物鏡；所述投影物鏡用于將所述均勻光束聚焦至三維精密平臺的精準(zhǔn)曝光位置，以在工件表面生成曝光圖形；其中，還包括連接至所述投影物鏡的機(jī)械振動輔助機(jī)構(gòu)，所述機(jī)械振動輔助機(jī)構(gòu)驅(qū)動所述投影物鏡產(chǎn)生正弦振動或余弦振動；

其中，所述制備方法包括：

開啟曝光光源，產(chǎn)生曝光光線，勻光準(zhǔn)直元件用于將曝光光線處理為均勻光束，投影物鏡將所述均勻光束聚焦至三維精密平臺的精準(zhǔn)曝光位置，以在工件表面生成曝光圖形；

開啟機(jī)械振動輔助機(jī)構(gòu)，驅(qū)動所述投影物鏡產(chǎn)生正弦振動或余弦振動，以模糊DMD像素間隙，消除曝光圖形的像素量化誤差；

使用顯影液對微透鏡結(jié)構(gòu)圖形進(jìn)行顯影；

其中，所述機(jī)械振動輔助機(jī)構(gòu)包括驅(qū)動桿、單向振動發(fā)生器以及正弦/余弦函數(shù)發(fā)生器，所述正弦/余弦函數(shù)發(fā)生器連接至所述單向振動發(fā)生器，所述驅(qū)動桿的一端連接至所述單向振動發(fā)生器的輸出端，另一端連接至所述投影物鏡；

其中，使機(jī)械振動輔助機(jī)構(gòu)的振動方向在曝光圖形坐標(biāo)系的對角線上，以同時模糊X、Y兩個方向的DMD像素間隙。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平滑微透鏡結(jié)構(gòu)表面的制備方法，其特征在于，通過光學(xué)顯微鏡測量微透鏡結(jié)構(gòu)的中心偏移量來表征相應(yīng)的振動幅度，進(jìn)而獲得振動頻率與振動幅度的量化關(guān)系。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平滑微透鏡結(jié)構(gòu)表面的制備方法，其特征在于，基于DMD像素離散間隙大小來調(diào)節(jié)正弦/余弦函數(shù)發(fā)生器的頻率幅值參數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的平滑微透鏡結(jié)構(gòu)表面的制備方法，其特征在于，所述DMD芯片的單個微鏡尺寸為10.8微米或7.6微米。