[發明專利]柔性透明導電膜及其制備方法和應用

在審

• 申請號: 202110265315.9
• 申請日: 2021-03-11
• 公開（公告）號: CN113140353A
• 公開（公告）日: 2021-07-20
• 發明（設計）人: 劉偉峰;臧美秀;邢愛;牛娟妮;程媛;劉賢豪;侯麗新;王亞麗
• 申請（專利權）人: 中國樂凱集團有限公司
• 主分類號: H01B5/14
• 分類號: H01B5/14;H01B13/00;G02F1/155
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 周慧云

1.一種柔性透明導電膜，其特征在于，包括：依次疊層設置的透明基膜、第一透明電介質層、合金層、第二透明電介質層和阻擋層。

2.根據權利要求1所述的柔性透明導電膜，其特征在于，所述阻擋層的厚度為1-100nm，優選10-30nm。

3.根據權利要求1所述的柔性透明導電膜，其特征在于，所述阻擋層的材質選自Al、Si、Zr、Ti、Hf、Ta、In、Sn和Zn的氧化物中的至少之一。

4.根據權利要求1所述的柔性透明導電膜，其特征在于，所述第一透明電介質層的厚度為5-100nm，優選10-60nm；

任選地，所述第一透明電介質層的材質選自氧化銦錫、五氧化二鈮、二氧化鈦、氧化鉍、三氧化鎢、氧化鎳、氧化鋅、氧化鎵鋅、氧化銦鋅、二氧化硅、二氧化鉿、氧化鋯、鋁摻雜氧化鋅、氧化鋁、氧化銦、二氧化錫、硫化鋅、氮化硅和氟化鎂中的至少之一。

5.根據權利要求1所述的柔性透明導電膜，其特征在于，所述第二透明電介質層的厚度為5-100nm，優選10-60nm；

任選地，所述第二透明電介質層的材質選自氧化銦錫、五氧化二鈮、二氧化鈦、氧化鉍、三氧化鎢、氧化鎳、氧化鋅、氧化鎵鋅、氧化銦鋅、二氧化硅、二氧化鉿、氧化鋯、鋁摻雜氧化鋅、氧化鋁、氧化銦、二氧化錫、硫化鋅、氮化硅和氟化鎂中的至少之一。

6.根據權利要求1-5任一項所述的柔性透明導電膜，其特征在于，所述合金層的厚度為0.1-30nm，優選5-20nm；

任選地，所述合金層的材質選自銀與金、鋁、銅、鈀、鈦、鎳、鉻、鉭和鍺中的至少一種金屬的合金，且所述合金層中Ag的重量比例不小于80％。

7.根據權利要求1-5任一項所述的柔性透明導電膜，其特征在于，所述透明基膜的厚度為5-500μm，優選20-300μm；

任選地，所述透明基膜的材質選自聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亞胺、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯和聚苯乙烯中的至少之一，優選聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚酰亞胺。

8.一種制備權利要求1-7任一項所述的柔性透明導電膜的方法，其特征在于，包括：

(1)在透明基膜上制備第一透明電介質層；

(2)在所述第一透明電介質層上制備合金層；

(3)在所述合金層上制備第二透明電介質層；

(4)在所述第二透明電介質層制備阻擋層。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，采用物理氣相沉積法在所述透明基膜上制備所述第一透明電介質層；

任選地，在步驟(2)中，采用物理氣相沉積法在所述第一透明電介質層上制備所述合金層；

任選地，在步驟(3)中，采用物理氣相沉積法在所述合金層上制備所述第二透明電介質層；

任選地，所述物理氣相沉積法為電子束蒸發法、磁控濺射法、脈沖激光沉積法或者脈沖離子束沉積法；

任選地，在步驟(4)中，采用磁控濺射法或等離子增強化學氣相沉積法在所述第二透明介質層上制備所述阻擋層。

10.一種柔性電致變色器件，其特征在于，所述柔性電致變色器件是由權利要求1-7任一項所述的柔性透明導電膜或者權利要求8或9所述方法制備的柔性透明導電膜作為電極制備得到的。