[發(fā)明專利]一種Mo-Si-B/TiN復(fù)合涂層及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110265206.7 | 申請日: | 2021-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN113046690A | 公開(公告)日: | 2021-06-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周春根;侯慶艷 | 申請(專利權(quán))人: | 北京航空航天大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/35;C23C14/02;B22F7/04;B22F9/04;B22F3/105 |
| 代理公司: | 北京航智知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11668 | 代理人: | 黃川;史繼穎 |
| 地址: | 100191*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 mo si tin 復(fù)合 涂層 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種Mo?Si?B/TiN復(fù)合涂層及其制備方法,Mo?Si?B/TiN復(fù)合涂層由TiN阻擴(kuò)散層和Mo?Si?B混合層組成,TiN阻擴(kuò)散層可以完全阻止制備過程中涂層與基體中元素的互擴(kuò)散;在高溫1200℃~1300℃下氧化100h后,氧化增重0.52mg/cm3~0.78mg/cm3,在Mo?Si?B混合層的表面形成晶態(tài)SiO2和非晶態(tài)硼硅酸鹽混合層,可以阻止Mo?Si?B混合層進(jìn)一步被氧化,氧化過程中TiN阻擴(kuò)散層能夠有效抑制Mo?Si?B混合層與基體間互擴(kuò)散,從而保證Mo?Si?B/TiN復(fù)合涂層中有足夠的抗氧化元素,有利于提高M(jìn)o?Si?B/TiN復(fù)合涂層的抗氧化壽命。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及超高溫合金涂層材料技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種Mo-Si-B/TiN復(fù)合涂層及其制備方法。
背景技術(shù)
Nb-Si基合金具有高熔點(diǎn)、低密度以及在高溫下強(qiáng)度高等優(yōu)點(diǎn),這使它具有潛力成為新一代飛機(jī)發(fā)動機(jī)的結(jié)構(gòu)材料。但Nb-Si基合金的抗氧化性能較差,這阻礙了它的應(yīng)用。通過添加Cr、Al、Ti和Hf等抗氧化元素可以在一定程度上提高合金的抗氧化性能,但會犧牲合金的斷裂韌性和蠕變性能等力學(xué)性能,因此,在Nb-Si基合金表面制備抗氧化性能優(yōu)異的保護(hù)性涂層是提高Nb-Si基合金抗氧化性能的有效方法。
Mo-Si-B合金具有優(yōu)良的抗氧化性能,有望成為抗氧化涂層材料。B的添加可以使Mo-Si-B涂層在氧化過程中形成致密的、流動性較好的、抗氧化性能優(yōu)異的玻璃態(tài)硼硅酸鹽層。但現(xiàn)有研究表明Mo-Si-B涂層與Nb-Si基合金之間容易發(fā)生嚴(yán)重的互擴(kuò)散,Mo-Si-B涂層中的Si向基體擴(kuò)散,使Mo-Si-B涂層中Si含量降低,當(dāng)Si含量降低到一定程度,MoSi2相會退化成抗氧化性能差的脆性相(Mo5Si3相),無法再形成致密的氧化膜,且脆性相容易形成裂紋,這些都加速了Mo-Si-B涂層失效。因此,為了延長Mo-Si-B涂層的壽命,亟需抑制Mo-Si-B涂層與基體之間的互擴(kuò)散。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供了一種Mo-Si-B/TiN復(fù)合涂層及其制備方法,用以抑制Mo-Si-B混合層與基體之間的互擴(kuò)散,提高涂層的使用壽命。
本發(fā)明提供的一種Mo-Si-B/TiN復(fù)合涂層,包括:在Nb-Si基合金基體上依次層疊設(shè)置的TiN阻擴(kuò)散層和Mo-Si-B混合層;其中,
所述Mo-Si-B混合層包括SiO2、MoSi2和Mo5Si3三相,還包括MoB相或Mo2B5相。
在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,在本發(fā)明提供的上述Mo-Si-B/TiN復(fù)合涂層中,所述Nb-Si基合金基體為Nb-16Si-22Ti-17Cr-2Al-2Hf基體。
在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,在本發(fā)明提供的上述Mo-Si-B/TiN復(fù)合涂層中,所述TiN阻擴(kuò)散層的厚度為2μm~6μm。
在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,在本發(fā)明提供的上述Mo-Si-B/TiN復(fù)合涂層中,所述Mo-Si-B混合層的厚度為85μm~980μm。
本發(fā)明還提供了一種Mo-Si-B/TiN復(fù)合涂層的制備方法,包括如下步驟:
S1:以Nb-Si-Ti-Cr-Al-Hf六元合金為第一合成原料,對第一合成原料依次進(jìn)行非自耗真空電弧熔煉和感應(yīng)熔煉得到Nb-Si基合金錠,在1250℃條件下退火預(yù)設(shè)時長t,切割為直徑為8mm~12mm、厚度為2mm~3mm的圓片試樣作為基體;其中,0ht≤60h;
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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