[發(fā)明專利]一種等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)設(shè)計方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110262623.6 | 申請日: | 2021-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN112926248B | 公開(公告)日: | 2023-05-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馮雪健;鄧浩川;滿良;霍超穎;韋笑;殷紅成 | 申請(專利權(quán))人: | 北京環(huán)境特性研究所 |
| 主分類號: | G06F30/23 | 分類號: | G06F30/23;G06F30/27;G06N3/006 |
| 代理公司: | 北京格允知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609 | 代理人: | 張莉瑜 |
| 地址: | 100854*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 等離子體 光子 晶體 結(jié)構(gòu)設(shè)計 方法 | ||
1.一種等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)設(shè)計方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1、根據(jù)等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)的光子帶隙要求,構(gòu)造相應(yīng)的損失函數(shù);
S2、構(gòu)建等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)模型,確定等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)的各參數(shù)及對應(yīng)的變化范圍,采用粒子群優(yōu)化方法對各參數(shù)構(gòu)成的參數(shù)向量進行初始化;
S3、將初始化結(jié)果代入到等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)模型對應(yīng)的計算模型,利用時域有限差分方法進行透射系數(shù)的計算,得到相應(yīng)的損失函數(shù)值;
S4、通過粒子群優(yōu)化方法,迭代更新粒子的最優(yōu)參數(shù)向量和種群最優(yōu)參數(shù)向量;
S5、根據(jù)預(yù)先設(shè)定的迭代截止條件,結(jié)束粒子群優(yōu)化方法的優(yōu)化過程,確定滿足光子帶隙要求的等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)參數(shù);
所述步驟S2中,確定等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)的各參數(shù)時,各參數(shù)包括:等離子體諧振頻率ωp、等離子體碰撞頻率ν、介質(zhì)的介電常數(shù)ε、介質(zhì)的磁導(dǎo)率μ、介質(zhì)的電導(dǎo)率σ,以及單層的厚度d,構(gòu)成等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)的參數(shù)向量g=[ωp,υ,ε,μ,σ,d]。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)設(shè)計方法,其特征在于:
所述步驟S1中,構(gòu)造損失函數(shù)時,若等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)的光子帶隙要求包括在(f1~f2)頻段范圍內(nèi),透射系數(shù)小于等于設(shè)定值C,則損失函數(shù)Cost的表達式為:
Cost=max(Tc(f1~f2))≤C
其中,Tc表示透射系數(shù),max(Tc(f1~f2))表示在(f1~f2)頻段范圍內(nèi)的透射系數(shù)最大值。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)設(shè)計方法,其特征在于:
所述步驟S2中,構(gòu)建等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)模型時,等離子體與介質(zhì)分層交替排列,總計M層,M為大于等于11小于20的奇數(shù),兩側(cè)的外邊界層均為等離子體,入射波為平面波,從一側(cè)的外邊界層垂直入射,每層的等離子體或介質(zhì)的厚度均為d。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體光子晶體結(jié)構(gòu)設(shè)計方法,其特征在于:
所述步驟S2中,采用粒子群優(yōu)化方法對各參數(shù)構(gòu)成的參數(shù)向量進行初始化時,對參數(shù)向量g=[ωp,υ,ε,μ,σ,d]中的每個參數(shù)初始化,包括:
ωp=(a2-a1)·rand+a1
ν=(b2-b1)·rand+b1
ε=(c2-c1)·rand+c1
μ=(q2-q1)·rand+q1
σ=(m2-m1)·rand+m1
d=(s2-s1)·rand+s1
其中,ωp的變化范圍為a1≤ωp≤a2,ν的變換范圍為b1≤ν≤b2,ε的變化范圍為c1≤ε≤c2,μ的變化范圍為q1≤μ≤q2,σ的變化范圍為m1≤σ≤m2,d的變化范圍為s1≤d≤s2。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京環(huán)境特性研究所,未經(jīng)北京環(huán)境特性研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110262623.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





