[發(fā)明專利]電磁鐵控制裝置及電磁鐵系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110262091.6
• 申請(qǐng)日: 2016-05-09
• 公開（公告）號(hào): CN113035493B
• 公開（公告）日: 2022-09-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 大橋知范;茨田敏光;山崎裕延;工藤美沙子;佐藤一樹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社荏原制作所
• 主分類號(hào): H01F7/06
• 分類號(hào): H01F7/06;H05H1/16;H01L21/3065
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 陳偉;王娟娟

1.一種電磁鐵控制裝置，用于控制流到電磁鐵的線圈的電流，所述電磁鐵具有軛鐵和所述線圈，其特征在于，具備：

指令值獲取部，其構(gòu)成為獲取與通過(guò)使電流流到所述線圈而得到的磁通密度的目標(biāo)值相當(dāng)?shù)拇磐芏戎噶钪怠⒒蚰軌虼_定所述磁通密度指令值的信息；以及

電流值決定部，其基于所述磁通密度指令值來(lái)決定流到所述線圈的電流的值，

所述電流值決定部構(gòu)成為執(zhí)行第1處理、第2處理和第3處理，

所述第1處理中，在從所述軛鐵的消磁狀態(tài)使磁通密度的絕對(duì)值增大的情況下，基于第1函數(shù)來(lái)決定流到所述線圈的電流的值，

所述第2處理中，在從所述軛鐵的磁化狀態(tài)使磁通密度的絕對(duì)值減小的情況下，基于第2函數(shù)來(lái)決定流到所述線圈的電流的值，

所述第3處理中，在從所述軛鐵的磁化狀態(tài)使磁通密度的絕對(duì)值增大的情況下，基于第3函數(shù)來(lái)決定流到所述線圈的電流的值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁鐵控制裝置，其特征在于，

所述第1函數(shù)、所述第2函數(shù)及所述第3函數(shù)是表示磁通密度與電流的關(guān)系的函數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的電磁鐵控制裝置，其特征在于，

所述第1函數(shù)、所述第2函數(shù)及所述第3函數(shù)是線性函數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電磁鐵控制裝置，其特征在于，

所述線性函數(shù)是分段線性函數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁鐵控制裝置，其特征在于，

還具備對(duì)所述軛鐵進(jìn)行消磁的消磁部。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁鐵控制裝置，其特征在于，

所述電流值決定部構(gòu)成為，在將用于決定流到所述線圈的電流的值的處理內(nèi)容從所述第1處理切換成所述第2處理、從所述第2處理切換成所述第3處理、或從所述第3處理切換成所述第2處理的情況下，根據(jù)該切換時(shí)的電流值，使用對(duì)所述第1函數(shù)、所述第2函數(shù)及所述第3函數(shù)中與切換后的處理對(duì)應(yīng)的函數(shù)的各項(xiàng)的至少一項(xiàng)乘以規(guī)定系數(shù)而得到的函數(shù)，來(lái)決定流到所述線圈的電流的值。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁鐵控制裝置，其特征在于，

所述電流值決定部構(gòu)成為，在所述指令值獲取部獲取到新的磁通密度指令值的情況下，根據(jù)前次獲取到的所述磁通密度指令值和新獲取到的所述磁通密度指令值的變化幅度，使用對(duì)所述第1函數(shù)、所述第2函數(shù)或所述第3函數(shù)的各項(xiàng)的至少一項(xiàng)乘以規(guī)定系數(shù)而得到的函數(shù)，來(lái)決定流到所述線圈的電流的值。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電磁鐵控制裝置，其特征在于，

所述線圈具有多個(gè)線圈，

所述電流值決定部構(gòu)成為，反映由所述多個(gè)線圈各自產(chǎn)生的磁場(chǎng)的影響地，決定流到所述線圈的電流的值。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電磁鐵控制裝置，其特征在于，

所述電流值決定部構(gòu)成為，在所述指令值獲取部獲取到新的磁通密度指令值的情況下，根據(jù)前次獲取到的所述磁通密度指令值和新獲取到的所述磁通密度指令值的變化幅度，使用對(duì)所述第1函數(shù)、所述第2函數(shù)或所述第3函數(shù)的各項(xiàng)的至少一項(xiàng)乘以規(guī)定系數(shù)而得到的函數(shù)，或者使用對(duì)所述第1函數(shù)、所述第2函數(shù)或所述第3函數(shù)實(shí)施與規(guī)定函數(shù)之間的相乘及相加中的至少一方而得到的函數(shù)，來(lái)決定流到所述線圈的電流的值。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的電磁鐵控制裝置，其特征在于，

所述電流值決定部構(gòu)成為，在所述多個(gè)線圈中的至少兩個(gè)形成相同磁路的情況下，通過(guò)對(duì)基于所述第1函數(shù)、所述第2函數(shù)或所述第3函數(shù)決定出的電流值乘以規(guī)定函數(shù)或規(guī)定系數(shù)，來(lái)修正流到所述線圈的電流。

11.一種電磁鐵系統(tǒng)，其特征在于，具備：

權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的電磁鐵控制裝置；和

所述電磁鐵。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的電磁鐵系統(tǒng)，其特征在于，具備：

傳感器，其檢測(cè)由所述線圈產(chǎn)生的磁場(chǎng)的磁通密度；以及

補(bǔ)償部，其基于所述磁通密度指令值與由所述傳感器檢測(cè)出的磁通密度值之間的差分，以該差分變小的方式補(bǔ)償流到所述線圈的電流。