[發(fā)明專利]顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110259811.3 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113721399A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李龍熙;申?yáng)|熹;李根虎 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1362 | 分類號(hào): | G02F1/1362;G02F1/1343;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286 | 代理人: | 韓芳;劉燦強(qiáng) |
| 地址: | 韓國(guó)京畿*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 | ||
1.一種顯示裝置,所述顯示裝置包括:
多條柵極線;
多條數(shù)據(jù)線;以及
多個(gè)像素,連接到所述多條柵極線和所述多條數(shù)據(jù)線,
其中,所述多個(gè)像素中的每個(gè)像素包括:晶體管,包括柵電極、第一電極、第二電極和溝道半導(dǎo)體;像素電極,連接到所述第二電極且包括多個(gè)細(xì)分支部和連接到所述第二電極的連接器;以及目標(biāo)圖案,與設(shè)置在相鄰的細(xì)分支部之間的細(xì)狹縫疊置,其中,所述相鄰的細(xì)分支部中的至少一個(gè)細(xì)分支部直接連接到所述連接器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述目標(biāo)圖案與直接連接到所述連接器的所述相鄰的細(xì)分支部部分地疊置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述目標(biāo)圖案與所述多條柵極線和所述柵電極設(shè)置在同一層處,并且與所述多條柵極線和所述柵電極物理地且電氣地分開(kāi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述目標(biāo)圖案是與任何其它導(dǎo)體絕緣的浮置圖案。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述目標(biāo)圖案沿著第一方向具有6μm或更小的尺寸,并且沿著第二方向具有6μm或更小的尺寸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述目標(biāo)圖案在平面圖中通過(guò)所述細(xì)狹縫暴露。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述像素電極還包括水平主干部和豎直主干部,并且
其中,直接連接到所述連接器的所述相鄰的細(xì)分支部設(shè)置在所述連接器與所述豎直主干部之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,所述顯示裝置還包括覆蓋所述多條柵極線、所述多條數(shù)據(jù)線、所述柵電極、所述第一電極、所述第二電極和所述溝道半導(dǎo)體的光阻擋構(gòu)件,
其中,所述目標(biāo)圖案設(shè)置在由所述光阻擋構(gòu)件限定的像素區(qū)域中。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示裝置,其中,所述目標(biāo)圖案在平面圖中沿著第一方向和第二方向與所述光阻擋構(gòu)件分隔開(kāi)預(yù)定距離。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中,所述第一電極的部分從數(shù)據(jù)線沿著第一方向延伸,并且所述目標(biāo)圖案設(shè)置在連接所述像素電極的中心和所述第一電極的所述部分的延長(zhǎng)線上。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于三星顯示有限公司,未經(jīng)三星顯示有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110259811.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





