[發明專利]一種高膜厚高弧度3D后蓋膜片的制備工藝

在審

• 申請號: 202110259368.X
• 申請日: 2021-03-10
• 公開（公告）號: CN113046711A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 殷清
• 申請（專利權）人: 藍思科技（長沙）有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;H04M1/02;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 付麗

本發明提供了一種高膜厚高弧度3D后蓋膜片的制備工藝，本工藝以PET為基材，通過UV轉印在PET上形成紋理層，通過鍍膜(主材料Nb靶材/Si靶材)形成高厚度的NCVM膜層，后通過絲印油墨，形成蓋底油墨層，通過鐳射切割形成所需要的菲林單體，此種膜片具有高耐折性，本發明主要通過優化UV轉印的膠水以及NCVM工序的鍍膜材料及條件，來優化膜片的抵抗膜層破裂的能力，使其在通過真空貼合后，即使在水汽的影響下，也不會出現膜裂不良，從而提升產品的外觀性能，同步滿足產品的信賴性測試要求。

技術領域

本發明屬于鍍膜技術領域，尤其涉及一種高膜厚高弧度3D后蓋膜片的制備工藝。

背景技術

Deco-film工藝目前主要應用于3D手機后蓋，隨著手機蓋板工藝越來越成熟，手機終端逐步向高玻璃弧度與高炫光膜片方向發展，這對膜片提出了新的性能要求，尤其是漸變鍍膜工藝帶來了新的挑戰。

膜片的常規制作工藝為透明PET膜UV轉印+NCVM鍍膜+絲印+鐳射切割+成品貼合，常規設計的玻璃高度一般小于4.0，膜層厚度一般300nm，當玻璃的弧度高于4.0，膜片的NCVM厚度超過400nm的時候，因膜層厚度特別厚，膜層成品貼合后的玻璃：第一，因弧角本身比較大，膜片本身存在拉伸；第二，在水汽的作用下，弧角區域受水汽影響，UV轉印膠水膨脹拉伸，因鍍膜層比較厚，在膜層堆積很疏松的狀況下，比較脆弱，因膠水形變導致膜層破裂，四個R角區域特別容易呈現膜層破裂，直接影響產品的外觀。

發明內容

本發明的目的在于提供一種高膜厚高弧度3D后蓋膜片的制備工藝，本發明中的制備工藝可有效解決高膜厚高弧度的3D后蓋菲林成品，在水汽作用下形成的R角膜裂而導致的信賴性不良的問題。

本發明提供一種高膜厚高弧度3D后蓋膜片的制備工藝，包括：

A)采用UV膠水在PET基材上進行UV轉印，在所述PET基材表面形成紋理層；

B)在所述紋理層的表面依次磁控濺射Si層、Nb₂O₅層和SiO₂層；

形成所述Nb₂O₅層的磁控濺射條件為：真空度1.0～5.0×10^-3Pa，Ar₂流量700～900sccm，O₂流量130～150sccm，濺射功率為10～20KW；

C)重復所述步驟B)中依次磁控濺射Nb₂O₅層和SiO₂層的步驟，直至獲得所需顏色；

D)在SiO₂層的表面磁控濺射Si層，得到NCVM鍍層；

E)在所述NCVM鍍層表面進行絲印，激光切割和真空貼合，得到高膜厚高厚度3D后蓋膜片。

優選的，所述UV膠水的硬度為2H～3H。

優選的，形成所述Si層的磁控濺射條件為：真空度1.0～5.0×10^-3Pa，Ar₂流量700～900sccm，濺射功率為10～20KW。

優選的，形成所述Nb₂O₅層的磁控濺射條件為：真空度2.0～4.0×10^-3Pa，Ar₂流量800～850sccm，O₂流量130～150sccm，濺射功率為14～16KW。

優選的，形成所述SiO₂層的磁控濺射條件為：真空度1.0～5.0×10^-3Pa，Ar₂流量500～700sccm，O₂流量400～800sccm，濺射功率為10～20KW。