[發(fā)明專利]基于石墨烯的雙通道柔性多態(tài)應(yīng)力傳感器的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110258808.X | 申請(qǐng)日: | 2021-03-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113029404B | 公開(公告)日: | 2022-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃文;李奕奕;龔天巡;林媛;張曉升 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 電子科技大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01L1/22 | 分類號(hào): | G01L1/22 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 石墨 雙通道 柔性 應(yīng)力 傳感器 制備 方法 | ||
1.一種柔性可穿戴力學(xué)傳感器,其特征在于:該傳感器包括上柔性襯底、上敏感層、上電極層、下電極層、下敏感層、下柔性微結(jié)構(gòu)化襯底、封裝結(jié)構(gòu);所述上柔性襯底及上敏感層為未經(jīng)表面微結(jié)構(gòu)化處理的PDMS襯底及于其表面成膜的石墨烯薄膜;下柔性襯底及下敏感層為表面微結(jié)構(gòu)化處理的PDMS襯底及于其表面成膜的石墨烯薄膜;所述上電極層包括銀電極C及其電極引出端,包括銅線、導(dǎo)電膠帶,其中銀電極與上敏感層相連,銅線與銀電極相連,通過導(dǎo)電膠帶固定;下電極包括銀電極A、B及其電極引出端,各自包銅線、導(dǎo)電膠帶,其中A、B銀電極分別位于下敏感層的兩端,皆與下敏感層相連,兩端各有銅線與銀電極相連,通過導(dǎo)電膠帶固定;所述上柔性襯底及下柔性襯底通過粘性PDMS封裝。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性可穿戴力學(xué)傳感器,其特征在于:所述下柔性襯底及下敏感層,石墨烯分布在表面具有網(wǎng)格狀溝道微結(jié)構(gòu)的PDMS襯底表面且填充于該溝道中,溝道寬10-50μm,深30-80μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的柔性可穿戴力學(xué)傳感器,其特征在于:所述柔性力學(xué)傳感器具有雙通道結(jié)構(gòu),可同時(shí)對(duì)AB、AC電極間的電阻變化進(jìn)行監(jiān)測(cè),AC電極端之間的電阻變化主要受上下敏感層之間的壓力影響;AB電極端之間的電阻變化主要受下敏感層兩端的應(yīng)力影響。
4.如權(quán)利要求1所述柔性可穿戴力學(xué)傳感器的下柔性襯底及下敏感層的制備方法,包括以下步驟:
步驟1、設(shè)計(jì)線寬10-50μm,網(wǎng)格邊長50-200μm的方形網(wǎng)格圖案,光刻制得掩膜版;所述光刻制得掩膜版用于干法刻蝕硅片,刻蝕深度30-80μm;
步驟2、利用步驟1刻蝕后的硅片,噴涂脫模劑,灌注PDMS的A膠B膠混合液進(jìn)行倒模,加熱成膜、剝離后獲得具有表面方形網(wǎng)格微溝道的PDMS柔性襯底,溝道寬10-50μm,深30-80μm,倒模前后經(jīng)過多次抽真空處理;
步驟3、將石墨烯水分散液稀釋并抽濾,得到石墨烯導(dǎo)電油墨;用毛刷將石墨烯導(dǎo)電油墨刷到步驟2制得的微結(jié)構(gòu)PDMS柔性襯底表面,干燥成膜后獲得基于表面微結(jié)構(gòu)柔性襯底的石墨烯材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的柔性可穿戴力學(xué)傳感器的下柔性襯底及下敏感層的制備方法,其特征在于:所述步驟2倒模前將PDMS的A膠B膠混合液靜置30min后,進(jìn)行10min的抽真空處理,倒模過程中再進(jìn)行20min的抽真空處理;抽真空后將灌注了混合液的硅片置于70℃熱源上,成膜時(shí)間2個(gè)小時(shí)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的柔性可穿戴力學(xué)傳感器的下柔性襯底及下敏感層的制備方法,其特征在于:所述步驟3的石墨
烯水分散液濃度范圍1-3mg/ml,稀釋倍數(shù)10-20倍,抽濾時(shí)間5-12s。
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