[發(fā)明專利]光學(xué)成像系統(tǒng)及頭戴式顯示設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110258261.3 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112925102A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-06-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓昕彥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京愛(ài)奇藝智能科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02B27/01 | 分類號(hào): | G02B27/01;G02B27/28 |
| 代理公司: | 北京繪聚高科知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11832 | 代理人: | 羅碩 |
| 地址: | 210038 江蘇省南京市南*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 成像 系統(tǒng) 頭戴式 顯示 設(shè)備 | ||
1.一種光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,包括:
第一1/4波片,用于將第一類型偏振光轉(zhuǎn)換為圓偏振光;
半透半反鏡,用于透射一部分圓偏振光,反射另一部分圓偏振光;
第二1/4波片,用于將所述半透半反鏡透射的所述圓偏振光轉(zhuǎn)換為第二類型偏振光,以及將所述半透半反鏡反射的所述圓偏振光轉(zhuǎn)換為第一類型偏振光;
分光單元,具有入射面、第一分光面和第二分光面,所述第一分光面和所述第二分光面對(duì)稱設(shè)置在雙目中軸線的兩側(cè),所述第一分光面和所述第二分光面均配置為透射所述第一類型偏振光,以及反射所述第二類型偏振光;
所述第一類型偏振光依次經(jīng)所述第一1/4波片、所述半透半反鏡透射及所述第二1/4波片后轉(zhuǎn)換為第二類型偏振光,所述第二類型偏振光經(jīng)過(guò)入射面進(jìn)入所述分光單元,依次經(jīng)過(guò)所述第一分光面、所述第二分光面的反射作用后,所述第二類型偏振光再次經(jīng)所述第二1/4波片變?yōu)閳A偏振光,所述圓偏振光經(jīng)所述半透半反鏡反射后再次經(jīng)過(guò)所述第二1/4波片轉(zhuǎn)換為第一類型偏振光,所述第一類型偏振光最后經(jīng)所述第二分光面透射至人眼觀察位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,包括:
顯示器,用于向所述第一1/4波片發(fā)射偏振光線,所述顯示器設(shè)置兩個(gè),并且與人眼觀察位置對(duì)應(yīng)布置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,包括:
顯示放大單元,顯示放大單元對(duì)稱分布在雙目中軸線兩側(cè);所述雙目中軸線為雙目正視屏幕時(shí),雙目中心連線的中點(diǎn)位置的法線。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,包括:
顯示放大單元,顯示放大單元設(shè)置在所述顯示器和所述第一1/4波片之間位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,包括:
顯示放大單元,顯示放大單元設(shè)置在所述第一1/4波片之間和所述半透半反鏡之間位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,所述第一分光面和所述第二分光面設(shè)置為平面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,所述第一分光面和所述第二分光面設(shè)置為曲面。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,所述半透半反鏡的為平面鏡或者曲面鏡。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的光學(xué)成像系統(tǒng),其特征在于,所述第一類型偏振光為P型偏振光,所述第二類型偏振光為S型偏振光;
或者,
所述第一類型偏振光為S型偏振光,所述第二類型偏振光為P型偏振光。
10.一種頭戴式顯示設(shè)備,其特征在于,包括權(quán)利要求1-9中任一項(xiàng)所述的光學(xué)成像系統(tǒng)。
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