[發明專利]壓電薄膜式溫度傳感器及其制備方法有效
| 申請號: | 202110255505.2 | 申請日: | 2021-03-09 |
| 公開(公告)號: | CN113049128B | 公開(公告)日: | 2022-08-26 |
| 發明(設計)人: | 阮勇;尤政;賀如松 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | G01K7/00 | 分類號: | G01K7/00;H03H9/17 |
| 代理公司: | 北京華進京聯知識產權代理有限公司 11606 | 代理人: | 方曉燕 |
| 地址: | 10008*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓電 薄膜 溫度傳感器 及其 制備 方法 | ||
1.一種壓電薄膜式溫度傳感器,其特征在于,包括:
襯底(10);
布拉格反射層(20),設置于所述襯底(10);所述布拉格反射層(20)包括多個反射組(21),每個反射組(21)包括兩個阻抗層,一個高聲阻抗層(22)和一個低聲阻抗層(23),所述低聲阻抗層(23)和所述高聲阻抗層(22)的熱膨脹系數相近,所述高聲阻抗層(22)介質密度和楊氏模量較大,所述低聲阻抗層(23)介質密度和楊氏模量較小;
第一電極(30),設置于所述布拉格反射層(20)遠離所述襯底(10)的部分表面;
壓電薄膜層(40),設置于所述第一電極(30)和所述布拉格反射層(20)遠離所述襯底(10)的表面,所述壓電薄膜層(40)為單晶材料層;
第二電極(50),進行了圖形化處理,設置于所述壓電薄膜層(40)遠離所述第一電極(30)的表面,以形成共面波導;
其中,所述襯底(10)、所述低聲阻抗層(23)、所述高聲阻抗層(22)、所述第一電極(30)和所述第二電極(50)均采用耐高溫材料,所述壓電薄膜層(40)采用單晶結構的AlN材料;所述第二電極(50)的表面沉積有一層鈍化層,所述鈍化層為氧化鋁陶瓷。
2.根據權利要求1所述的壓電薄膜式溫度傳感器,其特征在于,相鄰的兩個所述反射組(21)之間的所述阻抗層的類型不同。
3.根據權利要求2所述的壓電薄膜式溫度傳感器,其特征在于,所述布拉格反射層(20)包括:四至六個所述反射組(21)。
4.根據權利要求3所述的壓電薄膜式溫度傳感器,其特征在于,所述布拉格反射層(20)包括:
四個反射組(21),與所述襯底(10)接觸的阻抗層為所述高聲阻抗層(22),與所述第一電極(30)接觸的阻抗層為所述低聲阻抗層(23)。
5.根據權利要求4所述的壓電薄膜式溫度傳感器,其特征在于,所述襯底(10)的材料為SiC,所述高聲阻抗層(22)的材料為AlN,所述低聲阻抗層(23)的材料為SiO2,所述壓電薄膜層(40)的材料為c軸晶向的單晶AlN,所述第一電極(30)和所述第二電極(50)的材料為金屬Mo。
6.根據權利要求5所述的壓電薄膜式溫度傳感器,其特征在于,所述襯底(10)的厚度為350μm±10μm,所述高聲阻抗層(22)的厚度為1.09μm±0.005μm,所述低聲阻抗層(23)的厚度為0.56μm±0.002μm,所述壓電薄膜層(40)的厚度為2μm±0.01μm,所述第一電極(30)和所述第二電極(50)的厚度均為0.1μm±0.005μm。
7.一種壓電薄膜式溫度傳感器的制備方法,其特征在于,包括:
提供襯底(10);
在所述襯底(10)的表面沉積布拉格反射層(20),所述布拉格反射層(20)包括多個反射組(21),每個反射組(21)包括兩個阻抗層,一個高聲阻抗層(22)和一個低聲阻抗層(23),所述低聲阻抗層(23)和所述高聲阻抗層(22)的熱膨脹系數相近,所述高聲阻抗層(22)介質密度和楊氏模量較大,所述低聲阻抗層(23)介質密度和楊氏模量較小;
在所述布拉格反射層(20)遠離所述襯底(10)的部分表面沉積第一電極(30);
在所述第一電極(30)和所述布拉格反射層(20)遠離所述襯底(10)的表面沉積壓電薄膜層(40);
在所述壓電薄膜層(40)遠離所述第一電極(30)的表面沉積第二電極(50),對所述第二電極(50)進行圖形化處理,以形成共面波導;其中,所述襯底(10)、所述低聲阻抗層(23)、所述高聲阻抗層(22)、所述第一電極(30)、所述壓電薄膜層(40)和所述第二電極(50)均采用耐高溫材料;
在所述第二電極(50)的表面沉積一層鈍化層,所述鈍化層為氧化鋁陶瓷。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于清華大學,未經清華大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110255505.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





