[發(fā)明專利]微波等離子體發(fā)生裝置及等離子蝕刻設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110254955.X
• 申請(qǐng)日: 2021-03-09
• 公開（公告）號(hào): CN113038683B
• 公開（公告）日: 2023-07-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙義黨;李志強(qiáng);李志華;廖文晗;貝亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 珠海恒格微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): H05H1/46
• 分類號(hào): H05H1/46;H01J37/32;H05K3/00;H05K3/06
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 盧澤明

1.等離子蝕刻設(shè)備，其特征在于，包括微波等離子體發(fā)生裝置(103)，還包括基座(100)以及設(shè)置在所述基座(100)上的蝕刻箱(101)，所述微波等離子體發(fā)生裝置(103)安裝在所述蝕刻箱(101)的上端，所述蝕刻箱(101)的一側(cè)開設(shè)有可容產(chǎn)品通過的開口，所述微波等離子體發(fā)生裝置(103)包括：

冷卻板(301)，呈框型并且固定安裝在蓋體(102)上；

導(dǎo)波蓋(302)，安裝在所述冷卻板(301)上，并且所述冷卻板(301)和所述導(dǎo)波蓋(302)通過石英板(307)間隔以形成微波導(dǎo)入腔(304)以及等離子腔(303)，所述微波導(dǎo)入腔(304)位于所述等離子腔(303)的上方；

其中，所述等離子腔(303)連接有第一冷卻組件(305)以及氣體通入組件，所述第一冷卻組件(305)為形成在所述冷卻板(301)上的環(huán)形冷流道；

所述蝕刻箱(101)上具有所述開口的一側(cè)設(shè)置有門板(202)，所述門板(202)連接有升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(206)，所述升降驅(qū)動(dòng)機(jī)用于驅(qū)使所述門板(202)沿豎向上下移動(dòng)以封閉或打開所述開口；所述基座(100)上還設(shè)置有支架(204)，所述支架(204)上開設(shè)有限位孔(205)，所述限位孔(205)為腰孔并且沿豎向設(shè)置，所述限位孔(205)的下端朝向靠近所述蝕刻箱(101)的方向傾斜延伸，所述門板(202)上設(shè)置有限位桿(203)，所述限位桿(203)插接到所述限位孔(205)內(nèi)并且沿所述限位孔(205)的軸線方向移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述蝕刻箱(101)的上端敞開且鉸接有蓋體(102)，所述蓋體(102)連接有轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(106)，所述微波等離子體發(fā)生裝置(103)安裝在所述蓋體(102)上，所述轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(106)能夠驅(qū)使所述蓋體(102)相對(duì)所述蝕刻箱(101)轉(zhuǎn)動(dòng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述蝕刻箱(101)的內(nèi)壁面和/或所述蓋體(102)上設(shè)置有陶瓷襯板(313)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述門板(202)上遠(yuǎn)離所述蝕刻箱(101)的一端設(shè)置有朝外延伸的牽引塊(208)，所述升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(206)的輸出端設(shè)置有軸承安裝塊(209)，所述軸承安裝塊(209)上設(shè)置有至少兩個(gè)活動(dòng)軸承(210)，兩個(gè)所述活動(dòng)軸承(210)分設(shè)在所述牽引塊(208)的上下兩端。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子蝕刻設(shè)備，其特征在于，所述支架(204)上還設(shè)置有沿豎向的導(dǎo)軌(211)以及設(shè)置在所述導(dǎo)軌(211)上的滑塊(212)，所述滑塊(212)上設(shè)置有具有通孔(216)的輔助升降塊(213)，所述門板(202)上具有穿過所述通孔(216)設(shè)置的桿件(214)。