[發(fā)明專利]加熱漿料的加熱爐裝置、處理漿料的方法和油渣萃取系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110252126.8 | 申請日: | 2021-03-08 |
| 公開(公告)號: | CN113048787B | 公開(公告)日: | 2022-10-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙立新;郭云飛;張源;周志巖 | 申請(專利權(quán))人: | 中國神華煤制油化工有限公司;中國神華煤制油化工有限公司鄂爾多斯煤制油分公司 |
| 主分類號: | F27B17/00 | 分類號: | F27B17/00;B01D11/02 |
| 代理公司: | 北京潤平知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11283 | 代理人: | 李健;邱成杰 |
| 地址: | 100011 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加熱 漿料 加熱爐 裝置 處理 方法 油渣 萃取 系統(tǒng) | ||
1.一種用于加熱漿料的加熱爐裝置,其特征在于,所述加熱爐裝置包括加熱爐(10)、緩沖存儲部、連接于所述加熱爐(10)的出口的出料管線(20)以及連接所述出料管線(20)和所述緩沖存儲部的循環(huán)管線(30),所述循環(huán)管線(30)上沿從所述出料管線(20)到所述緩沖存儲部的方向依次設(shè)置有第一閥(40)和第二閥(50),所述第二閥(50)為控壓閥以能夠在第一設(shè)定壓力下打開,所述循環(huán)管線(30)的位于所述第一閥(40)和第二閥(50)之間的位置設(shè)置有用于向所述循環(huán)管線(30)注入洗油的第一洗油管(60)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于加熱漿料的加熱爐裝置,其特征在于,所述加熱爐裝置包括用于向所述循環(huán)管線(30)內(nèi)注入洗油的第二洗油管,所述第二洗油管的管徑大于所述第一洗油管(60)的管徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于加熱漿料的加熱爐裝置,其特征在于,所述加熱爐(10)的入口處設(shè)置有注氣管線(70),以向所述加熱爐(10)的爐管內(nèi)注入用于擾動所述爐管內(nèi)的漿料的擾動氣體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于加熱漿料的加熱爐裝置,其特征在于,所述注氣管線(70)上設(shè)置有注氣控制閥。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于加熱漿料的加熱爐裝置,其特征在于:
所述循環(huán)管線(30)上設(shè)置有測壓件(80);和/或,
所述第一洗油管(60)設(shè)置為能夠在所述循環(huán)管線(30)內(nèi)的壓力下降至第二設(shè)定壓力時向所述循環(huán)管線(30)注入洗油并在所述循環(huán)管線內(nèi)(30)的壓力升至第三設(shè)定壓力時停止向所述循環(huán)管線(30)注入洗油。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于加熱漿料的加熱爐裝置,其特征在于,
所述緩沖存儲部的出口連接于所述加熱爐(10)的入口。
7.一種處理漿料的方法,其特征在于,所述漿料中固相含量為50%-55%,所述方法使用權(quán)利要求1-6中任意一項所述的加熱爐裝置,所述方法包括:
正常工作模式:在所述循環(huán)管線(30)內(nèi)充滿洗油的情況下關(guān)閉所述第一閥(40)和第二閥(50),并通過所述第二閥(50)和所述第一洗油管(60)保持所述循環(huán)管線(30)內(nèi)充滿壓力不超過所述第一設(shè)定壓力的洗油;以及
故障工作模式:開啟所述第一閥(40)和第二閥(50),以使所述加熱爐(10) 加熱的漿料通過所述循環(huán)管線(30)進入所述緩沖存儲部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述方法包括在所述加熱爐(10)的入口處提供用于擾動所述加熱爐(10)的爐管內(nèi)的漿料的擾動氣體。
9.一種油渣萃取系統(tǒng),其特征在于,所述油渣萃取系統(tǒng)包括權(quán)利要求1-6中任意一項所述的加熱爐裝置和離心干相干燥塔(200),所述加熱爐通過所述出料管線連接所述離心干相干燥塔(200),所述出料管線(20)上設(shè)置有第三閥(21),所述第一閥(40)與所述第三閥(21)聯(lián)動,以使所述第一閥(40)與所述第三閥(21)中的一者開啟時另一者關(guān)閉。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的油渣萃取系統(tǒng),其特征在于,所述油渣萃取系統(tǒng)包括萃取設(shè)備、用于分離所述萃取設(shè)備獲得的萃取液的離心設(shè)備和用于加熱所述離心設(shè)備獲得的離心干相的加熱設(shè)備,所述加熱設(shè)備包括所述加熱爐裝置。
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