[發(fā)明專利]光源模塊以及光達裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110251167.5 | 申請日： | 2021-03-08 |
| 公開（公告）號： | CN115047430A | 公開（公告）日： | 2022-09-13 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 林姚順;潘浩煒;蔡志賢;莊福明 | 申請（專利權(quán)）人： | 中強光電股份有限公司 |
| 主分類號： | G01S7/481 | 分類號： | G01S7/481;G01S7/483;G01S7/484;G02B27/09;G02B26/08 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 劉佳斐 |
| 地址： | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光源 模塊 以及 裝置 | ||
1.一種光源模塊，其特征在于，所述光源模塊包括多個發(fā)光元件、光斑整形元件以及微振鏡元件，其中
所述多個發(fā)光元件分別用于提供光束，其中各所述發(fā)光元件沿規(guī)定方向平行排列；
所述光斑整形元件具有多個光斑整形區(qū)域，所述多個光斑整形區(qū)域分別對應(yīng)于所述多個光束設(shè)置不同偏折角度及縮束能力，且各所述光斑整形區(qū)域分別位于各所述光束的傳遞路徑上，其中各所述光束進入所述光斑整形元件的各所述光斑整形區(qū)域時的寬度尺寸為第一光束寬度，各所述光束離開所述光斑整形元件的各所述光斑整形區(qū)域時的寬度尺寸為第二光束寬度，且同一所述光束的所述第二光束寬度小于所述第一光束寬度；以及
所述微振鏡元件位于來自所述光斑整形元件的所述多個光束的傳遞路徑上，其中各所述光束的所述第二光束寬度與各所述光束入射所述微振鏡元件的反射面的入射角相對應(yīng)，以使各所述光束于所述微振鏡元件的反射面的光斑尺寸與所述微振鏡元件的反射面的尺寸相吻合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，所述微振鏡元件具有中心軸，所述中心軸通過所述微振鏡元件的中心，并垂直于所述微振鏡元件的反射面，各所述發(fā)光元件相對于所述微振鏡元件的中心軸呈對稱配置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源模塊，其特征在于，所述光斑整形元件具有第一光學(xué)面與第二光學(xué)面，所述第一光學(xué)面面向所述多個發(fā)光元件，所述第二光學(xué)面面向所述微振鏡元件，所述第一光學(xué)面相對于所述第二光學(xué)面具有偏向角，且各所述光束通過所述光斑整形元件后，各所述光束的光軸位置往所述微振鏡元件的所述中心軸靠近。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光源模塊，其特征在于，所述多個光斑整形區(qū)域包括第一光斑整形區(qū)域與第二光斑整形區(qū)域，且所述第二光斑整形區(qū)域比所述第一光斑整形區(qū)域更靠近所述微振鏡元件的所述中心軸，位于所述第一光斑整形區(qū)域的所述第一光學(xué)面與所述第二光學(xué)面之間的偏向角為第一偏向角，位于所述第二光斑整形區(qū)域的所述第一光學(xué)面與所述第二光學(xué)面之間的偏向角為第二偏向角，且所述第二偏向角小于所述第一偏向角。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光源模塊，其特征在于，通過所述第一光斑整形區(qū)域的所述光束的所述第二光束寬度小于通過所述第二光斑整形區(qū)域的所述光束的所述第二光束寬度。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)面與所述第二光學(xué)面相對于所述微振鏡元件的擺動軸傾斜，且所述第二光學(xué)面相對于所述微振鏡元件的擺動軸傾斜的方向與所述第一光學(xué)面相對于所述微振鏡元件的擺動軸傾斜的方向相反。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光源模塊，其特征在于，所述第一光學(xué)面與所述第二光學(xué)面相對于所述微振鏡元件的擺動軸傾斜，且所述第二光學(xué)面平行于所述微振鏡元件的擺動軸。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光源模塊，其特征在于，所述光斑整形元件包括多個第一連接面與多個第二連接面，所述多個第一連接面連接相鄰的所述多個光斑整形區(qū)域的所述多個第一光學(xué)面，所述多個第二連接面連接相鄰的所述多個光斑整形區(qū)域的所述多個第二光學(xué)面，且所述光斑整形元件為單一構(gòu)件。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光源模塊，其特征在于，所述光斑整形元件包括多個子光斑整形元件，所述多個子光斑整形元件彼此分離，并對應(yīng)地位于所述多個光斑整形區(qū)域中，且所述第一光學(xué)面為所述多個子光斑整形元件面向所述多個發(fā)光元件的表面，所述第二光學(xué)面為所述多個子光斑整形元件面向所述微振鏡元件的表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源模塊，其特征在于，所述光源模塊還包括：
多個準直透鏡，位于各所述光束的傳遞路徑上，用以使各所述光束形成平行光束。
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G01S 無線電定向；無線電導(dǎo)航；采用無線電波測距或測速；采用無線電波的反射或再輻射的定位或存在檢測；采用其他波的類似裝置
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