[發明專利]基質-PQD閃爍體膜及其制備方法與應用

在審

• 申請號: 202110251123.2
• 申請日: 2021-03-08
• 公開（公告）號: CN112851985A
• 公開（公告）日: 2021-05-28
• 發明（設計）人: 王儲劼;鄭策
• 申請（專利權）人: 無錫極電光能科技有限公司
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08L67/00;C08L83/04;C08L75/04;C08L63/00;C08K3/16;G01T1/202
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 肖陽

1.一種制備基質-PQD閃爍體膜的方法，其特征在于，包括：

(1)將基質材料前驅液與含有PQD的物料混合，以便得到基質-PQD前驅液；

(2)將所述基質-PQD前驅液注入模具中，然后脫泡后再進行固化，以便得到基質-PQD閃爍體膜。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，所述基質材料前驅液與PQD按照基質材料與PQD的質量比為(1～10)：1進行混合。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，所述含有PQD的物料為PQD分散液或PQD粉末。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，所述基質材料包括硅酮聚合物、氧化硅、縮水甘油醚類環氧樹脂、縮水甘油酯類環氧樹脂、縮水甘油胺類環氧樹脂、線性脂肪族類環氧樹脂、脂環族類環氧樹脂、異氰酸酯、含有硅酮和硅氧烷的雙組分有機硅、含有氧化硅和助劑的雙組份無機硅、含有環氧固化劑和環氧粘合劑的雙組分環氧樹脂以及含有聚異氰酸酯和聚醚醇的雙組分聚氨酯中的至少之一。

5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，所述PQD的化學式為ABX₃，其中，A為銫、甲胺或甲脒，B為鉛或錫，X為氯、溴或碘。

6.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，將所述基質材料前驅液與所述PQD分散液混合，在所述混合過程去除所述PQD分散液的溶劑。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，所述PQD為表面配體修飾的PQD或核殼結構方法改性的PQD或有機高聚物包覆的PQD、金屬有機物框架包覆的PQD、金屬氧化物包覆的PQD、微孔材料包覆的PQD。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，將所述基質材料前驅液與所述含有PQD的物料和助劑混合，其中，助劑包括增塑劑、流平劑、抗老化劑、抗氧化劑和交聯劑中的至少之一。

9.一種基質-PQD閃爍體膜，其特征在于，所述基質-PQD閃爍體膜采用權利要求1-8中任一項所述的方法制備得到；

任選地，所述基質-PQD閃爍體膜的厚度為0.1mm～5mm。

10.一種高能光子探測器件，其特征在于，包括TFT陣列、光探測器和閃爍體膜層，所述閃爍體膜層設在所述光探測器表面，

其中，所述閃爍體膜層為采用權利要求1-8中任一項所述的方法得到的基質-PQD閃爍體膜或權利要求9所述的基質-PQD閃爍體膜。