[發(fā)明專利]金屬掩膜板及顯示面板

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110250935.5
• 申請(qǐng)日: 2021-03-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113025957A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李靜靜;范柳彬;鄭小紅;楊澤明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山國(guó)顯光電有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/04
• 分類號(hào): C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 成都極刻智慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 51310
• 代理人: 唐維虎

本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種金屬掩膜板及顯示面板，通過(guò)設(shè)置第一掩模區(qū)域和分別位于第一掩模區(qū)域兩側(cè)的第二掩模區(qū)域，第一掩模區(qū)域包括圖形區(qū)域，第一掩模區(qū)域和第二掩模區(qū)域之間通過(guò)切割線區(qū)分，并將第一應(yīng)力輔助分散區(qū)設(shè)置于第二掩模區(qū)域內(nèi)，將第二應(yīng)力輔助分散區(qū)設(shè)置于圖形區(qū)域與切割線之間，從而可以將夾爪原本傳遞至圖形區(qū)域的不均勻力吸收并分散到第二應(yīng)力輔助分散區(qū)，提高了圖形區(qū)域的受力均勻性和張網(wǎng)精度，降低金屬掩膜板在RGB像素蒸鍍過(guò)程過(guò)程的偏位現(xiàn)象發(fā)生概率，進(jìn)而提升蒸鍍良率。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及顯示面板蒸鍍工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種金屬掩膜板及顯示面板。

背景技術(shù)

OLED(Organic Light Emitting Display)有機(jī)發(fā)光顯示器具有輕薄、自發(fā)光、低功耗、高對(duì)比度及柔性可折疊等優(yōu)良性能，目前在手機(jī)、平板等領(lǐng)域應(yīng)用廣泛，與LCD(Liquid Crystal Display)顯示形成了強(qiáng)有力的競(jìng)爭(zhēng)。

OLED發(fā)光層通過(guò)蒸鍍工藝使用精細(xì)金屬掩膜板(FMM，F(xiàn)ine Metal Mask)實(shí)現(xiàn)RGB像素的精確制備，然而本申請(qǐng)發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，目前RGB像素位置蒸鍍的精確性不高，RGB像素蒸鍍過(guò)程中的偏位現(xiàn)象發(fā)生概率較大，導(dǎo)致蒸鍍良率無(wú)法滿足實(shí)際工藝需求。

發(fā)明內(nèi)容

基于現(xiàn)有設(shè)計(jì)的不足，本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N金屬掩膜板及顯示面板，可以提高圖形區(qū)域的受力均勻性和張網(wǎng)精度，降低金屬掩膜板在RGB像素蒸鍍過(guò)程過(guò)程的偏位現(xiàn)象發(fā)生概率，進(jìn)而提升蒸鍍良率。

根據(jù)本申請(qǐng)的第一方面，提供一種金屬掩膜板，所述金屬掩膜板包括：

第一掩模區(qū)域，所述第一掩模區(qū)域包括圖形區(qū)域；

分別位于所述第一掩模區(qū)域的延伸方向兩側(cè)的第二掩模區(qū)域，其中，所述第一掩模區(qū)域和所述第二掩模區(qū)域之間通過(guò)切割線區(qū)分；

第一應(yīng)力輔助分散區(qū)，所述第一應(yīng)力輔助分散區(qū)位于所述第二掩模區(qū)域內(nèi)；

第二應(yīng)力輔助分散區(qū)，所述第二應(yīng)力輔助分散區(qū)位于所述圖形區(qū)域與所述切割線之間。

在第一方面的一種可能的實(shí)施方式中，所述第一應(yīng)力輔助分散區(qū)平行于所述切割線方向上的寬度與所述金屬掩膜板平行于所述切割線方向上的寬度的比值范圍為85％～99％。

在第一方面的一種可能的實(shí)施方式中，所述第二應(yīng)力輔助分散區(qū)平行于所述切割線方向上的寬度與所述金屬掩膜板平行于所述切割線方向上的寬度的比值范圍為90％～99％。

在第一方面的一種可能的實(shí)施方式中，所述第二應(yīng)力輔助分散區(qū)平行于所述切割線方向上的寬度大于所述圖形區(qū)域平行于所述切割線方向上的寬度。

在第一方面的一種可能的實(shí)施方式中，所述第二應(yīng)力輔助分散區(qū)垂直于所述切割線方向上的寬度為6～10um。

在第一方面的一種可能的實(shí)施方式中，所述圖形區(qū)域平行于所述切割線方向上的寬度與所述金屬掩膜板平行于所述切割線方向上的寬度的比值范圍為89.5％～98.5％。

在第一方面的一種可能的實(shí)施方式中，所述第一應(yīng)力輔助分散區(qū)與所述切割線之間距離范圍為4～6mm。

在第一方面的一種可能的實(shí)施方式中，所述第二應(yīng)力輔助分散區(qū)與所述切割線之間距離范圍為8～12mm。

在第一方面的一種可能的實(shí)施方式中，所述第二應(yīng)力輔助分散區(qū)與所述圖形區(qū)域采用相同的刻蝕圖案。

根據(jù)本申請(qǐng)的第一方面，提供一種顯示面板，包括采用第一方面或者第一方面中任意一種可能的實(shí)施方式所述的金屬掩膜板的圖形區(qū)域進(jìn)行像素蒸鍍而成的像素單元。