[發明專利]一種可見光消色差超構透鏡及其制備方法在審
| 申請號： | 202110250375.3 | 申請日： | 2021-03-08 |
| 公開（公告）號： | CN112987290A | 公開（公告）日： | 2021-06-18 |
| 發明（設計）人： | 宋清海;陳欽杪;王雨杰;蔡定平;肖淑敏 | 申請（專利權）人： | 哈爾濱工業大學（深圳）;香港理工大學 |
| 主分類號： | G02B27/00 | 分類號： | G02B27/00;G02B3/00;G02B1/00 |
| 代理公司： | 深圳市添源知識產權代理事務所(普通合伙) 44451 | 代理人： | 黎健任 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市南*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 可見光 色差 透鏡 及其 制備 方法 | ||
1.一種可見光消色差超構透鏡，其特征在于：其包括亞波長的基本單元，所述可見光消色差超構透鏡的相位分布φ(r,ω)滿足公式(1)：
式(1)中，ω為角頻率，c為光速，r為坐標，f為超構透鏡的焦距；
排布在r處的基本單元同時滿足中心頻率ωo對應的相位分布φo(r,ωo)和相應的群延遲大小其中，
2.根據權利要求1所述的可見光消色差超構透鏡，其特征在于：所述基本單元為對稱性結構。
3.根據權利要求2所述的可見光消色差超構透鏡，其特征在于：所述基本單元為單個圓柱、單個方形柱、圓環柱、方形環柱、十字形柱或漁網結構柱體。
4.根據權利要求2所述的可見光消色差超構透鏡，其特征在于：所述基本單元的高度為不小于1200納米。值得一提的是，基本單元高度不小于1200納米均可行，區別僅在于超構透鏡的數值孔徑。
5.根據權利要求4所述的可見光消色差超構透鏡，其特征在于：所述基本單元的線性擬合系數R20.995。
6.根據權利要求1～5任意一項所述的可見光消色差超構透鏡，其特征在于：所述基本單元為位于基底上的二氧化鈦納米柱。
7.一種如權利要求1～6任意一項所述的可見光消色差超構透鏡的制備方法，其特征在于，其包括：
在鍍有ITO的二氧化硅基底上蒸鍍二氧化鈦膜，在二氧化鈦膜上涂覆光刻膠，采用電子束光刻機按照基本單元的形狀圖案對光刻膠進行曝光，然后進行顯影，接著鍍鉻作為掩模板，隨后通過剝離液進行剝離，再用反應離子束進行刻蝕，最后用去鉻液去除殘余的鉻得到可見光消色差超構透鏡。
8.根據權利要求7所述的可見光消色差超構透鏡的制備方法，其特征在于：利用電子束進行蒸鍍，蒸鍍的真空度不小于E-7Torr數量級。
9.根據權利要求7所述的可見光消色差超構透鏡的制備方法，其特征在于：蒸鍍的鍍率為
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