[發明專利]圖像分割方法、裝置、電子設備及計算機可讀存儲介質

在審

• 申請號: 202110246708.5
• 申請日: 2021-03-05
• 公開（公告）號: CN113011425A
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發明（設計）人: 紀德益;祝瀾耘
• 申請（專利權）人: 上海商湯智能科技有限公司
• 主分類號: G06K9/34
• 分類號: G06K9/34;G06K9/46;G06N3/04;G06N3/08
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 劉鶴;張穎玲

1.一種圖像分割方法，其特征在于，包括：

從待處理圖像中提取底層圖像特征，并對所述底層圖像特征，進行語義分割，得到高層語義特征；

對所述底層圖像特征進行紋理增強與紋理特征統計中的至少一項處理，得到底層紋理特征；所述底層紋理特征用于表征所述待處理圖像的增強紋理細節和/或紋理特征的統計分布；

結合所述高層語義特征與所述底層紋理特征，得到語義分割圖像。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述對所述底層圖像特征進行紋理增強與紋理特征統計處理中的至少一項處理，得到底層紋理特征，包括以下任意一種：

基于所述底層圖像特征進行紋理增強處理，得到增強紋理特征；基于所述增強紋理特征，確定所述底層紋理特征；

基于所述底層圖像特征進行紋理特征統計處理，得到統計紋理特征；基于所述統計紋理特征，確定所述底層紋理特征；

基于所述底層圖像特征進行紋理增強處理和紋理特征統計處理，得到所述底層紋理特征。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述增強紋理特征，確定所述底層紋理特征，包括：

將所述增強紋理特征，確定為所述底層紋理特征；或者，

將所述增強紋理特征與所述底層圖像特征進行結合，得到所述底層紋理特征。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述統計紋理特征，確定所述底層紋理特征；包括：

將所述統計紋理特征，確定為所述底層紋理特征；或者，

將所述統計紋理特征與所述底層圖像特征進行結合，得到所述底層紋理特征。

5.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述基于所述底層圖像特征進行紋理增強處理和紋理特征統計處理，得到所述底層紋理特征，包括：

基于所述底層圖像特征進行紋理增強處理，得到增強紋理特征；

至少基于所述增強紋理特征進行紋理特征統計處理，得到所述底層紋理特征。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述至少基于所述增強紋理特征進行紋理特征統計處理，得到所述底層紋理特征，包括：

對所述增強紋理特征與所述底層圖像特征進行結合，再進行紋理特征統計處理，得到中間底層紋理特征；將所述中間底層紋理特征，確定為所述底層紋理特征。

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述對所述增強紋理特征與所述底層圖像特征進行結合，再進行紋理特征統計處理，得到中間底層紋理特征之后，所述方法還包括：

將所述增強紋理特征與所述底層圖像特征的至少一個，與所述中間底層紋理特征進行結合，得到所述底層紋理特征。

8.根據權利要求2、3、5至7任一項所述的方法，其特征在于，所述基于所述底層圖像特征進行紋理增強處理，得到增強紋理特征，包括：

對所述底層圖像特征進行一維量化處理，得到第一編碼特征和第一初始量化特征矩陣；

基于所述第一編碼特征和所述第一初始量化特征矩陣，得到所述增強紋理特征。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述對所述底層圖像特征進行一維量化處理，得到第一編碼特征和第一初始量化特征矩陣，包括：

對所述底層圖像特征進行池化處理，得到所述底層圖像特征對應的第一平均特征；

計算所述底層圖像特征與所述第一平均特征的第一相似度，得到第一相似度矩陣；

將所述第一相似度矩陣進行一維量化處理，得到第一量化級數向量和所述第一編碼特征；

將所述第一編碼特征與所述第一量化級數向量進行融合，得到所述第一初始量化特征矩陣。