[發(fā)明專利]一種基于計算機輔助用晶片干涉檢測設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110243312.5 | 申請日: | 2021-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN113030117A | 公開(公告)日: | 2021-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 徐健 | 申請(專利權(quán))人: | 蘇州貝依澤服飾有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/95 | 分類號: | G01N21/95;G01N21/45;G01N21/01 |
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| 地址: | 215011 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 計算機輔助 晶片 干涉 檢測 設(shè)備 | ||
1.一種基于計算機輔助用晶片干涉檢測設(shè)備,包括基座,其特征在于:所述基座的頂面上設(shè)有用于夾持晶片的夾持機構(gòu),所述夾持架構(gòu)能夠翻轉(zhuǎn)和擺動,所述夾持架構(gòu)的右側(cè)的所述基座內(nèi)設(shè)有開口朝上的凹槽,所述凹槽內(nèi)設(shè)有放置機構(gòu),所述放置機構(gòu)用于放置晶片并帶動晶片移動,所述基座的頂面上設(shè)有支架,所述支架上設(shè)有檢測機構(gòu),所述檢測機構(gòu)用于發(fā)出光源并接收晶片折射后的光源,所述支架上卷繞設(shè)有一用于遮光的遮光罩;
其中,所述夾持機構(gòu)包括一轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述基座的頂面上的旋轉(zhuǎn)塊,所述旋轉(zhuǎn)塊上轉(zhuǎn)動設(shè)有一夾持盤,所述夾持盤的后側(cè)與固定在所述旋轉(zhuǎn)塊內(nèi)的一動力源動力連接,所述夾持盤可在所述旋轉(zhuǎn)塊的翻轉(zhuǎn)下收納在所述基座內(nèi);
所述放置機構(gòu)包括工作箱,所述工作箱上固設(shè)有一固定板,所述固定板上設(shè)有一可沿所述固定板頂面滑動的黑布帶;
所述遮光罩的與所述旋轉(zhuǎn)塊的翻轉(zhuǎn)同時進行,且均由固設(shè)在所述基座內(nèi)的主電機帶動;
所述檢測機構(gòu)包括一可以擺動并可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)輪,所述旋轉(zhuǎn)輪上固設(shè)有六個發(fā)射光源的燈源,所述燈源發(fā)出的光源顏色不同,所述支架上設(shè)有一可擺動的第二感光板,所述第二感光板的擺動與所述旋轉(zhuǎn)輪的擺動同步進行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于計算機輔助用晶片干涉檢測設(shè)備,其特征在于:所述支架上固設(shè)有接收器,所述接收器上固設(shè)有一第一感光板,所述支架上轉(zhuǎn)動設(shè)有從動軸,所述從動軸的右端通過一齒輪變速箱與所述旋轉(zhuǎn)塊固定連接,所述基座的底面內(nèi)轉(zhuǎn)動設(shè)有一左右延伸的傳動軸,所述傳動軸的左端與所述從動軸的左端通過第一皮帶動力連接,所述基座內(nèi)固設(shè)有主電機,所述主電機的右端動力連接有轉(zhuǎn)輥,所述轉(zhuǎn)輥的右端通過一第二皮帶與所述傳動軸動力連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種基于計算機輔助用晶片干涉檢測設(shè)備,其特征在于:所述基座的前側(cè)設(shè)有一開口朝前的進入槽,,所述基座內(nèi)固設(shè)有推料電機,所述的頂端動力連接有曲柄軸,所述曲柄軸右側(cè)的所述進入槽內(nèi)滑動設(shè)有一可將晶片推入所述夾持盤內(nèi)的布推塊,所述布推塊與所述曲柄軸之間通過推桿鉸接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種基于計算機輔助用晶片干涉檢測設(shè)備,其特征在于:所述夾持盤內(nèi)開設(shè)有一左右貫通的夾持腔,所述夾持腔的上下兩側(cè)均滑動設(shè)有夾持塊,所述夾持腔的上下兩側(cè)還固設(shè)有電磁鐵,所述電磁鐵分別控制對應(yīng)的所述夾持塊滑動。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種基于計算機輔助用晶片干涉檢測設(shè)備,其特征在于:所述工作箱內(nèi)的前后兩側(cè)轉(zhuǎn)動設(shè)有轉(zhuǎn)輥,所述轉(zhuǎn)輥的左側(cè)兩端通過一傳動皮帶動力連接,位于后側(cè)的所述轉(zhuǎn)輥的右端固設(shè)有從動齒輪,所述凹槽右側(cè)的所述基座內(nèi)固設(shè)有移動電機,所述移動電機的左端動力連接有動力齒輪,所述動力齒輪能夠與所述從動齒輪嚙合,兩個所述凹槽與所述固定板之間由所述黑布帶包覆。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種基于計算機輔助用晶片干涉檢測設(shè)備,其特征在于:所述轉(zhuǎn)輥的外周上纏繞有繞線,所述支架上轉(zhuǎn)動設(shè)有兩個前后對稱的轉(zhuǎn)動輥,前側(cè)的所述轉(zhuǎn)動輥用于卷繞所述遮光罩,且前側(cè)的所述轉(zhuǎn)動輥與所述支架之間設(shè)有一扭簧,后側(cè)的所述轉(zhuǎn)動輥用于對所述繞線進行導(dǎo)向,所述支架上開設(shè)有兩個左右對稱的滑軌,所述滑軌之間滑動設(shè)有滑桿,所述繞線的自由端與所述滑桿固定,。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種基于計算機輔助用晶片干涉檢測設(shè)備,其特征在于:所述支架的頂部固設(shè)有計算機分析器,所述支架的下側(cè)鉸接有一第二感光板,所述第二感光板用于接收晶片折射的光線,所述第二感光板與所述計算機分析器電性連接,所述接收器與所述計算機分析器電性連接,所述接收器與所述第一感光板電性連接,所述支架的頂部固設(shè)有調(diào)節(jié)電機,所述調(diào)節(jié)電機的底端動力連接有一向下延伸的螺紋桿,所述螺紋桿的外周上設(shè)有一可上下滑動的螺紋塊,所述螺紋塊與所述螺紋桿螺紋配合連接,所述支架上左右擺動設(shè)有一擺動板,所述擺動板與所述螺紋塊之間通過第一連接桿鉸接,所述擺動板與所述第二感光板之間通過第二連接桿鉸接。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種基于計算機輔助用晶片干涉檢測設(shè)備,其特征在于:所述旋轉(zhuǎn)輪轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述擺動板上,所述旋轉(zhuǎn)輪的后側(cè)與一旋轉(zhuǎn)電機動力連接。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
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