[發(fā)明專利]激光退火設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110241720.7
• 申請日: 2021-03-04
• 公開（公告）號: CN112951745B
• 公開（公告）日: 2023-02-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李若堯;劉松林;路兆里;全祥皓
• 申請（專利權(quán)）人: 重慶京東方顯示技術(shù)有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/268
• 代理公司: 北京市立方律師事務(wù)所 11330
• 代理人: 張?bào)銓?宋海斌

本申請實(shí)施例提供了一種激光退火設(shè)備。在本申請實(shí)施例提供的激光退火設(shè)備中，由于光束截止器朝向收集腔室的一面為凹弧面，且凹弧面的焦距不小于第一尺寸且小于設(shè)計(jì)焦距上限，從而使得第一激光光束經(jīng)過光束截止器的反射后，投射在第一側(cè)壁的第一光斑的面積大于設(shè)計(jì)面積。從而能夠避免第一激光光束集中投射在第一側(cè)壁的某一區(qū)域處，能夠避免第一側(cè)壁中第一光斑投射處出現(xiàn)溫度明顯升高的問題，有利于降低第一側(cè)壁中第一光斑投射處的溫度，進(jìn)而能夠避免光束收集器出現(xiàn)溫度升高的問題，有利于降低光束收集器的溫度，從而有利于降低激光退火設(shè)備整體的溫度。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，本申請涉及一種激光退火設(shè)備。

背景技術(shù)

目前，在顯示面板的LTPS(Low Temperature Poly-Silicon，低溫多晶硅)生產(chǎn)制程中，激光退火設(shè)備為關(guān)鍵的工藝設(shè)備，激光退火設(shè)備決定了非晶硅轉(zhuǎn)化為多晶硅的工藝質(zhì)量。

激光退火設(shè)備包括用于吸收冗余激光光束的光束收集器，隨著光束收集器吸收的激光光束的能量的增大，光束收集器的溫度也會隨之增高，而光束收集器的溫度過高會降低非晶硅轉(zhuǎn)化為多晶硅的工藝質(zhì)量，因此，在激光光束射入到光束收集器的光斑投射處設(shè)置有冷卻裝置。

但是，對于現(xiàn)有激光退火設(shè)備而言，激光光束射入到激光退火設(shè)備的光束收集器中一側(cè)壁上的光斑面積較小，導(dǎo)致激光光束集中于該側(cè)壁的某一區(qū)域，這會導(dǎo)致該區(qū)域處的溫度會明顯高于其它區(qū)域，容易導(dǎo)致冷卻裝置不能及時帶走該區(qū)域的熱量，從而導(dǎo)致光束收集器出現(xiàn)溫度升高的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本申請針對現(xiàn)有方式的缺點(diǎn)，提出一種激光退火設(shè)備，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中激光退火設(shè)備的光束收集器容易出現(xiàn)溫度升高的技術(shù)問題。

本申請實(shí)施例提供了一種激光退火設(shè)備，包括：

光束收集器，包括收集腔室，收集腔室的一側(cè)設(shè)置有光束入射窗；

光束截止器，設(shè)置于光束收集器靠近光束入射窗的一側(cè)，用于將第一激光光束反射至收集腔室的第一側(cè)壁；光束截止器朝向收集腔室的一面為凹弧面，凹弧面的焦距不小于第一尺寸且小于設(shè)計(jì)焦距上限，使得第一激光光束投射在第一側(cè)壁的第一光斑的面積大于設(shè)計(jì)面積；第一尺寸為凹弧面與光束入射窗之間的距離。

本申請實(shí)施例提供的技術(shù)方案帶來的有益技術(shù)效果包括：

在本申請實(shí)施例提供的激光退火設(shè)備中，由于光束截止器朝向收集腔室的一面為凹弧面，且凹弧面的焦距不小于第一尺寸且小于設(shè)計(jì)焦距上限，從而使得第一激光光束經(jīng)過光束截止器的反射后，投射在第一側(cè)壁的第一光斑的面積大于設(shè)計(jì)面積。從而能夠避免第一激光光束集中投射在第一側(cè)壁的某一區(qū)域處，相當(dāng)于能夠擴(kuò)大第一激光光束投射在第一側(cè)壁上的光斑的面積，由于激光退火設(shè)備中熱交換的面積不小于第一光斑面積，從而能夠提升熱交換的效率，能夠避免第一側(cè)壁中第一光斑投射處出現(xiàn)溫度明顯升高的問題，有利于降低第一側(cè)壁中第一光斑投射處的溫度，進(jìn)而能夠避免光束收集器出現(xiàn)溫度升高的問題，有利于降低光束收集器的溫度，從而有利于降低激光退火設(shè)備整體的溫度。

本申請附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，這些將從下面的描述中變得明顯，或通過本申請的實(shí)踐了解到。

附圖說明

本申請上述的和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1為本申請實(shí)施例提供的一種激光退火設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為第一激光光束從傳統(tǒng)的平面鏡光束截止器的反射到收集腔室內(nèi)的等效光路示意圖；

圖3為本申請實(shí)施例提供的激光退火設(shè)備中第一激光光束從光束截止器反射到收集腔室內(nèi)的另一種等效光路示意圖；

圖4為本申請實(shí)施例提供的圖1所示激光退火設(shè)備的光束截止器中凹弧面的曲率半徑示意圖；