[發(fā)明專利]一種提升注塑產(chǎn)品反變形準(zhǔn)確度的方法及系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110239163.5 | 申請日: | 2021-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN113021816B | 公開(公告)日: | 2023-03-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 閆長飛;李麗萌 | 申請(專利權(quán))人: | 上海泰客諾信息科技有限公司 |
| 主分類號: | B29C45/76 | 分類號: | B29C45/76 |
| 代理公司: | 深圳市海順達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44831 | 代理人: | 黃健 |
| 地址: | 200085 上海市崇明區(qū)橫沙鄉(xiāng)*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 提升 注塑 產(chǎn)品 變形 準(zhǔn)確度 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種提升注塑產(chǎn)品反變形準(zhǔn)確度的方法,其特征在于,包括如下步驟:
步驟一:對產(chǎn)品進(jìn)行注塑成型仿真分析,獲取產(chǎn)品理論變形量;
步驟二:獲取產(chǎn)品實(shí)際變形量,將理論變形量與實(shí)際變形量進(jìn)行對比,得出經(jīng)驗(yàn)系數(shù)K,所述經(jīng)驗(yàn)系數(shù)K的計(jì)算基于理論變形量和實(shí)際變形量的最大變形量進(jìn)行對比計(jì)算,K=實(shí)際變形量/理論變形量;
步驟三:基于經(jīng)驗(yàn)系數(shù)K,修改仿真模型參數(shù),使仿真模型的分析結(jié)果的理論變形量與實(shí)際變形量相同;
步驟四:基于修改后的仿真模型參數(shù),導(dǎo)出與仿真模型相反的反變形模型,
還包括步驟五:采用反變形模型數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,并導(dǎo)出產(chǎn)品模型,
還包括步驟六:判斷導(dǎo)出的產(chǎn)品模型與產(chǎn)品的公差是否在公差范圍內(nèi),如果是,開模驗(yàn)證,如果否,執(zhí)行步驟七;
步驟七:微調(diào)經(jīng)驗(yàn)系數(shù)K,重新執(zhí)行步驟三-步驟六,直至產(chǎn)品模型與產(chǎn)品的公差在公差范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提升注塑產(chǎn)品反變形準(zhǔn)確度的方法,其特征在于:步驟一中,注塑成型仿真分析基于相同材料及相同或相似結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品進(jìn)行分析。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的提升注塑產(chǎn)品反變形準(zhǔn)確度的方法,其特征在于:步驟二中,對實(shí)際生產(chǎn)的產(chǎn)品進(jìn)行掃描上傳,生成實(shí)際產(chǎn)品圖,通過對比實(shí)際產(chǎn)品圖中實(shí)際產(chǎn)品的實(shí)際變形量與理論產(chǎn)品的理論變形量,計(jì)算出經(jīng)驗(yàn)系數(shù)K。
4.一種實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的提升注塑產(chǎn)品反變形準(zhǔn)確度的方法的系統(tǒng),其特征在于,包括:
產(chǎn)品理論變形量獲取模塊:用于對產(chǎn)品進(jìn)行注塑成型仿真分析,獲取產(chǎn)品理論變形量;
經(jīng)驗(yàn)系數(shù)計(jì)算模塊:用于獲取產(chǎn)品實(shí)際變形量,將理論變形量與實(shí)際變形量進(jìn)行對比,得出經(jīng)驗(yàn)系數(shù)K,所述經(jīng)驗(yàn)系數(shù)K的計(jì)算基于理論變形量和實(shí)際變形量的最大變形量進(jìn)行對比計(jì)算,K=實(shí)際變形量/理論變形量;
仿真模型參數(shù)修改模塊:用于基于經(jīng)驗(yàn)系數(shù)K,修改仿真模型參數(shù),使仿真模型的分析結(jié)果的理論變形量與實(shí)際變形量相同;
反變形模型導(dǎo)出模塊:用于基于修改后的仿真模型參數(shù),導(dǎo)出與仿真模型相反的反變形模型;
還包括產(chǎn)品模塊導(dǎo)出模塊:采用反變形模型數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,并導(dǎo)出產(chǎn)品模型;
還包括:
判斷模塊:用于判斷導(dǎo)出的產(chǎn)品模型與產(chǎn)品的公差是否在公差范圍內(nèi);
調(diào)整模塊:用于微調(diào)經(jīng)驗(yàn)系數(shù)K,直至產(chǎn)品模型與產(chǎn)品的公差在公差范圍內(nèi)。
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