[發(fā)明專利]一種封裝工藝中芯片上噴射錫膏的上錫膏站裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110236904.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112786498A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳能強(qiáng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 無(wú)錫昌鼎電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 無(wú)錫智麥知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32492 | 代理人: | 劉詠華 |
| 地址: | 214000 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 封裝 工藝 芯片 噴射 上錫膏站 裝置 | ||
本發(fā)明公開一種封裝工藝中芯片上噴射錫膏的上錫膏站裝置,包括十字平臺(tái)、框架定位平臺(tái)、檢測(cè)相機(jī)、氣管,還包括噴氣電磁閥、管裝膠筒、分流塊、噴膠頭,所述十字平臺(tái)上部安裝有框架定位平臺(tái),十字平臺(tái)控制框架定位平臺(tái)在前、后及左、右位置移動(dòng);其特征在于:框架定位平臺(tái)放置固定塊;框架定位平臺(tái)上方設(shè)有噴氣電磁閥和管裝膠筒,管裝膠筒上方安裝有氣管,管裝膠筒和氣管連接有過渡段,管裝膠筒下方連接安裝有分流塊,噴氣電磁閥下方安裝有分流塊,噴氣電磁閥控制噴膠氣源;分流塊下側(cè)安裝有噴膠頭;噴氣電磁閥一側(cè)設(shè)有檢測(cè)相機(jī),噴氣電磁閥連接有電磁閥開關(guān)。使用封裝制程更穩(wěn)定,可使產(chǎn)品在小型化薄型化中制作方便,不會(huì)遇到難處。
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明屬于電子芯片技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種封裝工藝中芯片上噴射錫膏的上錫膏站裝置。
背景技術(shù):
在現(xiàn)有的封裝領(lǐng)域里,使用芯片上錫膏的方式普遍存在無(wú)法高速高效的穩(wěn)定出膠,并且在0.3mm尺寸芯片下更是明顯,對(duì)產(chǎn)品的小型化,薄型化定來(lái)一定的難度。芯片上錫膏時(shí)無(wú)法快速穩(wěn)定的涂布0.35mm以下膠量,且極易沾附起芯片造成質(zhì)量隱患產(chǎn)品報(bào)廢。
發(fā)明內(nèi)容:
本發(fā)明旨在克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,提供一種封裝工藝中芯片上噴射錫膏的上錫膏站裝置,使用封裝制程更穩(wěn)定,可使產(chǎn)品在小型化薄型化中制作方便不會(huì)遇到難處。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供以下技術(shù)方案:
一種封裝工藝中芯片上噴射錫膏的上錫膏站裝置,包括十字平臺(tái)、框架定位平臺(tái)8、檢測(cè)相機(jī)9、氣管,還包括噴氣電磁閥1、管裝膠筒6、分流塊4、噴膠頭5,所述十字平臺(tái)上部安裝有框架定位平臺(tái)8,十字平臺(tái)控制框架定位平臺(tái)8在前、后及左、右位置移動(dòng);框架定位平臺(tái)8固定放置固定塊7;框架定位平臺(tái)8上方設(shè)有噴氣電磁閥1和管裝膠筒6,管裝膠筒6上方安裝有氣管10,管裝膠筒6和氣管10連接有過渡段,管裝膠筒6下方和噴氣電磁閥1下方安裝有分流塊4,噴氣電磁閥1控制噴膠氣源;分流塊下側(cè)安裝有噴膠頭5;噴氣電磁閥1一側(cè)設(shè)有檢測(cè)相機(jī)9,噴氣電磁閥1連接有電磁閥開關(guān)。
進(jìn)一步的,所述框架定位平臺(tái)8為矩形框,框架定位平臺(tái)8沿矩形框長(zhǎng)度方向的兩側(cè)設(shè)置支撐塊組成。
進(jìn)一步的,所述氣管10直徑小于管裝膠筒直徑。
進(jìn)一步的,噴氣電磁閥1上部安裝有氣管接頭2、平頭銅消音器3。氣管接頭型號(hào)為SMC-KQ2L06-M5。
與現(xiàn)有技術(shù)相比較,本發(fā)明具有如下的有益效果:
本發(fā)明芯片封裝工藝中使用噴射氣體帶動(dòng)錫膏芯片上噴射錫膏的運(yùn)行方法,解決在現(xiàn)有封裝工藝中芯片上錫膏時(shí)無(wú)法快速穩(wěn)定的涂布0.35mm以下膠量,且極易沾附起芯片造成質(zhì)量隱患產(chǎn)品報(bào)廢??赏高^非接觸的氣流帶動(dòng)錫膏,達(dá)到高效噴涂在小尺寸芯片上。使用封裝制程更穩(wěn)定,可使產(chǎn)品在小型化薄型化中制作方便不會(huì)遇到難處。
附圖說明
圖1為本發(fā)明封裝工藝中芯片上噴射錫膏的上錫膏站裝置的立體示意圖。
圖2為本發(fā)明封裝工藝中芯片上噴射錫膏的上錫膏站裝置的主視圖。
圖3為本發(fā)明封裝工藝中芯片上噴射錫膏的上錫膏站裝置的俯視圖。
圖4為本發(fā)明封裝工藝中芯片上噴射錫膏的上錫膏站裝置的另一立體圖。
具體實(shí)施方式
為了更好的闡述本發(fā)明,下面結(jié)合附圖進(jìn)行詳細(xì)說明。
使用噴射氣體帶動(dòng)錫膏芯片上噴射錫膏的運(yùn)行方法,原理如下:a.管裝錫膏后方由一微弱穩(wěn)定正壓推進(jìn)錫膏,經(jīng)由連接流道進(jìn)入出膠閥嘴;b.透過高速噴氣電磁閥開關(guān)控制高壓氣體推動(dòng)出膠閥嘴內(nèi)的錫膏;c.使錫膏藉由高壓氣流噴附到所需的芯片表片,過程中不會(huì)接觸到芯片即不會(huì)造成芯片沾附;d.錫膏量的大小控制為噴氣時(shí)間多寡控制,錫膏的面積則可透過出膠閥嘴來(lái)改變。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





