[發(fā)明專利]一種石墨烯納米窄帶及其制備方法和用途在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110236329.8 | 申請(qǐng)日： | 2021-03-03 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN112850695A | 公開(kāi)（公告）日： | 2021-05-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 翁千越 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海賽普瑞特生物科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C01B32/184 | 分類號(hào)： | C01B32/184 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 高燕;許亦琳 |
| 地址： | 200123 上海市浦東新區(qū)中國(guó)（上海）自*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 石墨 納米 窄帶 及其 制備 方法 用途 | ||
1.一種石墨烯納米窄帶的制備方法，包括如下步驟：
1)聚乙烯醇納米絲膜制備：采用8wt％～15wt％的聚乙烯醇水溶液或聚乙烯醇乙醇溶液為紡絲液采用靜電紡絲技術(shù)形成聚乙烯醇納米纖維膜；
2)對(duì)聚乙烯醇納米纖維膜碳化：在聚乙烯醇納米纖維膜上添加催化劑，然后在惰性氣體氛圍和400～500℃下處理至少2h；然后酸洗，再水洗；
3)石墨化：在惰性氣體氛圍和1250～1350℃下處理至少3h。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述聚乙烯醇納米纖維膜的厚度為0.01～10mm；
和/或，所述聚乙烯醇納米纖維膜中納米纖維的直徑為100～800nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，在400～500℃下處理3～5h。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，在1250～1350℃下處理3～5h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，酸洗是采用體積濃度為5％～15％稀硫酸洗滌。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，石墨化結(jié)束后以(3～10)℃/min的降溫速率降溫至500℃，然后自然降溫至室溫。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述靜電紡絲技術(shù)中，采用如下技術(shù)參數(shù)：電壓為18～22kV；接收距離為8～15cm；紡絲液的擠出速度為(0.3～0.5)ml/h。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，所述催化劑為過(guò)渡金屬或過(guò)渡金屬氧化物。
9.一種采用如權(quán)利要求1～8任一項(xiàng)所述的制備方法形成的石墨烯納米窄帶。
10.如權(quán)利要求9所述的石墨烯納米窄帶在集成電路中作為導(dǎo)線的用途。
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