[發明專利]底板的污染防止方法在審
| 申請號： | 202110236189.4 | 申請日： | 2021-03-03 |
| 公開（公告）號： | CN113371716A | 公開（公告）日： | 2021-09-10 |
| 發明（設計）人： | 岡田哲郎;星野成大;石田昌彥 | 申請（專利權）人： | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號： | C01B33/035 | 分類號： | C01B33/035 |
| 代理公司： | 上海德昭知識產權代理有限公司 31204 | 代理人： | 郁旦蓉 |
| 地址： | 日本國東京都千*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 底板 污染 防止 方法 | ||
1.一種底板的污染防止方法，其特征在于，包括：
在具有底板以及覆蓋所述底板的蓋的反應器內制造多晶硅后，從所述底板除去所述蓋的工序；以及
通過隔離裝置隔離包含所述底板的空間的工序。
2.根據權利要求1所述的底板的污染防止方法，其特征在于：
其中，所述隔離裝置具有能夠經由過濾器向所述底板吹送氣體過濾器單元，
在通過隔離裝置將包含所述底板的空間隔離的工序中，所述過濾器單元向所述底板吹送氣體。
3.根據權利要求2所述的底板的污染防止方法，其特征在于：
其中，所述過濾器單元每小時提供所述隔離裝置內容量的30倍以上的氣體。
4.根據權利要求2所述的底板的污染防止方法，其特征在于：
其中，所述過濾器單元每小時提供所述隔離裝置內容量的90倍以上的氣體。
5.根據權利要求1或2所述的底板的污染防止方法，其特征在于：其中，所述隔離裝置具有移動部，
在通過隔離裝置隔離包含所述底板的空間的工序之前，利用移動部移動所述隔離裝置。
6.根據權利要求1或2所述的底板的污染防止方法，其特征在于：
其中，在除去所述隔離裝置并將所述蓋設置在所述底板上之后，開始下一個多晶硅的制造的工序。
7.根據權利要求1或2所述的底板的污染防止方法，其特征在于：
其中，在所述多晶硅的制造結束后，利用從所述底板除去所述蓋后，直至為了開始下一個多晶硅的制造而將所述蓋設置在所述底板上為止的70％以上的時間，來通過隔離裝置隔離包含所述底板的空間。
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