[發明專利]一種高溫結構陶瓷處理設備

在審

• 申請號: 202110232381.6
• 申請日: 2021-03-03
• 公開（公告）號: CN112923728A
• 公開（公告）日: 2021-06-08
• 發明（設計）人: 李延順
• 申請（專利權）人: 廣州國智機電設備有限公司
• 主分類號: F27B17/00
• 分類號: F27B17/00;F27D3/12
• 代理公司: 廣東省暢欣知識產權代理事務所(普通合伙) 44631
• 代理人: 齊軍彩

本發明公開了一種高溫結構陶瓷處理設備，其結構包括烘烤箱、散熱蓋、操控器、設備箱，烘烤箱上端頂部與散熱蓋整體螺栓固定，烘烤箱內部與設備箱頂端間隙配合，設備箱左端與操控器頂部鉸接連接，操控器內部與烘烤箱內部活動配合，烘烤箱包括承載盤、烤腔、隔熱板、密封倉門，承載盤整體與烤腔內部下端活動配合，烤腔四周與隔熱板內側活動配合，本發明通過防脫塊在換向端頭的擺動配合下對擺放在定位臺表面的陶瓷進行防護，通過旋轉過后停止時的慣性差在對陶瓷進行甩動時，通過硅膠球對其進行緩沖的同時在配合表面伸縮條對其陶瓷表面進行防護，有效避免了因為停止時慣性所造成陶瓷烘烤過后甩出傾倒破碎的問題發生。

技術領域

本發明涉及高溫結構陶瓷領域，具體是一種高溫結構陶瓷處理設備。

背景技術

高溫結構陶瓷是指在某些設備能夠在高溫的條件因素下承受動、靜態的機械負荷陶瓷，具有高熔點，較高的溫度和較小的蠕變性，則高溫結構陶瓷包括兩種，一種叫做高溫氧化物，另一種叫做高溫非氧化物；

但是現有技術中存在以下不足：當前一種高溫結構陶瓷處理設備是指高溫結構陶瓷的烘烤設備，由于設備要對陶瓷進行全方位烘烤，以至于需要將塑形過后的高溫結構陶瓷在烘烤轉盤上旋轉，使得高溫結構陶瓷結束時因為轉盤因為轉動慣性，導致陶瓷整體出現甩動，進而造成烘烤后的陶瓷出現傾倒破碎。

發明內容

針對現有技術存在的不足，本發明目的是提供一種高溫結構陶瓷處理設備，以解決現有技術當前一種高溫結構陶瓷處理設備是指高溫結構陶瓷的烘烤設備，由于設備要對陶瓷進行全方位烘烤，以至于需要將塑形過后的高溫結構陶瓷在烘烤轉盤上旋轉，使得高溫結構陶瓷結束時因為轉盤因為轉動慣性，導致陶瓷整體出現甩動，進而造成烘烤后的陶瓷出現傾倒破碎的問題。

為了實現上述目的，本發明是通過如下的技術方案來實現：一種高溫結構陶瓷處理設備，其結構包括烘烤箱、散熱蓋、操控器、設備箱，所述烘烤箱上端頂部與散熱蓋整體螺栓固定，所述烘烤箱內部與設備箱頂端間隙配合，所述設備箱左端與操控器頂部鉸接連接，所述操控器內部與烘烤箱內部活動配合，所述烘烤箱包括承載盤、烤腔、隔熱板、密封倉門，所述承載盤整體與烤腔內部下端活動配合，所述烤腔四周與隔熱板內側活動配合，所述隔熱板前端表面與密封倉門右端鉸接連接。

對本發明進一步地改進，所述承載盤包括旋轉盤、腔壁、活動腔、加熱板，所述旋轉盤整體與活動腔內部活動配合，所述活動腔四周與加熱板外端間隙配合，所述加熱板內壁與腔壁表面嵌固連接，所述旋轉盤設有兩個，分布在活動腔內部進行活動配合，四周與加熱板間隙配合。

對本發明進一步地改進，所述旋轉盤包括防脫塊、熱射環、護環、換向端頭、定位臺，所述防脫塊底部與換向端頭右端鉸接連接，所述換向端頭左端與熱射環外端活動配合，所述熱射環表面與定位臺下端間隙配合，所述定位臺四周與護環內側活動配合，所述熱射環設有六組，分布在定位臺下端位置與其進行活動配合，從而達到底部受熱均勻。

對本發明進一步地改進，所述防脫塊包括伸縮條、塊本體、硅膠球、活動槽，所述伸縮條整體與活動槽內部活動配合，所述伸縮條表面與硅膠球整體嵌套連接，所述硅膠球后端與塊本體前端間隙配合，所述塊本體前表面與活動槽整體嵌套連接，所述伸縮條分布在活動槽內部進行活動配合，表面嵌固由硅膠球五個，從而達到撞擊減震。

對本發明進一步地改進，所述護環包括上載盤、防脫鉤、驅動軸、減震塊，所述上載盤下端與驅動軸頂部螺旋配合，所述驅動軸兩側與防脫鉤內側間隙配合，所述防脫鉤末端與減震塊兩端焊接連接，所述減震塊上表面與上載盤底部活動配合，所述防脫鉤設有兩個，整體呈倒“L”形狀，與其上載盤下端內部卡合連接，底部與減震塊進行間隙配合。

對本發明進一步地改進，所述減震塊包括支撐塊、受壓條、降壓環、平衡座，所述支撐塊上表面與降壓環整體卡合連接，所述降壓環內壁與受壓條下表面焊接連接，所述受壓條下表面與平衡座頂部螺旋連接，所述平衡座內側與支撐塊外端間隙配合，所述平衡座設有四個，表面嵌套有減震彈簧，通過壓力使其進行緩沖，底部則保持穩定不受外界影響。