[發(fā)明專利]即制即用酸性氧化電位水裝置及酸性氧化電位水制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110231934.6 | 申請(qǐng)日： | 2021-03-02 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN113173625A | 公開（公告）日： | 2021-07-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 鄭列儉;賀齊群 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 深圳銥創(chuàng)科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C02F1/461 | 分類號(hào)： | C02F1/461;B01D53/78 |
| 代理公司： | 深圳智匯遠(yuǎn)見知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44481 | 代理人： | 杜亞明;牛悅涵 |
| 地址： | 518107 廣東省深圳市光明區(qū)鳳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 即制即用 酸性 氧化 電位 裝置 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及酸性氧化電位水制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種即制即用酸性氧化電位水裝置及酸性氧化電位水制備方法。即制即用酸性氧化電位水裝置包括殼體、離子膜組件、第一電極、第二電極、電源組件以及霧化組件，殼體內(nèi)形成有用于容置溶液的工作腔，離子膜組件位于工作腔內(nèi)，并將工作腔分隔形成第一工作腔及第二工作腔，第一電極部分位于第一工作腔內(nèi)，第二電極部分位于第二工作腔內(nèi)，電源組件位于殼體內(nèi)，電源組件與第一電極及第二電極均電性連接，以在第一工作腔內(nèi)生成酸性氧化電位水，霧化組件用于將第一工作腔內(nèi)生成的酸性氧化電位水霧化。實(shí)現(xiàn)對(duì)酸性氧化電位水的先制備再以霧化狀態(tài)使用，制備和霧化兩者相結(jié)合，即制即霧化，具有良好的殺菌效果。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及酸性氧化電位水制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種即制即用酸性氧化電位水裝置及酸性氧化電位水制備方法。
背景技術(shù)
酸性氧化電位水(electrolyzed-oxidizing water，簡(jiǎn)稱EOW)最早應(yīng)用可追溯到20世紀(jì)80年代的日本，因其對(duì)MRSA有顯著殺菌效果，而最先用于醫(yī)藥領(lǐng)域，接著用于醫(yī)療器械的清洗消毒。經(jīng)過多年研究實(shí)踐，酸性氧化電位水殺菌的高效性、殺菌后無殘留毒性、對(duì)人體的無害性、對(duì)環(huán)境的無污染性、利于環(huán)保等優(yōu)點(diǎn)已逐漸被人們所接受，在許多領(lǐng)域逐漸推廣。
由于酸性氧化電位水所具有的獨(dú)特功能，酸性氧化電位水的制備是人們積極研究的熱點(diǎn)。然而，目前人們對(duì)于酸性氧化電位水的制備還是比較匱乏的，因此，有必要提供一種即制即用酸性氧化電位水裝置及酸性氧化電位水制備方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是：提供一種即制即用酸性氧化電位水裝置及酸性氧化電位水制備方法，旨在滿足酸性氧化電位水的制備需求。
為了實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了一種即制即用酸性氧化電位水裝置，即制即用酸性氧化電位水裝置包括殼體10、離子膜組件20、第一電極31、第二電極32、電源組件40以及霧化組件50，所述殼體10內(nèi)形成有用于容置溶液的工作腔，所述離子膜組件20位于所述工作腔內(nèi)，并將所述工作腔分隔形成第一工作腔及第二工作腔，所述第一電極31部分位于所述第一工作腔內(nèi)，所述第二電極32部分位于所述第二工作腔內(nèi)，所述電源組件40位于所述殼體10內(nèi)，所述電源組件40與所述第一電極31及所述第二電極32均電性連接，以在所述第一工作腔內(nèi)生成酸性氧化電位水，所述霧化組件50用于將所述第一工作腔內(nèi)生成的酸性氧化電位水霧化。
可選地，所述殼體10包括主殼體11，所述主殼體11設(shè)有凹槽114，所述凹槽114形成用于容置溶液的所述工作腔，且所述離子膜組件20位于所述凹槽114內(nèi)，并與所述凹槽114的內(nèi)壁抵接。
可選地，所述主殼體11包括相連接的底壁111及外壁112，所述主殼體11還包括自外壁112的一側(cè)向另一側(cè)延伸的側(cè)壁113，所述側(cè)壁113上設(shè)有卡槽1131，且所述離子膜組件20卡在所述卡槽1131內(nèi)；
所述底壁111上位于所述卡槽1131的兩側(cè)分別設(shè)有供所述第一電極31及所述第二電極32穿過的兩個(gè)電極孔。
可選地，所述殼體10還包括頂蓋12，所述頂蓋12與所述主殼體11裝配連接，且所述頂蓋12上開設(shè)有與所述第一工作腔連通的第一開口121及與所述第二工作腔連通的第二開口122。
可選地，所述殼體10還包括外殼13及底蓋14，所述外殼13與所述主殼體11及所述底蓋14裝配連接，并形成一容置腔15，所述電源組件40及所述霧化組件50均位于所述容置腔15內(nèi)。
可選地，所述霧化組件50包括霧化器51及風(fēng)扇52，所述霧化器51靠近所述第一工作腔設(shè)置，并用于將所述第一工作腔內(nèi)生成的酸性氧化電位水霧化，所述風(fēng)扇52用于將霧化的酸性氧化電位水由所述第一工作腔排出。
可選地，所述離子膜組件20包括第一支架21、離子膜22及第二支架23，所述第一支架21與所述第二支架23裝配連接，且所述離子膜22固定在所述第一支架21與所述第二支架23之間。
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