[發(fā)明專利]書寫筆鋒的實(shí)現(xiàn)方法、裝置、電子設(shè)備及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110231385.2
• 申請(qǐng)日: 2021-03-02
• 公開（公告）號(hào): CN112905102B
• 公開（公告）日: 2022-03-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱玉榮;劉洪獻(xiàn);賈少杰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安徽文香科技有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/04883
• 分類號(hào): G06F3/04883
• 代理公司: 北京三聚陽光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11250
• 代理人: 馬永芬

本發(fā)明涉及電子設(shè)備的筆跡書寫技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種書寫筆鋒的實(shí)現(xiàn)方法、裝置、電子設(shè)備及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。其中，該方法包括：獲取書寫軌跡，采集書寫軌跡的多個(gè)書寫觸控點(diǎn)對(duì)應(yīng)的特征數(shù)據(jù)，其中，特征數(shù)據(jù)包括觸控時(shí)間、觸控壓力、觸控面積以及觸控位置；基于特征數(shù)據(jù)，計(jì)算書寫觸控點(diǎn)對(duì)應(yīng)的軌跡寬度，以及生成與軌跡寬度對(duì)應(yīng)的書寫子軌跡；基于書寫子軌跡以及書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的觸控關(guān)鍵點(diǎn)，確定與書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的填充軌跡；按照書寫子軌跡以及填充軌跡，生成目標(biāo)筆鋒。通過實(shí)施本發(fā)明，實(shí)現(xiàn)了書寫軌跡不依賴于線條寬度，能夠模擬用戶在真實(shí)書寫過程中的書寫筆鋒，使得書寫軌跡更加接近真實(shí)筆跡。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及電子設(shè)備的筆跡書寫技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種書寫筆鋒的實(shí)現(xiàn)方法、裝置、電子設(shè)備及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。

背景技術(shù)

隨著各種電子產(chǎn)品的普及，用戶經(jīng)常需要在具備書寫功能的電子產(chǎn)品上進(jìn)行書寫和繪畫。目前的電子產(chǎn)品呈現(xiàn)的書寫或繪畫筆跡均是在書寫界面上獲取若干不連續(xù)的點(diǎn)，然后將獲取到的若干個(gè)不連續(xù)的點(diǎn)連接成線，由此一來，書寫線條的寬度是固定的。

然而，在實(shí)際書寫或繪畫時(shí)，在起筆和落筆等位置處會(huì)因?yàn)闀鴮懥Φ赖牟煌尸F(xiàn)出粗細(xì)不一的線條，或在繪畫過程中可以使用毛筆來實(shí)現(xiàn)更加豐富的繪圖效果，這就需要書寫筆的筆鋒效果。但是通過上述方法得到的字跡粗細(xì)是統(tǒng)一的，因此上述方法很難模擬用戶在真實(shí)書寫過程中的書寫筆鋒。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種書寫筆鋒的實(shí)現(xiàn)方法、裝置、電子設(shè)備及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，以解決難以模擬用戶在真實(shí)書寫過程中的書寫筆鋒的問題。

根據(jù)第一方面，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種書寫筆鋒的實(shí)現(xiàn)方法，包括如下步驟：獲取書寫軌跡，采集所述書寫軌跡的多個(gè)書寫觸控點(diǎn)對(duì)應(yīng)的特征數(shù)據(jù)，其中，所述特征數(shù)據(jù)包括觸控時(shí)間、觸控壓力、觸控面積以及觸控位置；基于所述特征數(shù)據(jù)，計(jì)算所述書寫觸控點(diǎn)對(duì)應(yīng)的軌跡寬度，以及生成與所述軌跡寬度對(duì)應(yīng)的書寫子軌跡；基于所述書寫子軌跡以及所述書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的觸控關(guān)鍵點(diǎn)，確定與所述書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的填充軌跡；按照所述書寫子軌跡以及所述填充軌跡，生成目標(biāo)筆鋒。

本發(fā)明實(shí)施例提供的書寫筆鋒的實(shí)現(xiàn)方法，通過獲取書寫軌跡對(duì)應(yīng)的多個(gè)書寫觸控點(diǎn)的特征數(shù)據(jù)，計(jì)算書寫觸控點(diǎn)的軌跡寬度，并基于該軌跡寬度生成書寫子軌跡，從書寫子軌跡中確定觸控關(guān)鍵點(diǎn)，基于該觸控關(guān)鍵點(diǎn)確定書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的填充軌跡，結(jié)合書寫子軌跡及其填充軌跡生成目標(biāo)筆鋒。該方法通過在書寫子軌跡的觸控關(guān)鍵點(diǎn)所處位置生成填充軌跡，由此形成的書寫軌跡不依賴于線條寬度，從而能夠模擬用戶在真實(shí)書寫過程中的書寫筆鋒，使得書寫軌跡更加接近真實(shí)筆跡。

結(jié)合第一方面，在第一方面的第一實(shí)施方式中，所述基于所述書寫子軌跡以及所述書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的觸控關(guān)鍵點(diǎn)，確定與所述書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的填充軌跡，包括：獲取與所述書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的觸控關(guān)鍵點(diǎn)相鄰的第一觸控點(diǎn)和第二觸控點(diǎn)，確定所述觸控關(guān)鍵點(diǎn)與所述第一觸控點(diǎn)之間第一連接線以及所述觸控關(guān)鍵點(diǎn)與所述第二觸控點(diǎn)之間的第二連接線；基于所述第一連接線和所述第二連接線，確定所述第一連接線與所述第二連接線之間的角度，并確定所述角度處于的預(yù)設(shè)角度范圍；基于所述預(yù)設(shè)角度范圍，確定與所述書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的填充軌跡。

結(jié)合第一方面第一實(shí)施方式，在第一方面的第二實(shí)施方式中，所述基于所述預(yù)設(shè)角度范圍，確定與所述書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的填充軌跡，包括：判斷所述角度是否大于預(yù)設(shè)角度閾值；當(dāng)所述角度大于所述預(yù)設(shè)角度閾值時(shí)，判斷所述角度是否滿足目標(biāo)角度范圍；當(dāng)所述角度滿足所述目標(biāo)角度范圍時(shí)，生成橢圓填充軌跡；當(dāng)所述角度不滿足所述目標(biāo)角度范圍時(shí)，生成曲線填充軌跡。

本發(fā)明實(shí)施例提供的書寫筆鋒的實(shí)現(xiàn)方法，通過獲取與觸控關(guān)鍵點(diǎn)相鄰的第一觸控點(diǎn)和第二觸控點(diǎn)，生成觸控關(guān)鍵點(diǎn)與第一觸控點(diǎn)之間第一連接線以及觸控關(guān)鍵點(diǎn)與第二觸控點(diǎn)之間的第二連接線，計(jì)算第一連接線與第二連接線之間的角度，并確定該角度所處的預(yù)設(shè)角度范圍，進(jìn)而確定與書寫子軌跡對(duì)應(yīng)的填充軌跡。該方法通過第一連接線與第二連接線之間的角度確定書寫子軌跡的觸控關(guān)鍵點(diǎn)所處位置的填充軌跡，由此使得最終的書寫軌跡更加光滑，更加真實(shí)，與實(shí)際的書寫筆鋒更加貼合。