[發(fā)明專利]光掩模坯

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110229575.0
• 申請日: 2015-09-11
• 公開（公告）號: CN112946992A
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 深谷創(chuàng)一;稻月判臣
• 申請（專利權(quán)）人: 信越化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號: G03F1/20
• 分類號: G03F1/20;G03F1/50;H01L21/027;H01L21/033
• 代理公司: 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038
• 代理人: 何楊

1.一種適于制備光掩模的光掩模坯的制造方法，所述光掩膜用于20nm以下結(jié)點(diǎn)的光刻法，

該光掩模坯包括石英基板和在該石英基板上形成的鉻系材料膜，該鉻系材料膜為遮光膜并具有對應(yīng)于50nm以下的翹曲量的拉伸應(yīng)力或壓縮應(yīng)力，其中該制造方法包括如下步驟：

通過使用鉻靶和惰性氣體與反應(yīng)氣體作為濺射氣體在所述反應(yīng)氣體與所述惰性氣體的流量比為1～2的條件下進(jìn)行濺射，從而在具有152mm見方尺寸和6.35mm厚度的石英基板上形成具有至少0.050/nm的在波長193nm下的每單位膜厚度的光學(xué)密度的鉻系材料膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其中該翹曲量為30nm以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其中每單位膜厚度的光學(xué)密度為至少0.054/nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其中該鉻系材料膜具有4nm-50nm的范圍內(nèi)的厚度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其中該鉻系材料膜含有選自氮、氧、碳和氫中的至少一種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其中該鉻系材料膜為CrN膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求6的制造方法，其中該CrN膜具有70-90原子％的鉻含量和10-30原子％的氮含量。

8.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其中該鉻系材料膜為單層膜。

9.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其中該鉻系材料膜為多層膜。

10.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其中所述反應(yīng)氣體與所述惰性氣體的流量比為1～1.5。

11.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其中進(jìn)一步包含如下步驟：

在至少150℃的溫度下對該鉻系材料膜熱處理至少10分鐘。

12.根據(jù)權(quán)利要求11的制造方法，其中該熱處理的溫度為300℃以下。