[發明專利]液晶面板及液晶面板修補方法在審
| 申請號: | 202110223837.2 | 申請日: | 2021-03-01 |
| 公開(公告)號: | CN112882296A | 公開(公告)日: | 2021-06-01 |
| 發明(設計)人: | 熊子堯;鄭浩旋 | 申請(專利權)人: | 滁州惠科光電科技有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標事務所 44237 | 代理人: | 郭鴻 |
| 地址: | 239000 安徽省滁*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 液晶面板 修補 方法 | ||
1.液晶面板修補方法,其特征在于,包括如下步驟:
檢測:檢測TFT陣列板,以確定壞點像素區域中的問題信號線;
斷線:將所述壞點像素區域中所述問題信號線的兩端切斷;
長線:制作旁通線,以旁通所述問題信號線;
制間隙柱:在所述TFT陣列板上制作間隙柱,使所述間隙柱覆蓋所述壞點像素區域的修復區;
制配向層:在所述TFT陣列板上制作配向層;
組裝:在所述TFT陣列板上設置液晶,再與彩色濾光片對位組裝,以得到液晶面板。
2.如權利要求1所述的液晶面板修補方法,其特征在于:所述制間隙柱步驟包括:
涂襯墊膠:在所述TFT陣列板上涂覆襯墊膠;
涂光刻膠:在涂覆有襯墊膠的所述TFT陣列板上涂覆光刻膠;
曝光:對所述光刻膠進行曝光處理;
激光照射修復區:使用激光照射所述壞點像素區域的修復區,以對所述修復區上的所述光刻膠進行曝光處理;
顯影:對曝光處理后所述TFT陣列板進行顯影處理;
蝕刻:對顯影處理后的所述TFT陣列板進行蝕刻處理;
剝膜:將蝕刻處理后的所述TFT陣列板上的光刻膠膜剝離。
3.如權利要求1或2所述的液晶面板修補方法,其特征在于:所述斷線步驟還包括將所述壞點像素區域的像素電極與對應薄膜晶體管的連接處切斷。
4.如權利要求1或2所述的液晶面板修補方法,其特征在于:于所述制配向層步驟與所述組裝步驟之間還包括:
黑化:在所述TFT陣列板或/和所述彩色濾光片上,于所述壞點像素區域對應位置進行遮光處理。
5.如權利要求4所述的液晶面板修補方法,其特征在于:所述黑化步驟中遮光處理包括:
碳化:使用激光照射所述TFT陣列板的所述配向層上對應于所述壞點像素區域的位置,使該位置區域的所述配向層碳化。
6.如權利要求5所述的液晶面板修補方法,其特征在于:所述碳化步驟中使用的激光為紫外激光。
7.如權利要求4所述的液晶面板修補方法,其特征在于:所述黑化步驟中遮光處理包括:
涂黑:在所述TFT陣列板的所述配向層上對應于所述壞點像素區域的位置設置遮光層,或/和在所述彩色濾光片上對應于所述壞點像素區域的位置設置遮光層。
8.如權利要求4所述的液晶面板修補方法,其特征在于:所述黑化步驟中遮光處理包括:
變黑:使用激光照射所述彩色濾光片上的配向膜上對應于所述壞點像素區域的位置,使該位置區域的所述配向膜碳化變黑。
9.如權利要求1或2所述的液晶面板修補方法,其特征在于:所述旁通線位于對應所述壞點像素區域內。
10.液晶面板,其特征在于:采用如權利要求1-9所述的液晶面板修補方法修補制作。
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