[發明專利]一種微波化學氣相沉積法生長金剛石的可分合真空腔在審
| 申請號： | 202110221463.0 | 申請日： | 2021-02-27 |
| 公開（公告）號： | CN113025989A | 公開（公告）日： | 2021-06-25 |
| 發明（設計）人： | 鄧新宇 | 申請（專利權）人： | 河南芯鉆新材料有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/27 | 分類號： | C23C16/27;C23C16/511 |
| 代理公司： | 河南商盾云專利代理事務所(特殊普通合伙) 41199 | 代理人： | 王甜 |
| 地址： | 453000 河南省新鄉市平原示范*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 微波 化學 沉積 生長 金剛石 分合 空腔 | ||
1.一種微波化學氣相沉積法生長金剛石的可分合真空腔，包括支撐板（1）、下真空腔法蘭（2）與上真空腔法蘭（3），其特征在于：所述支撐板（1）的頂部設置有下真空腔法蘭（2），所述下真空腔法蘭（2）的頂部設置有上真空腔法蘭（3），所述下真空腔法蘭（2）和上真空腔法蘭（3）是可分合的，所述下真空腔法蘭（2）的頂部開設有密封結構，所述密封結構包括膠圈密封結構（4）和氣壓密封結構（5）。
2.根據權利要求1所述的一種微波化學氣相沉積法生長金剛石的可分合真空腔，其特征在于：所述下真空腔法蘭（2）與上真空腔法蘭（3）通過均勻分布的螺絲結構進行加緊固定。
3.根據權利要求1所述的一種微波化學氣相沉積法生長金剛石的可分合真空腔，其特征在于：所述下真空腔法蘭（2）與上真空腔法蘭（3）可通過均勻分布的其它結構進行加緊固定。
4.根據權利要求1所述的一種微波化學氣相沉積法生長金剛石的可分合真空腔，其特征在于：所述膠圈密封結構（4）至少在最外圈設置一圈。
5.根據權利要求1所述的一種微波化學氣相沉積法生長金剛石的可分合真空腔，其特征在于：所述氣壓密封結構（5）由下真空腔法蘭（2）和上真空腔法蘭（3）的表面槽狀結構構成，通過內充超過一個大氣壓的氣體實現密封。
6.根據權利要求5所述的上一種微波化學氣相沉積法生長金剛石的可分合真空腔，其特征在于：所述槽狀結構可在下真空腔法蘭（2）上，且相應的所述上真空腔法蘭（3）處為平面結構，且所述槽狀結構可在上真空腔法蘭（3）的下表面，且相應的所述下真空腔法蘭（2）處為平面結構。
7.根據權利要求5所述的上一種微波化學氣相沉積法生長金剛石的可分合真空腔，其特征在于：所述槽狀結構內開設有充氣孔（50），且所述充氣孔（50）通入的氣體可為超過一個大氣壓的氫氣，且所述充氣孔（50）通入的氣體可為超過一個大氣壓的者氬氣，且所述充氣孔（50）通入的氣體可為超過一個大氣壓的氬氫混合氣。
8.根據權利要求1所述的上一種微波化學氣相沉積法生長金剛石的可分合真空腔，其特征在于：所述膠圈密封結構（4）和氣壓密封結構（5）可以開設多圈，且所述膠圈密封結構（4）和氣壓密封結構（5）可以開設組合多圈，且所述膠圈密封結構（4）和氣壓密封結構（5）可以開設間隔的組合多圈。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
