[發(fā)明專利]有機(jī)膜形成材料、有機(jī)膜形成方法、圖案形成方法、以及化合物在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110219930.6 | 申請日: | 2021-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN113341646A | 公開(公告)日: | 2021-09-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 中原貴佳;郡大佑;美谷島祐介 | 申請(專利權(quán))人: | 信越化學(xué)工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/09;G03F7/11 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有機(jī) 形成 材料 方法 圖案 以及 化合物 | ||
1.一種有機(jī)膜形成材料,其特征為包含下述通式(1)表示的化合物及有機(jī)溶劑;
該通式(1)中,X為碳數(shù)2~50的n價有機(jī)基團(tuán)或氧原子,n為1~10的整數(shù),R1獨(dú)立地為下述通式(2)中任一者;
該通式(2)中,破折線表示鍵結(jié)到X的鍵結(jié)部位,Q1為含有羰基的1價有機(jī)基團(tuán),且至少一部分為下述通式(3)表示的基團(tuán);
該通式(3)中,破折線表示鍵結(jié)部位,X1表示單鍵、或碳數(shù)1~20的2價有機(jī)基團(tuán),且該有機(jī)基團(tuán)具有芳香環(huán)時也可具有取代基;R2表示氫原子、甲基、乙基、或苯基;**表示鍵結(jié)部位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)膜形成材料,其中,該通式(1)的化合物為下述通式(4)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)中任一者;
該通式(4)中,n7、n8分別獨(dú)立地表示0或1,W為單鍵或下述通式(5)所示的結(jié)構(gòu)中的任一者;R1和前述同樣,m1、m2分別獨(dú)立地表示0至4的整數(shù),m1+m2為1以上且8以下;
該通式(5)中,n9表示0至3的整數(shù),Ra~Rf互為獨(dú)立地表示氫原子或也可經(jīng)氟取代的碳數(shù)1~10的烷基或苯基,Ra與Rb也可鍵結(jié)形成環(huán);
該通式(6)中,R1和前述同樣,Rg表示氫原子、甲基、或苯基;
該通式(7)~(11)中,R1和前述同樣,Rh、Ri、Rj、Rk、Rl、Rm、Rn分別表示氫原子、碳數(shù)1~10的烷基、碳數(shù)2~10的炔基、碳數(shù)2~10的烯基、芳香環(huán)上也可具有取代基的芐基、苯基;Y表示R1或氫原子、碳數(shù)1~10的烷基、碳數(shù)2~10的炔基、碳數(shù)2~10的烯基,該通式(11)式中的4個Y之中至少2個為R1;
R1-Ro-R1 (12)
該通式(12)~(14)中,R1和前述同樣,該通式(12)中的Ro表示碳數(shù)1~20的直鏈狀、碳數(shù)3~20的分支狀或環(huán)狀的飽和或不飽和的2價烴基,該通式(13)中的Rp表示氫原子或碳數(shù)1~10的烷基。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的有機(jī)膜形成材料,其中,該通式(2)中的Q1由該通式(3)表示的任1種以上與下述通式(15)、(16)表示的任1種以上所構(gòu)成;
該通式(15)中的Rq表示碳數(shù)1~30的直鏈狀、碳數(shù)3~30的分支狀或環(huán)狀的飽和或不飽和的烴基,構(gòu)成Rq的亞甲基也可被取代成氧原子或羰基;該通式(16)中的Rs表示氫原子或碳數(shù)1~10的直鏈狀、或碳數(shù)3~10的分支狀的烴基,Rt表示碳數(shù)1~10的直鏈狀、或碳數(shù)3~10的分支狀的烴基、鹵素原子、硝基、氨基、腈基、碳數(shù)1~10的烷氧基羰基、或碳數(shù)1~10的烷?;趸籲11表示0~2,n12、n13表示芳香環(huán)上的取代基的數(shù)目,n12、n13表示0~7的整數(shù),且n12+n13符合0以上且7以下的關(guān)系。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的有機(jī)膜形成材料,其中,該有機(jī)溶劑為1種以上的沸點(diǎn)未達(dá)180℃的有機(jī)溶劑與1種以上的沸點(diǎn)為180℃以上的有機(jī)溶劑的混合物。
5.一種有機(jī)膜形成方法,是作為適用于半導(dǎo)體裝置的制造步驟的有機(jī)平坦膜而發(fā)揮功能的有機(jī)膜的形成方法,其特征為:于被加工基板上旋轉(zhuǎn)涂布根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的有機(jī)膜形成材料,將該被加工基板于100℃以上且600℃以下的溫度,以10秒~600秒的范圍進(jìn)行熱處理,借此形成硬化膜。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于信越化學(xué)工業(yè)株式會社,未經(jīng)信越化學(xué)工業(yè)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110219930.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷?;蝾愃朴∷⒛5闹谱鳎?,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
- 應(yīng)用有機(jī)材料制作有機(jī)發(fā)光裝置
- 有機(jī)發(fā)光材料及有機(jī)發(fā)光裝置
- 有機(jī)半導(dǎo)體組合物以及有機(jī)薄膜和具有該有機(jī)薄膜的有機(jī)薄膜元件
- 有機(jī)材料和包括該有機(jī)材料的有機(jī)發(fā)光裝置
- 有機(jī)發(fā)光元件、有機(jī)發(fā)光裝置、有機(jī)顯示面板、有機(jī)顯示裝置以及有機(jī)發(fā)光元件的制造方法
- 有序的有機(jī)-有機(jī)多層生長
- 有機(jī)半導(dǎo)體材料和有機(jī)部件
- 有機(jī)水稻使用的有機(jī)肥
- 有機(jī)垃圾生物分解的有機(jī)菌肥
- 有機(jī)EL用途薄膜、以及有機(jī)EL顯示和有機(jī)EL照明





