[發(fā)明專利]顯示面板及其制造方法、掩膜版有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110219208.2 | 申請日: | 2021-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN112859464B | 公開(公告)日: | 2022-11-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳小龍;方鑫;王金良;王文超;周志偉 | 申請(專利權(quán))人: | 福州京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京風雅頌專利代理有限公司 11403 | 代理人: | 李莎 |
| 地址: | 350300 福建省*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制造 方法 掩膜版 | ||
本公開提供一種顯示面板及其制造方法、掩膜版。該顯示面板,包括陣列基板和彩膜基板;所述陣列基板朝向所述彩膜基板的一面具有測試用過孔;所述彩膜基板朝向所述陣列基板的一面設(shè)置與所述測試用過孔對應(yīng)的隔離層;其中,所述測試用過孔在所述彩膜基板上的正投影位于所述隔離層中,且所述隔離層的制作材料為絕緣材料。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種顯示面板及其制造方法、掩膜版。
背景技術(shù)
在液晶顯示器行業(yè)競爭日益激烈的背景下,有效地降低成本可以顯著地提高產(chǎn)品競爭力,而提高襯底基板(例如,玻璃基板)的利用率則是有效降低成本的方法之一。因此,為了提高襯底基板利用率,降低生產(chǎn)成本,在顯示母板中,相鄰的顯示面板之間往往需要采用零切設(shè)計,即,切割顯示母板的切割線與顯示面板的邊緣對齊,從而導(dǎo)致在某些情況下有的顯示面板的測試用過孔(2D Via)會殘留在與其相鄰的另一個顯示面板的邊緣。殘留的測試用過孔會因為被水汽侵蝕而發(fā)生金屬腐蝕進而帶電,并將所帶電荷傳遞到與其相對的彩膜基板上的黑矩陣層(BM),從而導(dǎo)致黑矩陣層帶電造成顯示不良。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本公開提出了一種顯示面板及其制造方法、掩膜版。
本公開的第一方面,提供了一種顯示面板,包括陣列基板和彩膜基板;
所述陣列基板朝向所述彩膜基板的一面具有測試用過孔;
所述彩膜基板朝向所述陣列基板的一面設(shè)置與所述測試用過孔對應(yīng)的隔離層;
其中,所述測試用過孔在所述彩膜基板上的正投影位于所述隔離層中,且所述隔離層的制作材料為絕緣材料。
本公開的第二方面,提供了一種顯示面板的制造方法,包括:
制造顯示母板;以及
切割所述顯示母板,得到所述顯示面板;
其中,所述顯示母板包括陣列基板母板和彩膜基板母板,所述制造顯示母板,包括:
在所述陣列基板母板上形成所述測試用過孔;
在所述彩膜基板母板上形成與所述測試用過孔對應(yīng)的所述隔離層;以及
將所述陣列基板母板與所述彩膜基板母板對盒,以使所述測試用過孔在所述彩膜基板母板上的正投影位于所述隔離層中。
本公開的第三方面,提供了一種用于制造彩膜基板母板的掩膜版,包括:
第一開口區(qū),被配置為形成所述彩膜基板母板的彩膜層,所述彩膜基板母板與陣列基板母板對盒形成顯示母板,所述陣列基板母板包括測試用過孔;
第二開口區(qū),被配置為形成與所述測試用過孔對應(yīng)的隔離層,在所述顯示母板中,所述測試用過孔在所述彩膜基板母板上的正投影位于所述隔離層中。
本公開提供的顯示面板及其制造方法、掩膜版,采用絕緣材料在與測試用過孔對應(yīng)的位置設(shè)置隔離層,避免了被腐蝕的測試用過孔導(dǎo)致的產(chǎn)品不良。
附圖說明
為了更清楚地說明本公開或相關(guān)技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或相關(guān)技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本公開的實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1A示出了一種示例性顯示母板的示意圖。
圖1B示出了一種示例性顯示面板的示意圖。
圖1C示出了拆屏后的顯示面板的掃描電子顯微鏡示意圖。
圖1D示出了顯示面板的測試用過孔位置的截面結(jié)構(gòu)示意圖。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





