[發明專利]真空澆注系統

在審

• 申請號: 202110215087.4
• 申請日: 2021-02-25
• 公開（公告）號: CN113000821A
• 公開（公告）日: 2021-06-22
• 發明（設計）人: 井峰;鄺光照;王月;侯海文;林偉林;羅鎮江
• 申請（專利權）人: 中山凱旋真空科技股份有限公司
• 主分類號: B22D18/06
• 分類號: B22D18/06;B22D41/12;B22D46/00
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 孫寶海;闞梓瑄

1.一種真空澆注系統，其特征在于，包含：

澆注罐，具有罐腔，所述罐腔底部設置有第一輸送單元，所述第一輸送單元的輸送方向為第一水平方向；

澆注機構，可升降且可水平調節地設置于所述罐腔內，所述澆注機構的水平調節方向為垂直于所述第一水平方向的第二水平方向；

混料機構，連接于所述澆注機構，用以提供澆注物料；

真空機構，連接于所述罐腔，用以對所述罐腔抽真空；

脫氣機構，連接于所述罐腔，用以對所述罐腔脫氣；

控制機構，分別連接并控制所述第一輸送單元、所述澆注機構、所述混料單元、所述真空單元和所述脫氣單元。

2.根據權利要求1所述的真空澆注系統，其特征在于，所述澆注罐的罐門通過開關門機構可開閉地設置于所述澆注罐，用以封閉所述罐腔，所述開關門機構包含梁架，所述梁架沿水平方向或者豎直方向布置并設置有滑道；其中，所述罐門設置有滑動部，所述滑動部與所述滑道滑移配合。

3.根據權利要求2所述的真空澆注系統，其特征在于，所述罐門與所述梁架之間設置有第一驅動單元，所述第一驅動單元用以驅動所述罐門滑移；其中，所述控制機構連接并控制所述第一驅動單元。

4.根據權利要求2所述的真空澆注系統，其特征在于，所述梁架沿所述第二水平方向布置，以使所述罐門通過沿所述第二水平方向的滑移而實現開關。

5.根據權利要求1所述的真空澆注系統，其特征在于，所述澆注機構包含第一支架、第二支架以及澆注嘴，所述第一支架可升降地設置于所述罐腔內，所述第二支架可沿所述第二水平方向調節地連接于所述第一支架，所述澆注嘴設置于所述第二支架；其中，所述混料機構連接于所述澆注嘴。

6.根據權利要求5所述的真空澆注系統，其特征在于，所述第一支架與所述澆注罐之間設置有第二驅動單元，所述第二驅動單元用以驅動所述第一支架升降，所述控制機構連接并控制所述第二驅動單元；和/或，所述第二支架與所述第一支架之間設置有第三驅動單元，所述第三驅動單元用以驅動所述第二支架平移，所述控制機構連接并控制所述第三驅動單元。

7.根據權利要求6所述的真空澆注系統，其特征在于，所述第二驅動單元包含液壓缸，所述液壓缸的缸筒相對固定于所述澆注罐頂部，所述液壓缸的缸桿伸入所述罐腔并連接于所述第一支架。

8.根據權利要求7所述的真空澆注系統，其特征在于，所述缸桿包含第一桿、多根第二桿以及連接桿，所述第一桿可伸縮地連接于所述缸筒，所述多根第二桿頂端通過所述連接桿分別連接于所述第一桿底端，所述多根第二桿底端分別伸入所述罐腔并連接于所述第一支架。

9.根據權利要求7所述的真空澆注系統，其特征在于，所述澆注罐頂部設置有防護罩，所述防護罩罩設于所述液壓缸的外圍的至少一部分。

10.根據權利要求1所述的真空澆注系統，其特征在于，所述真空澆注系統還包含送料機構，所述送料機構設置于所述澆注罐的設置有罐門的一側，所述送料機構設置有第二輸送單元，所述第二輸送單元的設置高度與所述第一輸送單元的設置高度相同，所述控制機構連接并控制所述第二輸送單元。