[發(fā)明專利]顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110211636.0 | 申請日: | 2015-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN112859453A | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 余翊菱;卓暐清;朱夏青;黃鵬丞 | 申請(專利權)人: | 群創(chuàng)光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1339 | 分類號: | G02F1/1339;G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1343 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權代理有限責任公司 11240 | 代理人: | 劉彬 |
| 地址: | 中國*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 | ||
本發(fā)明公開一種顯示面板,其包括第一基板、掃描線、溝道層、數(shù)據(jù)線以及間隙子。掃描線位在第一基板上。溝道層位在第一基板上。數(shù)據(jù)線位在第一基板上且與掃描線交錯設置,數(shù)據(jù)線具有至少一個與掃描線重疊的一重疊區(qū)域。在重疊區(qū)域中,掃描線具有一第一內(nèi)凹部,第一內(nèi)凹部具有一弧形邊緣,且數(shù)據(jù)線具有一個與溝道層重疊的一第一區(qū)域及一個沒有與溝道層重疊的一第二區(qū)域。間隙子位于數(shù)據(jù)線上,間隙子部分對應在第一區(qū)域,及部分地對應在第二區(qū)域。
本申請是分案申請,其母案申請的申請?zhí)枮?015101304140,申請日為2015年3月24日,發(fā)明名稱為“顯示面板”。
技術領域
本發(fā)明涉及一種顯示面板,特別是涉及一種具有間隙子的顯示面板。
背景技術
目前常見的薄膜晶體管液晶顯示器(Thin film transistor liquid crystaldisplay,TFT-LCD)包括主動元件陣列基板、彩色濾光片及背光模塊。主動元件陣列基板是將薄膜晶體管設置于基板上,而薄膜晶體管用以控制子像素(sub-pixel)的電壓,藉此調(diào)節(jié)液晶分子偏轉(zhuǎn)角度,再透過偏光片進一步?jīng)Q定子像素的灰階。由背光元件或自發(fā)光元件所發(fā)出的光線透過子像素的灰階搭配上彩色濾光片,從而構成影像畫面。
由于觸控技術的改良,目前多以觸控取代習知的鼠標與鍵盤等控制裝置來操控顯示面板上的光標與圖式等,而當使用者使用顯示面板時,會觸碰顯示面板的表面,此時顯示面板的基板容易因受力而輕微地下壓。一般來說,顯示面板內(nèi)用以間格上下基板的間隙子也會隨著基板下壓而變型或偏移滑動,然而,間隙子的偏移容易造成液晶偏轉(zhuǎn)異常,從而導致顯示面板的影像顯示異常。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術問題在于,針對現(xiàn)有技術的不足提供一種顯示面板,其所形成的主動元件陣列層能改善間隙子因受力而偏移的情況。
為了解決上述的技術問題,本發(fā)明所采用的其中一技術方案是,提供一種顯示面板,其包括第一基板、掃描線、溝道層、數(shù)據(jù)線以及間隙子。掃描線位在第一基板上。溝道層位在第一基板上。數(shù)據(jù)線位在第一基板上且與所述掃描線交錯設置,所述數(shù)據(jù)線具有至少一個與所述掃描線重疊的一重疊區(qū)域。在重疊區(qū)域中,掃描線具有一第一內(nèi)凹部,第一內(nèi)凹部具有一弧形邊緣,且數(shù)據(jù)線具有一個與溝道層重疊的一第一區(qū)域及一個沒有與溝道層重疊的一第二區(qū)域。間隙子位于數(shù)據(jù)線上,間隙子部分對應在第一區(qū)域,及部分地對應在第二區(qū)域。
優(yōu)選地,溝道層為一金屬氧化物半導體層。
優(yōu)選地,顯示面板還包含一彩色濾光層及一第二基板,彩色濾光層配置于第二基板上,彩色濾光層包括一遮光層及多片各種顏色的彩色濾光片。
優(yōu)選地,間隙子重疊遮光層。
優(yōu)選地,顯示面板還包含一液晶層,液晶層配置于第一基板與第二基板之間。
優(yōu)選地,顯示面板還包含一配向膜,配向膜配置于第一基板與液晶層之間。
優(yōu)選地,顯示面板還包含一主動元件陣列層與一數(shù)據(jù)線驅(qū)動單元,主動元件陣列層配置于第一基板上,以形成一主動元件陣列基板,數(shù)據(jù)線驅(qū)動單元配置于主動元件陣列基板的其中一邊。
優(yōu)選地,顯示面板還包含一掃描線驅(qū)動單元,掃描線驅(qū)動單元配置于主動元件陣列基板的另外一邊。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的





