[發明專利]一種冷卻液添加裝置、冷卻器及半導體設備

在審

• 申請號: 202110209886.0
• 申請日: 2021-02-24
• 公開（公告）號: CN112984877A
• 公開（公告）日: 2021-06-18
• 發明（設計）人: 顏志軍;沈吉;荊泉;陳力鈞
• 申請（專利權）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號: F25B45/00
• 分類號: F25B45/00;F25B49/00;H01L21/67
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 曹廷廷

本發明提供了一種冷卻液添加裝置、冷卻器及半導體設備，所述冷卻液添加裝置包括儲液箱、控制器和加液管，所述加液管的進液與所述儲液箱相連，所述加液管的出液口用于與所述冷卻器的加液口相連；所述儲液箱用于存儲冷卻液；所述控制器用于在所述冷卻器內的液位低于預設閾值時，控制所述加液管將所述儲液箱內的冷卻液添加至所述冷卻器中。本發明提供的冷卻液添加裝置能夠使得冷卻器在不停機的情況下完成自動加液，既能夠保證所述冷卻器的溫度控制，避免冷卻器發生宕機風險，又能夠對所有同型號的冷卻器的加液過程進行系統化監測，并對加液過程中的加液信息進行分析，從而達到預測和排查設備漏液故障的目的，同時還能夠有效降低環境污染。

技術領域

本發明涉及半導體設備技術領域，尤其涉及一種冷卻液添加裝置、冷卻器及半導體設備。

背景技術

先進的半導體硅片代工廠都會使用干法刻蝕設備完成硅片的相應工藝。干法刻蝕過程中會使用大量的冷卻器(chiller)對工藝過程中溫度進行精確控制。而半導體設備所需的控溫部件(如ESC、chamber Wall和Lid等)通過冷卻器的供水管路和回水管路連接，管路內部采用循環冷卻液進行溫度交換控制，作為冷卻器控溫媒介的冷卻液(coolant)會隨著冷卻器的使用而被正常消耗。對此，工程師需要定期到現場檢查液位刻度線，如果發現有液位低的現象則需要人為的進行加液操作。工程師在查看到設備報警或是人為點檢過程中發現液位低時，需要佩戴好相應的防護用具，在冷卻器處于停機狀態下進行加液操作。

然而，僅通過人為點檢或設備報警進行判斷冷卻器內液位低的情況，難以及時發現并添加冷卻液；裝滿冷卻液的桶重25KG，至少需要兩人同時進行加液工作，既費時又費力；在人工加液過程中，冷卻液容易飛濺出來，難以完全避免所述冷卻液濺射到操作人員身體上的風險，并且冷卻液中的氟化物容易擴散至潔凈室內污染環境，使得潔凈室內TVOC數值升高。此外，在人工加液過程中由于加液量難以控制，還會影響設備的溫度控制，容易發生宕機風險，往往需要將冷卻器停機再進行加液；而如果冷卻器本身有漏液故障也難以及時發現，只能通過人工加液的次數和加液量，進行經驗性判斷，無法做到系統性管控。

因此，有必要發明一種冷卻液添加裝置，以實現冷卻器在不停機的情況下自動加液。

發明內容

本發明的目的在于提供一種冷卻液添加裝置、冷卻器及半導體設備，以解決現有技術中存在的人工加液的方式費時費力、難以及時發現冷卻器內少液的情況、需要設備停機才能進行加液以及易造成環境污染的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供一種冷卻液添加裝置，應用于冷卻器，所述冷卻液添加裝置包括儲液箱、控制器和加液管，所述加液管的進液口與所述儲液箱相連，所述加液管的出液口用于與所述冷卻器的加液口相連；

所述儲液箱用于存儲冷卻液；

所述控制器用于在所述冷卻器內的液位低于預設閾值時，控制所述加液管將所述儲液箱內的冷卻液添加至所述冷卻器中。

可選的，所述控制器根據預先存儲的加液頻率和加液量，控制所述加液管將所述儲液箱內的冷卻液添加至所述冷卻器中。

可選的，所述冷卻液添加裝置還包括設于所述加液管上的閥門，所述閥門與所述控制器相連，所述控制器用于控制所述閥門的打開與關閉，當所述閥門處于打開狀態時，通過所述加液管能夠將所述儲液箱內的冷卻液添加至所述冷卻器中。

可選的，所述控制器用于控制所述閥門的開啟角度以控制所述加液管將所述儲液箱內的冷卻液添加至所述冷卻器中的加液速率。

可選的，所述控制器與一服務器通信連接，所述控制器用于將獲取的加液信息發送至所述服務器。

可選的，所述加液信息包括加液頻率、加液時長、加液速率和加液量中的至少一個。

可選的，所述服務器用于獲取所有同型號的冷卻器的加液信息，并根據所獲取的加液信息，判斷所述冷卻器是否出現漏液故障。