[發明專利]光譜純石墨坩堝的再利用方法在審
| 申請號： | 202110209230.9 | 申請日： | 2021-02-24 |
| 公開（公告）號： | CN113025819A | 公開（公告）日： | 2021-06-25 |
| 發明（設計）人： | 馮兆龍;馮遠超;鄭幫智;唐新新 | 申請（專利權）人： | 成都先進金屬材料產業技術研究院股份有限公司 |
| 主分類號： | C22B4/06 | 分類號： | C22B4/06;C22B4/08;C22B9/04;C21C7/00 |
| 代理公司： | 成都虹橋專利事務所(普通合伙) 51124 | 代理人： | 張小麗 |
| 地址： | 610306 四川省成都市中國（四川）自由貿易試驗區成都市青白江區*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光譜 石墨 坩堝 再利用 方法 | ||
1.光譜純石墨坩堝的再利用方法，其特征在于：包括以下步驟：將除光譜純石墨坩堝和活性金屬以外的其他原料放入真空感應熔煉爐中，抽真空后電熔，熔清后充入氬氣，然后加入預處理后的光譜純石墨坩堝和活性金屬繼續熔煉得到鋼液，將鋼液澆鑄成錠，即可。
2.根據權利要求1所述的光譜純石墨坩堝的再利用方法，其特征在于：所述光譜純石墨坩堝為氣體分析、發射光譜、紅外吸收光譜或原子吸收光譜分析化學元素時所使用過的坩堝；優選的，所述光譜純石墨坩堝為熔融-紅外線吸收法分析化學元素時所使用過的坩堝。
3.根據權利要求1或2所述的光譜純石墨坩堝的再利用方法，其特征在于：所述預處理后的光譜純石墨坩堝是通過機械方法分離，得到不含殘留金屬的光譜純石墨坩堝。
4.根據權利要求1～3任一項所述的光譜純石墨坩堝的再利用方法，其特征在于：真空度小于10Pa。
5.根據權利要求1～4任一項所述的光譜純石墨坩堝的再利用方法，其特征在于：所述電熔為電感應加熱。
6.根據權利要求1～5任一項所述的光譜純石墨坩堝的再利用方法，其特征在于：所述熔清是指真空感應熔煉爐坩堝內無固體。
7.根據權利要求1～6任一項所述的光譜純石墨坩堝的再利用方法，其特征在于：所述活性金屬為金屬硅、金屬錳、金屬鋁、金屬鈦、金屬鎂、稀土中至少一種。
8.根據權利要求1～7任一項所述的光譜純石墨坩堝的再利用方法，其特征在于：所述氬氣純度大于99.9％。
9.根據權利要求1～8任一項所述的光譜純石墨坩堝的再利用方法，其特征在于：充氬氣至爐內0.3～0.6個大氣壓。
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