[發(fā)明專利]一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110208289.6 | 申請日: | 2021-02-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113061876B | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林懿 | 申請(專利權(quán))人: | 株洲瑞德爾智能裝備有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/46 | 分類號(hào): | C23C16/46;C23C16/26;C01B32/186 |
| 代理公司: | 太原九得專利代理事務(wù)所(普通合伙) 14117 | 代理人: | 高璇 |
| 地址: | 412007 湖南省株洲市天元區(qū)*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 cvd 法制 石墨 基底 金屬 薄片 加熱 裝置 | ||
1.一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置,包括底板(1)和頂板(2),其特征在于,所述頂板(2)平行設(shè)置在底板(1)的豎直上方,且頂板(2)的底側(cè)與底板(1)之間設(shè)置有支撐柱(3),所述底板(1)的頂側(cè)中部固定連接有中軸管(5),所述頂板(2)的板體開設(shè)有若干個(gè)呈發(fā)散式分布的滑孔,滑孔內(nèi)豎直穿過有滑桿(6),所述滑桿(6)的兩端分別固定連接有底部限位板(7)和頂部限位板(8),所述頂部限位板(8)的頂側(cè)固定連接有立柱(10),所述立柱(10)的頂端固定連接有支撐腳(11),所述支撐腳(11)開設(shè)有卡孔,卡孔內(nèi)卡設(shè)有卡柱(13),所述卡柱(13)的頂部延伸至支撐腳(11)的頂側(cè)并固定連接有限位側(cè)柱(12),所述中軸管(5)的管體外側(cè)開設(shè)有螺紋槽并螺紋套設(shè)有螺紋筒一(15),所述螺紋筒一(15)的頂端外側(cè)固定連接有齒環(huán)一(16),所述螺紋筒一(15)的底端外壁固定安裝有底環(huán)(17),所述螺紋筒一(15)的筒體外側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)套設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)(18),所述底部限位板(7)的底側(cè)與轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)(18)之間轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置有聯(lián)動(dòng)臂(19),所述齒環(huán)一(16)和底環(huán)(17)位于轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)(18)的兩側(cè)并分別與轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)(18)的兩端滑動(dòng)接觸連接,所述中軸管(5)的兩側(cè)筒體開設(shè)有側(cè)滑槽一,中軸管(5)的管體外側(cè)豎直滑動(dòng)連接有安全齒蓋一(20),安全齒蓋一(20)的底部嚙合套設(shè)在齒環(huán)一(16)的頂部外側(cè),安全齒蓋一(20)的兩側(cè)內(nèi)壁均固定連接有滑芯一(21),所述滑芯一(21)的一端延伸至側(cè)滑槽一內(nèi),所述底環(huán)(17)的豎直外側(cè)發(fā)散式固定連接有若干個(gè)手柄(22),所述安全齒蓋一(20)的豎直一側(cè)固定連接有側(cè)桿(23),所述側(cè)桿(23) 的一端外側(cè)滑動(dòng)套設(shè)有滑套(24),所述滑套(24)的一端內(nèi)壁以及側(cè)桿(23)的一端外側(cè)均固定連接有擋環(huán)(25),且擋環(huán)(25)之間設(shè)置有彈簧(26),所述中軸管(5)的頂部一側(cè)固定連接有卡座(35),所述滑套(24)的頂側(cè)固定連接有卡套(36),所述卡套(36)的一側(cè)開設(shè)有與卡座(35)相匹配的卡槽,所述頂板(2)的板體中部開設(shè)有圓孔,圓孔的頂部開口處內(nèi)壁開設(shè)有沿槽,沿槽內(nèi)放置有安裝蓋(28),所述安裝蓋(28)的蓋體和頂部限位板(8)的板體均開設(shè)有安裝孔并固定穿過有噴火槍(29),所述噴火槍(29)的一側(cè)設(shè)置有電控閥(31),所述中軸管(5)內(nèi)放置有儲(chǔ)氣罐(30),所述儲(chǔ)氣罐(30)的頂部連通有燃?xì)庵修D(zhuǎn)盒(32),所述噴火槍(29)的一端與燃?xì)庵修D(zhuǎn)盒(32)之間設(shè)置有連通管(33)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置,其特征在于,所述聯(lián)動(dòng)臂(19)的兩端分別與底部限位板(7)和轉(zhuǎn)動(dòng)環(huán)(18)轉(zhuǎn)動(dòng)鉸接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置,其特征在于,所述底部限位板(7)和頂部限位板(8)靠近頂板(2)的一側(cè)分別安裝有若干個(gè)滾輪(9)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置,其特征在于,所述限位側(cè)柱(12)的一側(cè)固定連接有橫柄(14),各個(gè)所述橫柄(14)分別位于各個(gè)所述限位側(cè)柱(12)相互遠(yuǎn)離的一側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置,其特征在于,所述底板(1)的底側(cè)固定連接有若干個(gè)螺紋底軸(37),所述螺紋底軸(37)的底端螺紋套設(shè)有螺紋筒二(38),所述螺紋筒二(38)的頂端外側(cè)固定連接有齒環(huán)二(39),所述螺紋底軸(37)的兩側(cè)開設(shè)有側(cè)滑槽二,螺紋底軸(37)的軸體外側(cè)滑動(dòng)套設(shè)有安全齒蓋二(40),安全齒蓋二(40)的內(nèi)壁固定連接有滑芯二(41),滑芯二(41)的一端滑動(dòng)連接在側(cè)滑槽二內(nèi),螺紋筒二(38)的底部安裝有鎖止萬向輪(4)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置,其特征在于,所述滑孔靠近圓孔的一端兩側(cè)內(nèi)壁固定連接有安全擋板(34)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置,其特征在于,所述底部限位板(7)的一側(cè)固定連接有卡箍(42),且噴火槍(29)的底部卡設(shè)在卡箍(42)內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種CVD法制備石墨烯用基底金屬薄片加熱裝置,其特征在于,所述滑套(24)的一端外壁固定連接有拉柄(27)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





