[發明專利]自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法與應用在審
| 申請號： | 202110208117.9 | 申請日： | 2021-02-25 |
| 公開（公告）號： | CN112999889A | 公開（公告）日： | 2021-06-22 |
| 發明（設計）人： | 陳桂娥;謝煥銀;陳鎮;李怡靜;張浩然;馬文霄;韓曉楊;許振良 | 申請（專利權）人： | 上海應用技術大學 |
| 主分類號： | B01D69/14 | 分類號： | B01D69/14;B01D67/00;B01D69/02;B01D69/06;C02F1/44;C02F1/30;B01J23/66;B01J35/00;C02F101/22 |
| 代理公司： | 上?？剖⒅R產權代理有限公司 31225 | 代理人： | 陳天寶 |
| 地址： | 201418 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 粘貼 制備 光催化 性能 pmia 混合 基質 方法 應用 | ||
1.一種自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法，其特征在于，該方法包括：將水熱合成的具有光催化性能的ZnO-Ag-TiO2納米復合材料的水溶液作為PMIA膜進行非溶劑致相分離的凝膠浴，在非溶劑致相分離過程中與PMIA膜自粘貼，實現納米顆粒在膜表面的固定，以此得到光催化性能PMIA混合基質膜。
2.根據權利要求1所述的自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法，其特征在于，所述自粘貼的過程為：將鑄膜液刮涂后立即浸入ZnO-Ag-TiO2的凝膠浴中，實現光催化劑的自粘貼。
3.根據權利要求2所述的自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法，其特征在于，所述鑄膜液的制備方法包括：將助溶劑及PMIA加入至N,N-二甲基乙酰胺中并攪拌均勻，靜置脫泡后得到所述鑄膜液。
4.根據權利要求3所述的自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法，其特征在于，所述鑄膜液中助溶劑含量為4.5g/L，PMIA的含量為12～20g/L。
5.根據權利要求3所述的自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法，其特征在于，所述助溶劑為LiCl；
鑄膜液攪拌過程中，攪拌溫度為50～100℃，攪拌時間為8～18h。
6.根據權利要求1所述的自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法，其特征在于，所述凝膠浴中ZnO-Ag-TiO2納米材料的濃度為0.2～1.8g/L。
7.根據權利要求3所述的自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法，其特征在于，所述非溶劑致相分離法包括：將鑄膜液刮涂于基板上，并置于ZnO-Ag-TiO2水溶液凝膠浴中進行分相，在相分離過程中，ZnO-Ag-TiO2自粘貼到膜表面，得到光催化性能的PMIA膜。
8.根據權利要求7所述的自粘貼制備光催化性能PMIA混合基質膜的方法，其特征在于，鑄膜液刮涂厚度為100～250μm；
所述凝膠浴的溫度為25℃。
9.一種光催化性能PMIA混合基質膜，其特征在于，采用如權利要求1至8任一項所述的方法制備而成。
10.一種如權利要求9所述的PMIA混合基質膜在催化降解染料廢水中的應用。
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